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公开(公告)号：CN108369293B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201680073268.5
申请日：2016-12-08
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供能够兼顾基材与聚合物层之间的紧贴性、和耐磨性的光学部件。本发明的光学部件具备：基材；和聚合物层，其在表面具有与上述基材直接接触的凹凸结构，上述凹凸结构的多个凸部以可见光的波长以下的间距设置，上述聚合物层含有酰胺基，上述聚合物层中的上述酰胺基的浓度为2mmol/g以上且不足5mmol/g，测量温度范围‑50～250℃、升温速度5℃/min、以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量的、上述聚合物层的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下，并且上述聚合物层的上述储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。
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公开(公告)号：CN106660263B
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201580044036.2
申请日：2015-08-19
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 模具(100)为圆筒状的模具，具备铝基材(12)和形成在铝基材上的多孔氧化铝层(14)，多孔氧化铝层在表面(18s)具有从表面的法线方向观看时的二维大小是10nm以上且小于500nm的多个微观的凹部(14p)，模具(100)在侧面还具有确定模具在圆周方向上的位置的至少1个标记部(50)，至少1个标记部的最大高度Rz大于500nm，且至少1个标记部的算术平均粗糙度Ra是300nm以下。
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公开(公告)号：CN108138331A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680060184.8
申请日：2016-10-06
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 对圆柱状或圆筒状的基材(12)的表面进行处理的方法包含：(a)在以基材的长轴方向与水平方向大致平行的方式对基材进行了配置的状态下，以基材的长轴为中心使所述基材旋转的工序；以及(b)使基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽(51)所收容的第一蚀刻液(E1)接触的工序。
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公开(公告)号：CN107635740A
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201680033863.6
申请日：2016-06-07
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 脱模处理方法包含如下步骤：(a)准备含有具有脱模性的氟系化合物与溶剂的脱模剂、及表面具有多孔氧化铝层(14)的圆筒状或圆柱状的模具(100)；(b)向模具的表面赋予脱模剂；及(c)使步骤(b)中赋予的脱模剂干燥。步骤(c)中包含对模具的表面生成在与模具的轴(100z)平行的方向流动的气流(105)的步骤、及使模具以模具的轴为中心旋转的步骤。
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公开(公告)号：CN107219569A
公开(公告)日：2017-09-29
申请号：CN201710440041.6
申请日：2016-02-10
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括：工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；工序(2)，在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101938899A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200980104141.5
申请日：2009-12-01
Applicant: 夏普株式会社
Inventor： 山田信明
CPC classification number: G02B1/118 , A01K63/003 , G01F23/02 , G02B1/105 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种视认性和耐久性优良且容易清洗的贮液槽、液中观察器具及光学膜。本发明是具有透明壁的贮液槽，上述贮液槽是在上述透明壁的内面从上述透明壁侧起按顺序具备具有蛾眼构造的第一蛾眼层和被覆上述第一蛾眼层的蛾眼构造的保护层的贮液槽，上述贮液槽优选的是在上述透明壁的外面具备具有蛾眼构造的第二蛾眼层，并且上述第二蛾眼层设置在与上述第一蛾眼层相对的区域。
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公开(公告)号：CN101909859A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200880122606.5
申请日：2008-11-19
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: B29C59/04 , B29C2059/023 , B29D11/00346 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 本发明提供一种辊型纳米压印装置，其能够防止由模具辊转印纳米构造后的被转印膜的厚度不均匀，另外，能够容易地更换模具辊。本发明是通过转动模具辊在被转印膜的表面连续形成纳米尺寸的突起的辊型纳米压印装置，上述模具辊是在外周面形成有纳米尺寸的凹坑的圆筒体，上述纳米压印装置是如下辊型纳米压印装置：在被上述模具辊的内周面包围的区域，具有具备通过流体的注入能够膨胀的弹性膜的流体容器，在使上述弹性膜收缩的状态下进行模具辊的装卸，在使上述弹性膜膨胀的状态下从内侧保持模具辊。
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公开(公告)号：CN108138331B
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201680060184.8
申请日：2016-10-06
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 对圆柱状或圆筒状的基材(12)的表面进行处理的方法包含：(a)在以基材的长轴方向与水平方向大致平行的方式对基材进行了配置的状态下，以基材的长轴为中心使所述基材旋转的工序；以及(b)使基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽(51)所收容的第一蚀刻液(E1)接触的工序。
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公开(公告)号：CN107743445B
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201680037780.4
申请日：2016-06-27
Applicant: 夏普株式会社
Inventor： 山田信明
Abstract: 本发明提供一种膜贴附器具，其使在尘埃等异物悬浮的通常的环境中进行贴附的情况下也也能够防止在贴附面侵入异物以及气泡的膜贴附方法成为可能。本发明的膜贴附器具用于在使贴附于基材的异物去除用膜剥离的同时、对基材的异物去除用膜剥离的区域贴附功能性膜的方法中，其中，该膜贴附器具具有：固定部，其固定膜贴附器具；贴附部，其构成为在将配置于基材的膜贴附区域的功能性膜按压于基材的同时，能够沿着膜贴附区域移动；卷绕部，其配置于贴附部的移动方向的一端，并使贴附于膜贴附区域的异物去除用膜卷绕而剥离；以及牵拉部，其配置于卷绕部的上方，并对施加于功能性膜的张力进行控制。
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公开(公告)号：CN107743445A
公开(公告)日：2018-02-27
申请号：CN201680037780.4
申请日：2016-06-27
Applicant: 夏普株式会社
Inventor： 山田信明
Abstract: 本发明提供一种膜贴附器具，其使在尘埃等异物悬浮的通常的环境中进行贴附的情况下也也能够防止在贴附面侵入异物以及气泡的膜贴附方法成为可能。本发明的膜贴附器具用于在使贴附于基材的异物去除用膜剥离的同时、对基材的异物去除用膜剥离的区域贴附功能性膜的方法中，其中，该膜贴附器具具有：固定部，其固定膜贴附器具；贴附部，其构成为在将配置于基材的膜贴附区域的功能性膜按压于基材的同时，能够沿着膜贴附区域移动；卷绕部，其配置于贴附部的移动方向的一端，并使贴附于膜贴附区域的异物去除用膜卷绕而剥离；以及牵拉部，其配置于卷绕部的上方，并对施加于功能性膜的张力进行控制。
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