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公开(公告)号：CN109494139A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811050597.5
申请日：2018-09-07
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供一种能使现有的电子发射元件实现特性提升及/或寿命增长且具有新颖构造的电子发射元件及其制造方法。电子发射元件的制造方法包含：步骤A，准备铝基板(12)或由基板支承的铝层；步骤B，通过使铝基板的表面(12s)或铝层的表面阳极氧化，而形成具有多个细孔(34)的多孔氧化铝层(32)；步骤C，通过向多个细孔内赋予银纳米粒子(42n)，而使多个细孔内承载银纳米粒子；步骤D，在步骤C之后，对铝基板或铝层的实质整个表面，赋予绝缘层形成溶液(36)；步骤E，在步骤D之后，通过至少减少绝缘层形成溶液中所含的溶剂而形成绝缘层(37)；及步骤F，在绝缘层上形成电极(52)。
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公开(公告)号：CN106332553B
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：CN201680000545.X
申请日：2016-02-10
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: B29D11/00788 , B29C33/62 , B29C35/0805 , B29C59/026 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B29D11/0073 , B29D11/00865 , B29K2033/04 , B29K2105/0002 , B29K2105/0005 , B29K2995/0087 , B29K2995/0097 , B32B3/30 , B32B27/08 , B32B27/30 , B32B37/15 , B32B38/06 , B32B2551/00 , C08F290/067 , C08L75/16 , C09D5/006 , C09D5/1662 , C09D5/1681 , C09D5/1693 , C09D133/08 , C09D133/24 , C09D175/16 , G02B1/118 , G02B1/14 , G02B1/18 , C08F222/1006
Abstract: 本发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括：工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；工序(2)，在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。
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公开(公告)号：CN108495720B
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN201780005426.8
申请日：2017-07-03
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供防污性以及耐磨性优良的防污性薄膜。本发明为具备在表面具有凹凸构造的聚合体层的防污性薄膜，所述凹凸构造为多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为3atom％以下，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为4atom％以下。
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公开(公告)号：CN106332553A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201680000545.X
申请日：2016-02-10
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: B29D11/00788 , B29C33/62 , B29C35/0805 , B29C59/026 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B29D11/0073 , B29D11/00865 , B29K2033/04 , B29K2105/0002 , B29K2105/0005 , B29K2995/0087 , B29K2995/0097 , B32B3/30 , B32B27/08 , B32B27/30 , B32B37/15 , B32B38/06 , B32B2551/00 , C08F290/067 , C08L75/16 , C09D5/006 , C09D5/1662 , C09D5/1681 , C09D5/1693 , C09D133/08 , C09D133/24 , C09D175/16 , G02B1/118 , G02B1/14 , G02B1/18 , C08F222/1006 , G02B1/111
Abstract: 本发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括：工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；工序(2)，在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。
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公开(公告)号：CN109494139B
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201811050597.5
申请日：2018-09-07
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供一种能使现有的电子发射元件实现特性提升及/或寿命增长且具有新颖构造的电子发射元件及其制造方法。电子发射元件的制造方法包含：步骤A，准备铝基板(12)或由基板支承的铝层；步骤B，通过使铝基板的表面(12s)或铝层的表面阳极氧化，而形成具有多个细孔(34)的多孔氧化铝层(32)；步骤C，通过向多个细孔内赋予银纳米粒子(42n)，而使多个细孔内承载银纳米粒子；步骤D，在步骤C之后，对铝基板或铝层的实质整个表面，赋予绝缘层形成溶液(36)；步骤E，在步骤D之后，通过至少减少绝缘层形成溶液中所含的溶剂而形成绝缘层(37)；及步骤F，在绝缘层上形成电极(52)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107219569B
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201710440041.6
申请日：2016-02-10
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括：工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；工序(2)，在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。
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公开(公告)号：CN108780162B
公开(公告)日：2019-09-03
申请号：CN201780014466.9
申请日：2017-03-16
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明能够提供防污性以及耐磨性优良的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法，包括：涂布下层树脂以及上层树脂的工序(1)；在已涂布的所述下层树脂以及所述上层树脂被层叠的状态下，从所述上层树脂侧将模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂，形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层的工序(2)；使所述树脂层硬化的工序(3)，所述上层树脂包括含氟单体，所述模具的表面涂布有脱模剂，在涂布了所述脱模剂的所述模具的表面通过θ/2法测量的十六烷的接触角与通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在规定范围内。
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公开(公告)号：CN110622275A
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201880032479.3
申请日：2018-05-15
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 电子发射元件(100)具有：第1电极(12)、第2电极(52)、以及设置在第1电极(12)与第2电极(52)之间的半导电层(30)。半导电层(30)具有：多孔氧化铝层(32)，其具有多个细孔(34)；以及银(42)，其担载在多孔氧化铝层(32)的多个细孔(34)内。
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公开(公告)号：CN108780162A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780014466.9
申请日：2017-03-16
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明能够提供防污性以及耐磨性优良的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法，包括：涂布下层树脂以及上层树脂的工序(1)；在已涂布的所述下层树脂以及所述上层树脂被层叠的状态下，从所述上层树脂侧将模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂，形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层的工序(2)；使所述树脂层硬化的工序(3)，所述上层树脂包括含氟单体，所述模具的表面涂布有脱模剂，在涂布了所述脱模剂的所述模具的表面通过θ/2法测量的十六烷的接触角与通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在规定范围内。
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公开(公告)号：CN108495720A
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201780005426.8
申请日：2017-07-03
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供防污性以及耐磨性优良的防污性薄膜。本发明为具备在表面具有凹凸构造的聚合体层的防污性薄膜，所述凹凸构造为多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为3atom％以下，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为4atom％以下。
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