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公开(公告)号：CN105785660A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201610340993.6
申请日：2014-01-23
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 佐藤伸吾
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/1303
Abstract: 提供一种光取向用偏振光照射装置，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。
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公开(公告)号：CN118412267A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202311540226.6
申请日：2023-11-17
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 本发明提供一种紫外光照射装置，能够提高反馈控制性能。紫外光照射装置具备：长条状的准分子灯，具有朝向照射对象物出射紫外光的光出射面；光量传感器，配置于准分子灯的周围，并检测紫外光；及第一反射构件，配置于准分子灯的周围，并与光出射面的长度方向的一部分相对，从光出射面出射的紫外光在第一反射构件反射而入射到光量传感器。
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公开(公告)号：CN105785661A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201610341961.8
申请日：2014-01-23
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 佐藤伸吾
IPC: G02F1/1337 , G02F1/13
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/1303
Abstract: 提供一种光取向用偏振光照射方法，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。
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公开(公告)号：CN105785613A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201610341924.7
申请日：2014-01-23
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 佐藤伸吾
IPC: G02F1/13 , G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/1303
Abstract: 提供一种光取向用偏振光照射装置，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。
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公开(公告)号：CN117103738A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202310370573.2
申请日：2023-04-10
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供光处理装置及光处理方法，其具有较高的处理能力，能够进行均质的表面改质。光处理装置具备：至少一个光源，其照射属于205nm以下的波段的紫外光；灯室，其覆盖所述至少一个光源，在所述紫外光所出射的方向上具有开口；输送体，其与所述灯室之间隔开间隙，并且将被处理材料以横穿与所述开口对置的位置的方式向一方向输送；加热器，其配置于所述灯室的下游，使所述输送体升温；以及控制部，其控制为一边向所述被处理材料照射所述紫外光一边输送所述被处理材料；所述控制部控制所述加热器而使所述输送体升温，以抑制通过所述至少一个光源进行了升温后的所述输送体的温度降低。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103728784A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201410032760.0
申请日：2014-01-23
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 佐藤伸吾
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/1303
Abstract: 提供一种光取向用偏振光照射装置和光取向用偏振光照射方法，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。
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公开(公告)号：CN103728784B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201410032760.0
申请日：2014-01-23
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 佐藤伸吾
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/1303
Abstract: 提供一种光取向用偏振光照射装置和光取向用偏振光照射方法，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。
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公开(公告)号：CN105807499A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201610341906.9
申请日：2014-01-23
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 佐藤伸吾
IPC: G02F1/1337 , G02F1/13
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/1303
Abstract: 提供一种光取向用偏振光照射装置，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。
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公开(公告)号：CN102213867B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201110073302.8
申请日：2011-03-25
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: G02F1/1337
Abstract: 本发明提供一种能够进行被处理对象物的光照射面内紫外线照度的面内均匀性高，而且被处理对象物的温度上升少、被处理对象物的光照射面内温度的面内均匀性高的紫外线照射处理的紫外线照射装置。该紫外线照射装置在包含光反应性物质的液晶面板的制造工序中使用，具备由多个光源元件与作为被处理对象物的液晶面板材料相对地并列排列构成的光源单元、以及向上述光源元件的每一个中的外套管的内部供给冷却风的冷却机构，所述多个光源元件的每一个由放射在300nm～400nm的波长上具有发光峰值的光的长条状的灯、以及在内部穿插有该灯的状态下设置的具有光透射性的长条状的外套管构成。
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公开(公告)号：CN102375261A
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN201110143534.6
申请日：2011-05-31
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 佐藤伸吾
IPC: G02F1/1333
Abstract: 本发明涉及光照射装置，提供一种在并列地配置了多个准分子灯的光照射装置中，适当地配置用于测量准分子灯的照度的照度传感器，从而不遮挡来自准分子灯的照射光，而能够正确检测有效照射区域内的灯中央部的正常准分子放电的结构。其特征在于，对上述准分子灯的放射光进行受光的照度传感器被配置为与该准分子灯纵长方向的一侧的端部相对应，受光面朝向准分子灯的中央部地倾斜。
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