公开(公告)号：CN1361547A

公开(公告)日：2002-07-31

申请号：CN01144608.0

申请日：2001-12-20

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 津本高政 ,  仓田洋行 ,  中川广秋 ,  藤田稔

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/14

CPC classification number: G03F1/64 ,  Y10T428/24959 ,  Y10T428/24983

Abstract: 本发明提供一种薄膜,其在将薄膜安装于掩模时,不会损伤掩模,并且不仅在掩模和薄膜被膜的平面保持在水平方向时,在保持垂直方向时也可以保持掩模的平面性(平直度)。由薄膜被膜,支持薄膜被膜的薄膜框架和将薄膜安装在掩模上的树脂层形成的薄膜,其特征在于,该树脂层是由硬质树脂形成的层和软质树脂形成的层组合而形成的。

公开(公告)号：CN1198316C

公开(公告)日：2005-04-20

申请号：CN01144608.0

申请日：2001-12-20

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 津本高政 ,  仓田洋行 ,  中川广秋 ,  藤田稔

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/14

CPC classification number: G03F1/64 ,  Y10T428/24959 ,  Y10T428/24983

Abstract: 本发明提供一种薄膜，其在将薄膜安装于掩模时，不会损伤掩模，并且不仅在掩模和薄膜被膜的平面保持在水平方向时，在保持垂直方向时也可以保持掩模的平面性(平直度)。由薄膜被膜，支持薄膜被膜的薄膜框架和将薄膜安装在掩模上的树脂层形成的薄膜，其特征在于，该树脂层是由硬度在170gf以上的硬质树脂层和硬度在100gf以下的软质树脂层组合而形成的。

公开(公告)号：CN1237395C

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN01144607.2

申请日：2001-12-20

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 仓田洋行 ,  松冈英登

IPC: G03F1/14

CPC classification number: G03F1/64 ,  C09J4/00 ,  C09J4/06 ,  Y10T428/2852 ,  Y10T428/2878 ,  Y10T428/31645 ,  Y10T428/31649 ,  C08F220/22 ,  C08F259/08

Abstract: 本发明是为了提供对于短波长的紫外线具有充分耐光性，且具有粘接时不需加热的粘接层的薄膜，薄膜的制造方法和薄膜用粘合剂。本发明的薄膜是具备由氟类聚合物形成的薄膜被膜和支持该薄膜被膜的薄膜框架的薄膜，前述薄膜被膜是通过含有氟类聚合物和紫外线硬化型氟类单体的粘接层粘接于薄膜框架的。

公开(公告)号：CN1361449A

公开(公告)日：2002-07-31

申请号：CN01144607.2

申请日：2001-12-20

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 仓田洋行 ,  松冈英登

IPC: G03F1/14

CPC classification number: G03F1/64 ,  C09J4/00 ,  C09J4/06 ,  Y10T428/2852 ,  Y10T428/2878 ,  Y10T428/31645 ,  Y10T428/31649 ,  C08F220/22 ,  C08F259/08

Abstract: 本发明是为了提供对于短波长的紫外线具有充分耐光性,且具有粘接时不需加热的粘接层的薄膜,薄膜的制造方法和薄膜用粘合剂。本发明的薄膜是具备由氟类聚合物形成的薄膜被膜和支持该薄膜被膜的薄膜框架的薄膜,前述薄膜被膜是通过含有氟类聚合物和紫外线硬化型氟类单体的粘接层粘接于薄膜框架的。