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公开(公告)号：CN1313623C
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN03131473.2
申请日：2003-05-15
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: B82Y30/00 , B01J19/0046 , B01J2219/00274 , B01J2219/00432 , B01J2219/00585 , B01J2219/00596 , B01J2219/00605 , B01J2219/0061 , B01J2219/00612 , B01J2219/00619 , B01J2219/00626 , B01J2219/00637 , B01J2219/00659 , B01J2219/00722 , B01J2219/00725 , B01J2219/00731 , B01L3/5088 , B01L2200/12 , C07B2200/11 , C40B40/06 , C40B40/10 , C40B40/12 , C40B60/14
Abstract: 一种制备生物分子芯片平板的方法和一种使用该芯片平板制备生物芯片的方法。芯片平板制备方法包括(a)用疏水材料涂覆载体表面形成疏水层；(b)通过放在疏水层上面的蚀刻掩膜，蚀刻疏水层，形成亲水结合位点；(c)移去剩余的蚀刻掩膜；和(d)处理其它疏水层区，恢复最初的疏水特性。生物芯片制备方法包括处理上述方法制备的芯片平板亲水结合位点表面，将包含生物分子的溶液涂布到亲水结合位点表面。
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公开(公告)号：CN1171982A
公开(公告)日：1998-02-04
申请号：CN97104571.2
申请日：1997-03-28
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: C01B33/26 , B01J21/12 , B01J37/036
Abstract: 本发明提供一种制备多孔复合氧化物的方法。该方法包括下述步骤:(a)缓慢混合一种包括一种硅氧化物源的溶液和一种包括一种铝氧化物源的溶液;(b)将盐酸加入所述步骤(a)制备的混合溶液中以得到一种溶胶;和(c)向所述溶胶中加入氢氧化钠,将得到的生成物在室温下反应30分钟至12小时,并干燥生成物。多孔复合氧化物具有大量细孔并且其孔径分布相对均匀,因此,本发明的多孔复合氧化物适于作载体。
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公开(公告)号：CN101222020A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200810009514.8
申请日：2008-01-02
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L27/2436 , C25D3/56 , C25D5/50 , C25D7/12 , C25D9/08 , H01L45/06 , H01L45/1233 , H01L45/144 , H01L45/1608 , H01L45/1641 , H01L45/1683
Abstract: 本发明提供了一种形成相变层的方法，一种采用形成相变层的方法制造存储节点的方法，以及一种采用制造存储节点的方法来制造相变存储器件的方法。形成相变层的方法可以采用电化学沉积(ECD)方法。形成相变层的方法可以包括：通过混合溶剂和前驱体形成电解液，每个前驱体包括相变层的元素；将阳极板和阴极板浸在电解液中以相互隔离，其中阴极板可以为将在其上沉积相变层的衬底；设定相变层的沉积条件；以及在阳极板和阴极板之间供应电压。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1074303C
公开(公告)日：2001-11-07
申请号：CN97103418.4
申请日：1997-02-28
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: B01J21/12 , B01J37/036
Abstract: 本发明提供一种制造多孔复合氧化物的方法。该方法包含以下步骤：(a)制备含有氧化硅源的溶液和含有氧化铝源的溶液；(b)将步骤(a)中的一种溶液慢慢倒入另一溶液中，同时搅拌；(c)在步骤(b)制备的混合溶液中加入盐酸得到溶胶，接着向溶胶中加入氢氧化钠得到凝胶；(d)使在凝胶中的氧化硅源和氧化铝源在高温度压下反应。这种多孔复合氧化物具有大量微孔，而且孔径分布相对均匀，适于用作载体。
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公开(公告)号：CN1970300A
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：CN200610105417.X
申请日：2006-07-06
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供了一种在喷墨打印头的喷嘴板表面上形成疏水性涂层的方法。根据所述方法，在所述喷嘴板内形成多个喷嘴，并在所述喷嘴板的表面上叠置膜，以覆盖每一喷嘴的出口。之后，采用电镀法，在每一喷嘴的内壁上以及覆盖每一喷嘴的膜的内表面上形成预定金属层。接下来，从喷嘴板的表面去除所述膜，并在所述喷嘴板的表面上形成疏水性涂层，以覆盖通过每一喷嘴的出口暴露的金属层。之后，去除在每一喷嘴的内壁上形成的金属层和在所述金属层的表面上形成的疏水性涂层。
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公开(公告)号：CN1460723A
公开(公告)日：2003-12-10
申请号：CN03131473.2
申请日：2003-05-15
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: B82Y30/00 , B01J19/0046 , B01J2219/00274 , B01J2219/00432 , B01J2219/00585 , B01J2219/00596 , B01J2219/00605 , B01J2219/0061 , B01J2219/00612 , B01J2219/00619 , B01J2219/00626 , B01J2219/00637 , B01J2219/00659 , B01J2219/00722 , B01J2219/00725 , B01J2219/00731 , B01L3/5088 , B01L2200/12 , C07B2200/11 , C40B40/06 , C40B40/10 , C40B40/12 , C40B60/14
Abstract: 一种制备生物分子芯片平板的方法和一种使用该芯片平板制备生物芯片的方法。芯片平板制备方法包括(a)用疏水材料涂覆载体表面形成疏水层；(b)通过放在疏水层上面的蚀刻掩膜，蚀刻疏水层，形成亲水结合位点；(c)移去剩余的蚀刻掩膜；和(d)处理其它疏水层区，恢复最初的疏水特性。生物芯片制备方法包括处理上述方法制备的芯片平板亲水结合位点表面，将包含生物分子的溶液涂布到亲水结合位点表面。
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公开(公告)号：CN1075960C
公开(公告)日：2001-12-12
申请号：CN97104571.2
申请日：1997-03-28
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: C01B33/26 , B01J21/12 , B01J37/036
Abstract: 本发明提供一种制备多孔复合氧化物的方法。该方法包括下述步骤：(a)缓慢混合一种包括一种硅氧化物源的溶液和一种包括一种铝氧化物源的溶液；(b)将盐酸加入所述步骤(a)制备的混合溶液中以得到一种溶胶；和(c)向所述溶胶中加入氢氧化钠，将得到的生成物在室温下反应30分钟至12小时，并干燥生成物。多孔复合氧化物具有大量细孔并且其孔径分布相对均匀，因此，本发明的多孔复合氧化物适于作载体。
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公开(公告)号：CN1171295A
公开(公告)日：1998-01-28
申请号：CN97103418.4
申请日：1997-02-28
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: B01J21/12 , B01J37/036
Abstract: 本发明提供一种制造多孔复合氧化物的方法。该方法包含以下步骤:(a)制备含有氧化硅源的溶液和含有氧化铝源的溶液;(b)将步骤(a)中的一种溶液慢慢倒入另一溶液中,同时搅拌;(c)在步骤(b)制备的混合溶液中加入盐酸得到溶胶,接着向溶胶中加入氢氧化钠得到凝胶;(d)使在凝胶中的氧化硅源和氧化铝源在高温度压下反应。这种多孔复合氧化物具有大量微孔,而且孔径分布相对均匀,适于用作载体。
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