公开(公告)号：CN1361547A

公开(公告)日：2002-07-31

申请号：CN01144608.0

申请日：2001-12-20

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 津本高政 ,  仓田洋行 ,  中川广秋 ,  藤田稔

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/14

CPC classification number: G03F1/64 ,  Y10T428/24959 ,  Y10T428/24983

Abstract: 本发明提供一种薄膜,其在将薄膜安装于掩模时,不会损伤掩模,并且不仅在掩模和薄膜被膜的平面保持在水平方向时,在保持垂直方向时也可以保持掩模的平面性(平直度)。由薄膜被膜,支持薄膜被膜的薄膜框架和将薄膜安装在掩模上的树脂层形成的薄膜,其特征在于,该树脂层是由硬质树脂形成的层和软质树脂形成的层组合而形成的。

公开(公告)号：CN1198316C

公开(公告)日：2005-04-20

申请号：CN01144608.0

申请日：2001-12-20

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 津本高政 ,  仓田洋行 ,  中川广秋 ,  藤田稔

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/14

CPC classification number: G03F1/64 ,  Y10T428/24959 ,  Y10T428/24983

Abstract: 本发明提供一种薄膜，其在将薄膜安装于掩模时，不会损伤掩模，并且不仅在掩模和薄膜被膜的平面保持在水平方向时，在保持垂直方向时也可以保持掩模的平面性(平直度)。由薄膜被膜，支持薄膜被膜的薄膜框架和将薄膜安装在掩模上的树脂层形成的薄膜，其特征在于，该树脂层是由硬度在170gf以上的硬质树脂层和硬度在100gf以下的软质树脂层组合而形成的。

公开(公告)号：CN1862378A

公开(公告)日：2006-11-15

申请号：CN200610080144.8

申请日：2006-05-09

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 春林克明 ,  藤田稔 ,  近藤正浩 ,  才本芳久

IPC: G03F1/14 ,  C09J9/00

CPC classification number: G03F1/62

Abstract: 本发明提供一种膜，其中在聚乙烯对苯二酸酯薄膜粘附到膜的掩模粘附表面后，在23℃下沿180度的方向剥离厚度为125μm非表面处理聚乙烯对苯二酸酯薄膜时，剥离强度为大约0.004N/mm～0.10N/mm。