铜箔及其制造方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1938456B

    公开(公告)日:2010-09-15

    申请号:CN200580010613.2

    申请日:2005-03-31

    Abstract: 其目的是提供一种即使铜箔粗化面的粗糙度Rz低、粘合强度也高的铜箔及其制造方法。为了实现该目的,采用这样的铜箔,基于将铜箔试样S的粗糙面的表面积用激光显微镜进行3维测定得到的3维表面积A(S)及该3维表面积A(S)测定区域的面积、即测定区域面积B(S),而以A(S)/B(S)规定的面积系数C(S),和用触针式粗糙度计测定的上述铜箔式样S的粗化面的粗糙度Rz(S),具有下式(1)的关系,且上述粗糙度Rz(S)为1.0μm~3.0μmn。0.5×Rz(S)+0.5≦C(S) (1)(式中,Rz(S)是单位为μm的数值)。

    铜箔及其制造方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1938456A

    公开(公告)日:2007-03-28

    申请号:CN200580010613.2

    申请日:2005-03-31

    Abstract: 其目的是提供一种即使铜箔粗化面的粗糙度Rz低、粘合强度也高的铜箔及其制造方法。为了实现该目的,采用这样的铜箔,基于将铜箔试样S的粗糙面的表面积用激光显微镜进行3维测定得到的3维表面积A(S)及该3维表面积A(S)测定区域的面积、即测定区域面积B(S),而以A(S)/B(S)规定的面积系数C(S),和用触针式粗糙度计测定的上述铜箔式样S的粗化面的粗糙度Rz(S),具有下式(1)的关系,且上述粗糙度Rz(S)为1.0μm~3.0μmn。0.5×Rz(S)+0.5≤C(S) (1)(式中,Rz(S)是单位为μm的数值)。

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