中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

64 records (took 0.014 seconds)

    双相清洁室以及包括双相清洁室的组件
    3.
    发明公开
    双相清洁室以及包括双相清洁室的组件 有权

    公开(公告)号：CN103748971A

    公开(公告)日：2014-04-23

    申请号：CN201280035797.8

    申请日：2012-07-13

    Applicant: 朗姆研究公司

    Inventor： 阿尔曼·阿沃杨 ,  克利夫·拉克鲁瓦 ,  石洪

    IPC: H05H1/34 ,  H01L21/3065 ,  C23C16/505

    CPC classification number: H01J37/32862 ,  B08B3/00 ,  B08B3/02 ,  H01J21/00 ,  H01J37/32532 ,  H01L21/00

    Abstract: 在一实施方式中，双相清洁室可包括湍流混合室、流体扩散器、等静压室和破裂减轻喷嘴。所述湍流混合室可与第一流体入口和第二流体入口流体连通。所述流体扩散器可与所述湍流混合室流体连通。所述破裂减轻喷嘴可包括第一流体收集支管、第二流体收集支管和位移阻尼突起部。所述位移阻尼突起部可设置在所述第一流体收集支管和所述第二流体收集支管之间且可自所述第一流体收集支管和所述第二流体收集支管中的每一个偏移，且朝向所述流体扩散器。从所述第一流体入口、所述第二流体入口、或者从该二者引入的加压清洁流体流过所述第一流体收集支管和所述第二流体收集支管的所述出口通道。

    双相清洁室以及包括双相清洁室的组件
    4.
    发明授权
    双相清洁室以及包括双相清洁室的组件 有权

    公开(公告)号：CN103748971B

    公开(公告)日：2016-10-12

    申请号：CN201280035797.8

    申请日：2012-07-13

    Applicant: 朗姆研究公司

    Inventor： 阿尔曼·阿沃杨 ,  克利夫·拉克鲁瓦 ,  石洪

    IPC: H05H1/34 ,  H01L21/3065 ,  C23C16/505

    CPC classification number: H01J37/32862 ,  B08B3/00 ,  B08B3/02 ,  H01J21/00 ,  H01J37/32532 ,  H01L21/00

    Abstract: 在一实施方式中，双相清洁室可包括湍流混合室、流体扩散器、等静压室和破裂减轻喷嘴。所述湍流混合室可与第一流体入口和第二流体入口流体连通。所述流体扩散器可与所述湍流混合室流体连通。所述破裂减轻喷嘴可包括第一流体收集支管、第二流体收集支管和位移阻尼突起部。所述位移阻尼突起部可设置在所述第一流体收集支管和所述第二流体收集支管之间且可自所述第一流体收集支管和所述第二流体收集支管中的每一个偏移，且朝向所述流体扩散器。从所述第一流体入口、所述第二流体入口、或者从该二者引入的加压清洁流体流过所述第一流体收集支管和所述第二流体收集支管的所述出口通道。

    一种应用于等离子体设备的腔室结构及等离子体设备
    5.
    发明公开
    一种应用于等离子体设备的腔室结构及等离子体设备 无效

    公开(公告)号：CN104505326A

    公开(公告)日：2015-04-08

    申请号：CN201410797353.9

    申请日：2014-12-19

    Applicant: 中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心

    Inventor： 张庆钊

    IPC: H01J37/32 ,  H01L21/00 ,  H01L21/3065

    CPC classification number: H01J37/32458 ,  H01J21/00 ,  H01J37/32431 ,  H01J37/32623 ,  H01L21/3065

    Abstract: 本发明公开了一种应用于等离子体设备的腔室结构及等离子设备，包括射频线圈、石英耦合窗、腔体、衬底、下电极、等离子聚焦结构和磁性件，所述射频线圈设置在所述石英耦合窗的上部，所述石英耦合窗设置在所述腔体的上部，所述衬底设置在所述下电极的上部，所述衬底和所述下电极设置在所述腔体的下部，所述等离子聚焦结构设置在所述腔体的内部，且设置在所述腔体中设置的等离子体的下部，用于控制所述等离子体的流体分布，所述磁性件与所述等离子聚焦结构连接，且为中空结构，用于施加磁场。本申请实施例通过提供一种应用于等离子体设备的腔室结构及等离子体设备，能够控制等离子体的流体分布，使得等离子体与产品的表面反应更充分。

    DUAL PHASE CLEANING CHAMBERS AND ASSEMBLIES COMPRISING THE SAME
    6.
    发明申请
    DUAL PHASE CLEANING CHAMBERS AND ASSEMBLIES COMPRISING THE SAME 审中-公开
    双相清洗器和包括该相机的组件

    公开(公告)号：WO2013012693A1

    公开(公告)日：2013-01-24

    申请号：PCT/US2012/046579

    申请日：2012-07-13

    Applicant: LAM RESEARCH CORPORATION ,  AVOYAN, Armen ,  LA CROIX, Cliff ,  SHIH, Hong

    Inventor： AVOYAN, Armen ,  LA CROIX, Cliff ,  SHIH, Hong

    IPC: H05H1/34 ,  H01L21/3065 ,  C23C16/505

    CPC classification number: H01J37/32862 ,  B08B3/00 ,  B08B3/02 ,  H01J21/00 ,  H01J37/32532 ,  H01L21/00

    Abstract: In one embodiment, a dual phase cleaning chamber may include a turbulent mixing chamber, a fluid diffuser, an isostatic pressure chamber and a rupture mitigating nozzle. The turbulent mixing chamber may be in fluid communication with a first fluid inlet and a second fluid inlet. The fluid diffuser may be in fluid communication with the turbulent mixing chamber. The rupture mitigating nozzle may include a first fluid collecting offset, a second fluid collecting offset, and a displacement damping projection. The displacement damping projection may be disposed between the first and second fluid collecting offset and may be offset away from each of the first fluid collecting offset and the second fluid collecting offset, and towards the fluid diffuser. A pressurized cleaning fluid introduced from the first fluid inlet, the second fluid inlet, or both flows through the outlet passage of the first and second fluid collecting offset.

    Abstract translation: 在一个实施例中，双相清洗室可以包括湍流混合室，流体扩散器，等静压压力室和破裂缓冲喷嘴。 湍流混合室可以与第一流体入口和第二流体入口流体连通。 流体扩散器可以与湍流混合室流体连通。 破裂缓冲喷嘴可以包括第一流体收集偏移，第二流体收集偏移和位移阻尼突起。 位移阻尼突起可以设置在第一和第二流体收集偏移之间，并且可以偏离第一流体收集偏移和第二流体收集偏移中的每一个并且朝向流体扩散器偏移。 从第一流体入口，第二流体入口或二者引入的加压清洁流体流过第一和第二流体收集偏移的出口通道。

    真空管およびその製造装置と真空管の製造方法
    7.
    发明申请
    真空管およびその製造装置と真空管の製造方法 审中-公开
    真空管和装置以及制造真空管的方法

    公开(公告)号：WO2005096336A1

    公开(公告)日：2005-10-13

    申请号：PCT/JP2005/006258

    申请日：2005-03-31

    Applicant: 大見 忠弘 ,  森本 明大

    Inventor： 大見 忠弘 ,  森本 明大

    IPC: H01J7/02

    CPC classification number: H01J9/395 ,  H01J7/02 ,  H01J9/38 ,  H01J9/385 ,  H01J17/20 ,  H01J21/00 ,  H01J37/18 ,  H01J61/20 ,  H01J61/24

    Abstract: 　放電ガスを封入した減圧容器を有する真空管では、減圧容器内に残留する有機物、水分、及び、酸素によって放電効率が低下する等の問題が生じる点について、従来無関心であった。 　減圧容器内に残留する水分子数、有機物ガス分子数、及び、酸素分子数を放電に寄与するガスの分子数と関連して選択することによって、残留ガスによる悪影響を軽減できる。具体的には、放電用ガス分子数を残留ガスの分子数よりも１０倍程度以上多くすることによって、残留ガスによる悪影響を軽減できる。

    Abstract translation: 对于具有密封在其中的放电气体的减压容器的真空管，常规地发生诸如由于有机材料引起的排出效率降低，残留在减压容器中的水分或氧气的问题。 现在已经发现，选择水分子的数量，有机气体的分子数和残留在减压容器中的氧分子的数量与导致电的气体的分子数的关系 放电允许通过上述剩余气体减少不利影响。 具体而言，选择上述放电气体的分子数为上述剩余气体的10倍以上的分子数量，可以减少上述剩余气体的不利影响。

    SELECTABLE FREQUENCY LIGHT EMITTER
    8.
    发明申请
    SELECTABLE FREQUENCY LIGHT EMITTER 审中-公开
    可选频率发光

    公开(公告)号：WO2007081391A2

    公开(公告)日：2007-07-19

    申请号：PCT/US2006022690

    申请日：2006-06-09

    Applicant: VIRGIN ISLANDS MICROSYSTEMS

    Inventor： GORRELL JONATHAN ,  DAVIDSON MARK ,  MAINES MICHAEL E

    IPC: G21G4/00

    CPC classification number: H01J21/00 ,  H01J25/00 ,  H01S3/0903

    Abstract: We describe an ultra-small resonant structure that produces electromagnetic radiation (e.g., visible light) at selected frequencies. The resonant structure can be produced from any conducting material (e.g., metal such as silver or gold). In one example, a number of rows of posts are etched or plated on a substrate, with each row having a particular geometry associated with the posts and cavities between the posts. A charged particle beam is selectively directed close by one of the rows of posts, causing them to resonate and produce radiation (e.g., in the visible spectrum at a predominant frequency). Directing the charged particle beam at a different row yields radiation at a different predominant frequency.

    Abstract translation: 我们描述了在选定频率下产生电磁辐射（例如可见光）的超小型谐振结构。 共振结构可以由任何导电材料（例如，诸如银或金的金属）制成。 在一个示例中，在衬底上蚀刻或镀覆多排柱，每排具有与柱之间的柱和空腔相关联的特定几何形状。 带电粒子束被选择性地指向柱中的一排附近，使得它们共振并产生辐射（例如，在主要频率的可见光谱中）。 引导不同行的带电粒子束产生不同主要频率的辐射。

Patent Agency Ranking