一种新型连续制备可控生物分子晶体的方法

    公开(公告)号:CN108465264A

    公开(公告)日:2018-08-31

    申请号:CN201810338092.2

    申请日:2018-04-09

    Abstract: 本发明公开了一种新型连续制备可控生物分子晶体的方法,属于膜科学与技术领域。将改性膜组装至平板膜组件中,搭建动态膜结晶装置,通过改变膜材料、洗脱液浓度、温度、pH值筛选最优的结晶方式,通过控制成核可获得可调控形状的生物分子晶体。新型连续制备可控生物分子晶体的方法不仅解决了生物分子难以结晶的问题,另外新型结晶方法对晶体形状可控,可制得高质量晶体。并且该结晶方法简单,成本低廉,为今后生物大分子结晶提供了一种新的思路。

    一种结合微观接触状态分析摩擦磨损特性试验装置和方法

    公开(公告)号:CN113670746A

    公开(公告)日:2021-11-19

    申请号:CN202110909784.X

    申请日:2021-08-09

    Abstract: 本发明公开了一种结合微观接触状态分析摩擦磨损特性试验装置和使用方法,所述装置包括Z向进给装置、力传感器、透明试验盒、调平系统、XY移动台、光学显微镜、相机和计算机。本发明测量的接触状态非常接近摩擦磨损过程中微观接触状态,由于进行原位测量避免了取件方式和环境变化导致微观接触状态改变的问题。本发明可用于液体环境下平行度或厚度均匀性不佳的非透明材料摩擦试样微观接触状态及其摩擦磨损特性测量和分析,可通过调平装置调节载荷和接触表面的垂直度,保证实际摩擦磨损过程与测量的微观接触状态一致,促进了微观接触状态对摩擦磨损特性影响研究的发展。

    一种抛光垫微观接触状态的测量装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN111469048B

    公开(公告)日:2021-06-25

    申请号:CN202010291933.6

    申请日:2020-04-14

    Abstract: 本发明公开了一种抛光垫微观接触状态的测量装置及其使用方法,所述的测量装置包括基座、Z向宏微复合直线运动进给装置、力传感器、蓝宝石观测窗口、两个单筒显微镜、两个CCD摄像机、两个显微镜支架、XY两向移动工作台、运动控制系统和计算机。本发明利用光学显微镜直接拍摄抛光垫的接触界面,可以获得真实的微观接触图像,结果更加准确可靠。本发明在固定抛光垫样品时,可以保证待测表面和蓝宝石玻璃表面的均匀贴合,避免了接触不均匀现象。本发明利用DIC方法,可以直接获得抛光垫在压缩过程中的位移云图,并准确得到抛光垫表面粗糙层的压缩刚度,为抛光垫微观接触状态的分析提供可靠的数据支撑。

    一种光学零件高精度平面的修形加工方法

    公开(公告)号:CN105397609B

    公开(公告)日:2017-06-27

    申请号:CN201510736110.9

    申请日:2015-11-03

    Abstract: 本发明公开了一种光学零件高精度平面的修形加工方法,该方法在传统研磨抛光方法的基础上,通过专用修形抛光盘使位于抛光盘上不同径向位置环形区域的抛光垫不起材料去除作用,并结合工艺条件控制,获得不同的材料去除率分布曲线,根据工件表面初始表面轮廓形貌偏差,设计各种材料去除特性对应工艺条件的加工时间,实现工件表面的修形加工。本发明的抛光盘上盘由具有升降功能的多个同心环组成,可以获得不同的表面材料去除率分布特性,实现确定性加工。本发明根据光学零件的原始表面轮廓形貌偏差设计修形方案,对表面进行确定性的材料去除加工,总去除余量小,加工效率高,成本低。本发明可以适用于任意形状和厚度的待加工工件。

    一种结合微观接触状态分析摩擦磨损特性试验装置和方法

    公开(公告)号:CN113670746B

    公开(公告)日:2022-11-08

    申请号:CN202110909784.X

    申请日:2021-08-09

    Abstract: 本发明公开了一种结合微观接触状态分析摩擦磨损特性试验装置和使用方法,所述装置包括Z向进给装置、力传感器、透明试验盒、调平系统、XY移动台、光学显微镜、相机和计算机。本发明测量的接触状态非常接近摩擦磨损过程中微观接触状态,由于进行原位测量避免了取件方式和环境变化导致微观接触状态改变的问题。本发明可用于液体环境下平行度或厚度均匀性不佳的非透明材料摩擦试样微观接触状态及其摩擦磨损特性测量和分析,可通过调平装置调节载荷和接触表面的垂直度,保证实际摩擦磨损过程与测量的微观接触状态一致,促进了微观接触状态对摩擦磨损特性影响研究的发展。

    一种平面零件全口径确定性抛光的摇臂式抛光装置和方法

    公开(公告)号:CN111266937B

    公开(公告)日:2021-09-10

    申请号:CN202010202480.5

    申请日:2020-03-20

    Abstract: 本发明公开了一种平面零件全口径确定性抛光的摇臂式抛光装置和方法,所述装置包括控制系统、基座、升降板、抛光模块和测量模块;抛光模块和测量模块均位于基座上;升降板位于抛光模块和测量模块之间;抛光模块包括摇臂机构、抛光垫表面修整机构、抛光垫面形测量装置和环形抛光工具盘机构;测量模块包括平面零件面形自动化测量装置和机械臂机构。本发明充分考虑了平面零件的具体面形,通过控制平面零件表面材料去除率分布函数,使平面零件表面材料去除率分布函数和平面零件面形成归一化后的镜像对称关系,实现平面零件的确定性抛光,保证了平面零件面形在抛光过程中的高效收敛。本发明采用低成本的作业方式完成高精度的抛光过程,降低了设备成本。

    一种抛光垫微观接触状态的测量装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN111469048A

    公开(公告)日:2020-07-31

    申请号:CN202010291933.6

    申请日:2020-04-14

    Abstract: 本发明公开了一种抛光垫微观接触状态的测量装置及其使用方法,所述的测量装置包括基座、Z向宏微复合直线运动进给装置、力传感器、蓝宝石观测窗口、两个单筒显微镜、两个CCD摄像机、两个显微镜支架、XY两向移动工作台、运动控制系统和计算机。本发明利用光学显微镜直接拍摄抛光垫的接触界面,可以获得真实的微观接触图像,结果更加准确可靠。本发明在固定抛光垫样品时,可以保证待测表面和蓝宝石玻璃表面的均匀贴合,避免了接触不均匀现象。本发明利用DIC方法,可以直接获得抛光垫在压缩过程中的位移云图,并准确得到抛光垫表面粗糙层的压缩刚度,为抛光垫微观接触状态的分析提供可靠的数据支撑。

    一种在线检测抛光垫接触特征的试验装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN111469047A

    公开(公告)日:2020-07-31

    申请号:CN202010291072.1

    申请日:2020-04-14

    Abstract: 本发明公开了一种在线检测抛光垫接触特征的试验装置及其使用方法,所述的试验装置包括基座、单筒显微镜、CCD摄像机、XY两向移动工作台、蓝宝石观测窗口、固定环、配重块、运动控制系统和计算机。本发明属于一种在线检测手段,测量时只需要将装配好的蓝宝石观测窗口放置于抛光垫表面,待测量结束后移除,整个测量过程不破坏抛光垫表面结构,不影响后续的抛光工艺。本发明利用光学显微镜直接获得抛光垫的真实接触图像,试验结果更加准确可靠。本发明可以批量处理微观接触图像,并且利用图像处理软件获得实时的微观接触特征信息:包括真实接触面积率、接触点数目、接触点平均尺寸、接触点分布等,方便对后续修整工艺的指导。

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