公开(公告)号：CN106663626B

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201580044038.1

申请日：2015-09-07

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 菊池亚纪应 ,  涉仁纪 ,  龟田贤治 ,  桧山真 ,  坪田康寿

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/302 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明抑制在使用含有七氟化碘的蚀刻气体进行蚀刻时的不良情况。提供一种附着物的去除方法，其中使用含有含氟气体的清洁气体去除附着于构成腔室的部件或与所述腔室连接的配管的表面的含有碘氧化物的附着物。此外，提供一种干式蚀刻方法，其包括：向腔室内供给含有含碘气体的蚀刻气体而对基板表面进行蚀刻的工序，以及在对所述基板表面进行蚀刻后，使用含有含氟气体的清洁气体去除附着于构成腔室的部件或与所述腔室连接的配管的表面的含有碘氧化物的附着物的工序。

公开(公告)号：CN106663626A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201580044038.1

申请日：2015-09-07

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 菊池亚纪应 ,  涉仁纪 ,  龟田贤治 ,  桧山真 ,  坪田康寿

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/302 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明抑制在使用含有七氟化碘的蚀刻气体进行蚀刻时的不良情况。提供一种附着物的去除方法，其中使用含有含氟气体的清洁气体去除附着于构成腔室的部件或与所述腔室连接的配管的表面的含有碘氧化物的附着物。此外，提供一种干式蚀刻方法，其包括：向腔室内供给含有含碘气体的蚀刻气体而对基板表面进行蚀刻的工序，以及在对所述基板表面进行蚀刻后，使用含有含氟气体的清洁气体去除附着于构成腔室的部件或与所述腔室连接的配管的表面的含有碘氧化物的附着物的工序。