一种针对结构光场衍射相位的实时检测方法

    公开(公告)号:CN105675150A

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201610027761.5

    申请日:2016-01-15

    CPC classification number: G01J9/02 G01J1/42 G01J2001/4242 G01J2009/0265

    Abstract: 本发明公开了一种针对结构光场衍射相位的实时检测方法,包括:利用集成有像素偏振片阵列的相机采集通过预设光路输出的参考光光束与空间光调制器调整生成的结构光光束干涉产生的条纹图;其中,所述像素偏振片阵列中每个偏振片单元的尺寸与相机中感光元件的像素尺寸一致且一一对准;将结构光与参考光干涉产生的条纹图根据偏振片单元的偏振方向提取出四幅偏振方向不同的条纹图来计算结构光场的衍射相位。本发明公开的方法,实现了结构光场的光强和相位信息实时测量,使得用户能够深入了解结构光场的物理特性,对于结构光场在光镊,激光微加工,以及光学信号传播领域有很大的推动作用。

    Interferometric dimensional measurement and defect detection method
    8.
    发明授权
    Interferometric dimensional measurement and defect detection method 失效
    干涉测量和缺陷检测方法

    公开(公告)号:US4844616A

    公开(公告)日:1989-07-04

    申请号:US200262

    申请日:1988-05-31

    Abstract: The invention is a method for detecting both surface topography and defect presence using an AC interferometer. Surface topography measurements are maximized by adjusting the signal voltage of the light modulator to a relative phase-sensitive value. Defect detection is maximized by adjusting the signal voltage of the light modulator to a relatively phase-insensitive value. This method not only allows for heretofore unknown defect detection by an AC interferometer but, because the signal voltage can be switched electronically, permits both observations to be taken at a high speed and for many points of a specimen, thereby making the method suitable for the manufacturing environment. More specifically, the method would be applicable to both optical disk and microchip manufacturing.

    Abstract translation: 本发明是使用AC干涉仪检测表面形貌和缺陷存在的方法。 通过将光调制器的信号电压调整到相对相敏值来最大化表面形貌测量。 通过将光调制器的信号电压调整到相对不敏感的值来最大化缺陷检测。 该方法不仅能够通过AC干涉仪进行未知的未知缺陷检测,而且由于可以电子地切换信号电压,因此允许以高速度和样本的多个点进行观察,从而使该方法适合于 制造环境。 更具体地,该方法将适用于光盘和微芯片制造。

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