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公开(公告)号：CN108687057B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN201810289463.2
申请日：2018-04-03
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供一种无论被处理体的搬运速度如何都能够以高稳定性进行光清洗的光照射装置。光照射装置向沿着搬运路径搬运的带状的被处理体的一面照射紫外线，其特征在于，具备：灯罩，沿着搬运路径上的被处理体的一面侧的通过平面具有开口；紫外线灯，设置在所述灯罩内，沿所述被处理体的宽度方向延伸；气体供给单元，向所述灯罩内供给惰性气体；及排气空间形成构件，沿着所述搬运路径上的被处理体的其他面侧的通过平面具有开口，在所述灯罩的开口设有遮蔽体，该遮蔽体在其与所述被处理体的两侧缘部之间形成气体流通阻力用隘路。
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公开(公告)号：CN117594478A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202310928798.5
申请日：2023-07-27
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种即使在使腔室内的臭氧浓度降低而进行了工件的处理的情况下，也能够稳定且均质地进行处理的光处理装置。具备：搬送机构，搬送工件，具有多个搬送辊；主腔室，具有第一搬入口和第一搬出口；分隔部件，在主腔室内，在与工件的搬送方向和搬送辊的旋转轴方向正交的方向上，将多个搬送辊之间的至少一部分划分为处理空间和滞留空间；紫外光源，配置于主腔室的处理空间内，朝向由搬送机构搬送的工件的一面，射出主要发光波长为200nm以下的紫外光；气体导入口，向主腔室内导入工艺气体；以及搬入副腔室，具有第二搬入口和第二搬出口，第二搬出口与第一搬入口连通，搬送辊的至少一部分位于比分隔部件靠近处理空间侧的位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109414849B
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN201780041541.0
申请日：2017-06-16
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: B29C33/72 , B08B7/00 , B29C59/02 , H01L21/027
Abstract: 本发明目的在于提供能够在短时间内执行由石英玻璃构成的模板的表面的清洗处理的光清洗处理装置。本发明的光清洗处理装置是通过紫外线对纳米压印中所使用的由石英玻璃构成的模板的表面进行清洗处理的光清洗处理装置，其特征在于，具备：处理室形成件，配置作为处理对象的模板，并形成被供给处理用气体的处理室；壳体，具有窗部件，该窗部件隔着间隙而与配置于上述处理室的上述模板相向设置并使紫外线透过；紫外线光源，配置于上述壳体内，经由上述窗部件而向上述模板照射紫外线；及加热单元，对上述模板进行加热。
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公开(公告)号：CN106475360A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201610730653.4
申请日：2016-08-26
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: B08B7/00
Abstract: 一种紫外线处理装置，能够使紫外线照射窗与被处理物之间的距离小，而且能够使处理气体在紫外线照射窗与被处理物之间形成的被处理空间中平面性高均匀性地扩散地流通。具有：紫外线灯；平面部件，具有大致矩形的平面区域；平板部分，设置于该平面部件，沿着平面区域的一边以及与其接连的两边以比该平面区域突出的状态延伸；保持部件，在与平板部分的表面之间形成间隙的状态下保持平板状的被处理物；处理气体供给口，沿着平面区域的一边设置；处理气体排出口，在与平面区域的一边对置的另一边，载置被处理物从而形成；紫外线照射窗，设置在平面部件的平面区域中的与处理气体供给口相比靠近另一边侧、且处理气体供给口与处理气体排出口之间。
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公开(公告)号：CN118412267A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202311540226.6
申请日：2023-11-17
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 本发明提供一种紫外光照射装置，能够提高反馈控制性能。紫外光照射装置具备：长条状的准分子灯，具有朝向照射对象物出射紫外光的光出射面；光量传感器，配置于准分子灯的周围，并检测紫外光；及第一反射构件，配置于准分子灯的周围，并与光出射面的长度方向的一部分相对，从光出射面出射的紫外光在第一反射构件反射而入射到光量传感器。
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公开(公告)号：CN109414849A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780041541.0
申请日：2017-06-16
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: B29C33/72 , B08B7/00 , B29C59/02 , H01L21/027
Abstract: 本发明目的在于提供能够在短时间内执行由石英玻璃构成的模板的表面的清洗处理的光清洗处理装置。本发明的光清洗处理装置是通过紫外线对纳米压印中所使用的由石英玻璃构成的模板的表面进行清洗处理的光清洗处理装置，其特征在于，具备：处理室形成件，配置作为处理对象的模板，并形成被供给处理用气体的处理室；壳体，具有窗部件，该窗部件隔着间隙而与配置于上述处理室的上述模板相向设置并使紫外线透过；紫外线光源，配置于上述壳体内，经由上述窗部件而向上述模板照射紫外线；及加热单元，对上述模板进行加热。
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公开(公告)号：CN108687057A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810289463.2
申请日：2018-04-03
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供一种无论被处理体的搬运速度如何都能够以高稳定性进行光清洗的光照射装置。光照射装置向沿着搬运路径搬运的带状的被处理体的一面照射紫外线，其特征在于，具备：灯罩，沿着搬运路径上的被处理体的一面侧的通过平面具有开口；紫外线灯，设置在所述灯罩内，沿所述被处理体的宽度方向延伸；气体供给单元，向所述灯罩内供给惰性气体；及排气空间形成构件，沿着所述搬运路径上的被处理体的其他面侧的通过平面具有开口，在所述灯罩的开口设有遮蔽体，该遮蔽体在其与所述被处理体的两侧缘部之间形成气体流通阻力用隘路。
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