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公开(公告)号：CN105723256A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201480059858.3
申请日：2014-10-21
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种层叠光学薄膜的制造方法，其包括介由以固化后的厚度成为2.5μm以下地形成的粘接剂层贴合第1薄膜与第2薄膜贴合的贴合工序、以及使贴合了第1薄膜与第2薄膜之后的粘接剂层固化的固化工序，第1薄膜以及第2薄膜中的至少一个是光学薄膜，在贴合工序中，贴合第1薄膜与第2薄膜时的粘接剂层的粘度为60cP以下。
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公开(公告)号：CN101981438A
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：CN200980111518.X
申请日：2009-03-26
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G01N21/892
CPC classification number: G01N21/896 , G01N2021/8861 , G01N2021/888 , G01N2021/9511
Abstract: 使用缺陷检查装置对带状的偏光薄膜进行缺陷的检出(S2)，基于缺陷的检出结果制作出表示缺陷的位置的缺陷位置数据并保存到存储介质中(S3)，将带状的偏光薄膜卷绕到滚筒上(S5)，从滚筒拉出带状的偏光薄膜(S6)，对带状的偏光薄膜层叠其它薄膜(S7)，在层叠了其它薄膜后，读入保存在存储介质中的缺陷位置数据，且基于读入的缺陷位置数据来确定偏光薄膜的缺陷位置(S8)，基于已确定的缺陷位置，在所述其它薄膜上的缺陷的附近位置上形成记号(S9)。由此，能够在偏光薄膜上被缺陷检查装置检出的缺陷的附近位置上形成记号，而不会出缺陷检查装置检出的缺陷中只包含允许缺陷的部分不能作为产品使用的情况。
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公开(公告)号：CN100409044C
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：CN200410100387.4
申请日：2004-12-09
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 提供表面状态良好、染色不匀少的偏光膜的制造方法、使用该偏光膜的偏振片的制造方法以及光学叠层体的制造方法。本发明的偏光膜的制造方法，是在按膨润处理、染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法，其特征在于，在硼酸处理工序以前设置2段以上的染色浴依次进行染色，与此同时使最后的染色浴含有硼酸。
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公开(公告)号：CN1629660A
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：CN200410100386.X
申请日：2004-12-09
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 提供染色不匀少、而且褶皱发生频率减少或可降低染色处理后的工序中的张力的偏光膜的制造方法、偏振片和光学叠层体。本发明的偏光膜的制造方法，是在按膨润处理、碘染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法，其特征在于，在硼酸处理工序之前在2段以上的染色浴中进行碘染色，而且，在2段以上的染色浴中进行单轴拉伸，(1)使最初的染色浴中的拉伸倍率高于第2段以后的染色浴中的合计拉伸倍率，或(2)使最后的染色浴中的拉伸倍率高于此前的染色浴中的合计拉伸倍率，而进行单轴拉伸。
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公开(公告)号：CN100437162C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200410100386.X
申请日：2004-12-09
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供染色不匀少、而且褶皱发生频率减少或可降低染色处理后的工序中的张力的偏光膜的制造方法、偏振片和光学叠层体。本发明的偏光膜的制造方法，是在按膨润处理、碘染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法，其特征在于，在硼酸处理工序之前在2段以上的染色浴中进行碘染色，而且，在2段以上的染色浴中进行单轴拉伸，(1)使最初的染色浴中的拉伸倍率高于第2段以后的染色浴中的合计拉伸倍率，或(2)使最后的染色浴中的拉伸倍率高于此前的染色浴中的合计拉伸倍率，而进行单轴拉伸。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1627107A
公开(公告)日：2005-06-15
申请号：CN200410100387.4
申请日：2004-12-09
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 提供表面状态良好、染色不匀少的偏光膜的制造方法、使用该偏光膜的偏振片的制造方法以及光学叠层体的制造方法。本发明的偏光膜的制造方法，是在按膨润处理、染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法，其特征在于，在硼酸处理工序以前设置2段以上的染色浴依次进行染色，与此同时使最后的染色浴含有硼酸。
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公开(公告)号：CN105723256B
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201480059858.3
申请日：2014-10-21
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种层叠光学薄膜的制造方法，其包括介由以固化后的厚度成为2.5μm以下地形成的粘接剂层贴合第1薄膜与第2薄膜贴合的贴合工序、以及使贴合了第1薄膜与第2薄膜之后的粘接剂层固化的固化工序，第1薄膜以及第2薄膜中的至少一个是光学薄膜，在贴合工序中，贴合第1薄膜与第2薄膜时的粘接剂层的粘度为60cP以下。
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公开(公告)号：CN104272149A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380024250.2
申请日：2013-06-14
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G02B5/305 , B32B37/1207 , B32B37/206 , B32B2037/1253 , B32B2309/105 , B32B2310/0806 , B32B2310/0831 , G02B5/3041 , B32B27/00
Abstract: 本发明提供一种层叠膜的制造方法，依次具备：胶粘剂涂布工序，向多个膜中的至少1片膜的一面或两面涂布活性能量射线固化型的胶粘剂；贴合工序，在以相邻的膜之间夹设所述胶粘剂的方式进行层叠的状态下，将所述多个膜夹持在沿运送方向旋转的一对贴合辊之间，由此进行相互贴合；以及活性能量射线照射工序，向被相互贴合的所述多个膜照射活性能量射线而使所述胶粘剂固化，在所述多个膜中，在所述胶粘剂涂布工序中没有涂布所述胶粘剂、且在所述贴合工序中与所述胶粘剂接触的面的表面粗糙度为200nm以下。
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公开(公告)号：CN1657984A
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN200510009407.1
申请日：2005-02-04
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30
Abstract: 一种偏光膜的制造方法，能制造较少瑕疵或皱纹且无折痕的偏光膜。其特征为，于处理PVA(聚乙烯醇)是膜并制造偏光膜的方法中，将加宽辊用于处理液中，并将加宽辊配置在能使最大加宽量β(以算式(1)求得)大于膜与加宽辊接触时，膜在宽方向的膨胀量γ(以算式(2)求得)的位置上，或使用能使β大于γ的形状的加宽辊。β＝B1×α×r/R ……(1)γ＝0.2055×B1×{exp(－0.0273×θ1)－exp(－0.0273×θ)} ……(2)(式中，B1为与辊接触的膜宽，α为接触角，r为辊的半径，R为辊的曲率半径，θ为膜离开辊之前在液中的行进时间， θ1为膜接触辊之前在液中的行进时间)。
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