公开(公告)号：CN105340067A

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：CN201480036472.0

申请日：2014-04-17

Applicant: 奥加诺株式会社

Inventor： 矢野大作 ,  村山雅美 ,  山下幸福 ,  山中弘次

IPC: H01L21/304 ,  B01J31/08 ,  C02F1/20 ,  C02F1/32 ,  C02F1/68

CPC classification number: B08B3/08 ,  B01J31/08 ,  C02F1/20 ,  C02F1/32 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/68 ,  C02F9/00 ,  C02F2103/04 ,  C11D7/02 ,  C23G1/103 ,  C23G1/20 ,  H01L21/02068 ,  H01L21/6704

Abstract: 在该铜露出基板的清洗方法中，设置有紫外线氧化装置的子系统的水出口和各基板处理装置的水入口经由主配管连接。过氧化氢除去装置(2)配置在子系统的紫外线氧化装置与非再生型离子交换装置之间。另外，二氧化碳供给装置(4)配置在从子系统的水出口分支至到达基板处理装置(1)的配管(3)的途中。过氧化氢除去装置(2)填充有铂族系金属催化剂。作为该构成的结果，通过紫外线氧化装置的超纯水用作基质以制造溶解在其中的过氧化氢的浓度限于2μg/L以下并且将二氧化碳添加至其中以将电阻率调节为在0.03-5.0MΩ·cm的范围内的碳酸水，并且碳酸水用于清洗设置在基板处理装置(1)内并且至少铜或铜化合物在表面上露出的基板。

公开(公告)号：CN104075391A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201410111286.0

申请日：2014-03-24

Applicant: 奥加诺株式会社 ,  阿自倍尔株式会社

Inventor： 土井雄太 ,  藤田雅司 ,  山中弘次 ,  岩田昌之 ,  井口俊丸

IPC: F24F5/00 ,  F24F13/28 ,  F24F13/30

Abstract: 本发明提供一种具备使外部导入空气与清洗水接触来进行清洗的清洗机构的空气调节装置，能够改善一边对循环空气的一部分进行换气一边进行运转时的能量效率。空气调节装置具备：空气调节单元，其形成在从外部分隔出的空间内循环的循环空气，将循环空气加热或冷却而向空间供给；清洗机构，其使从外部导入的外部空气与清洗水接触来进行清洗；混合机构，其能够将循环空气的回气的至少一部分作为第一回气取入，使清洗过的外部空气与第一回气混合而向空气调节单元供给；换气机构，其能够将循环空气的回气的一部分作为第二回气取入，并将取入的第二回气向外部排出；换热机构，其在第二回气与清洗水、清洗前的外部空气或清洗后的外部空气之间进行换热。

公开(公告)号：CN1130689A

公开(公告)日：1996-09-11

申请号：CN95118294.3

申请日：1995-10-27

Applicant: 日本电气株式会社 ,  奥加诺株式会社

Inventor： 青木秀充 ,  中森雅治 ,  山中弘次 ,  今冈孝之 ,  二木高志 ,  山下幸福

IPC: C25B9/00 ,  B08B3/10

CPC classification number: H01L21/02052 ,  B08B3/08 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/4618 ,  C02F9/00 ,  C02F2103/04 ,  C02F2201/4611 ,  C02F2201/46115 ,  C02F2201/46195 ,  H01L21/67057 ,  Y02E60/366

Abstract: 本发明提供了电子元件的清洗方法，其特征是将用清洗液处理的半导体基板、玻璃基板、电子元件及上述这些的制造装置的部件等被清洗物，再用去离子水电解水的阳极水或阴极水进行洗涤处理。

公开(公告)号：CN106688082B

公开(公告)日：2019-08-30

申请号：CN201580048053.3

申请日：2015-08-04

Applicant: 奥加诺株式会社

Inventor： 林佳史 ,  山下幸福 ,  山中弘次 ,  矢野大作

IPC: H01L21/304 ,  B01F1/00 ,  B01F3/08 ,  B01F5/00 ,  B01F15/04

Abstract: 本发明的稀释液制造方法通过对第一液体添加第二液体来制造该第二液体的稀释液，该稀释液制造方法包括以下步骤：使第一液体在第一配管(11)中流动；对用于贮存第二液体的罐体(12)内的压力进行控制，通过将罐体(12)与第一配管(11)连接的第二配管(13)来将第二液体添加到第一配管(11)内的第一液体。添加第二液体的步骤中包括以下步骤：测定第一配管(11)内流动的第一液体的流量或稀释液的流量；测定稀释液的成分浓度；以及基于流量的测定值和成分浓度的测定值来控制罐体(12)内的压力，使得稀释液的成分浓度为规定值。

公开(公告)号：CN106061905A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201580009654.3

申请日：2015-01-06

Applicant: 奥加诺株式会社

Inventor： 林佳史 ,  山下幸福 ,  山中弘次

IPC: C02F1/78 ,  B01F1/00 ,  B01F15/02 ,  B01F15/04 ,  C01B13/10

CPC classification number: B01F3/04985 ,  B01F3/04439 ,  B01F3/2057 ,  B01F5/106 ,  B01F15/0022 ,  B01F15/00344 ,  B01F15/0408 ,  B01F2003/04886 ,  C01B13/11 ,  C01B2201/64 ,  C01B2201/90 ,  C02F1/78 ,  C02F2103/04 ,  C02F2201/782 ,  C02F2209/23

Abstract: 提供一种臭氧水供给方法，其特征在于，边将原料超纯水供给至循环罐并将在使用点未被使用的返送臭氧水返送至该循环罐，边将该循环罐内的被溶解水以一定的供给量供给至臭氧溶解单元，在该臭氧溶解单元中使臭氧溶解于该被溶解水而得到臭氧溶解水，接着，将所得该臭氧溶解水供给至该使用点，向放电式的臭氧产生单元供给氮气的含量为0.01体积％以下的氧气作为原料氧气，接着，将所得该含臭氧气体供给至该臭氧溶解单元，调节供给至该循环罐的该原料超纯水的供给量，调节该臭氧溶解水中的溶存臭氧浓度。利用本发明，可以提供：使用放电式的臭氧产生单元时能够抑制硝酸在循环体系内的蓄积的臭氧水供给方法和用于实施该方法的臭氧水供给装置。

公开(公告)号：CN101223110A

公开(公告)日：2008-07-16

申请号：CN200580051090.6

申请日：2005-07-20

Applicant: 奥加诺株式会社

Inventor： 田岛直幸 ,  山中弘次 ,  井上洋 ,  中村彰

IPC: C02F1/469 ,  B01D61/48 ,  B01J47/00

CPC classification number: B01J20/28042 ,  B01D61/48 ,  B01D61/485 ,  B01J47/018 ,  B01J47/08 ,  C02F1/441 ,  C02F1/4695 ,  C02F5/00 ,  C02F2201/4611 ,  C02F2201/46115 ,  C02F2201/4617

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种电气式脱离子水制造装置，其将直流电场施加到填充有离子交换体的脱离子室，以使被排除的离子沿与该离子交换体内的通水方向相同或相反的方向泳动，从而将该离子交换体上吸附的离子性杂质排除到系统外部，其特征在于，该离子交换体是块状有机多孔质离子交换体和粒状离子交换树脂的混合体。该装置，结构简单，材料费、加工费以及组装费减少，并加速吸附的离子性杂质的移动而易于将吸附的离子排除，且不会发生因离子交换反应时的膨胀、收缩而引起的单流或与离子交换膜的接触不良的问题。

公开(公告)号：CN100352542C

公开(公告)日：2007-12-05

申请号：CN03806883.4

申请日：2003-07-14

Applicant: 奥加诺株式会社

Inventor： 井上洋 ,  山中弘次

IPC: B01J20/26 ,  C02F1/28

CPC classification number: B01J20/28078 ,  B01J20/28054 ,  B01J20/28069 ,  B01J20/28083 ,  B01J20/28085 ,  B01J20/3212 ,  B01J20/3219 ,  B01J20/3248 ,  B01J20/3253 ,  C02F1/285 ,  C02F2101/00 ,  C02F2103/04

Abstract: 本发明提供一种具有硼选择吸附能力的有机多孔质体，其具有连续气泡结构，该连续气泡结构有互相连接的大孔和位于大孔壁内的孔径为0.02～200μm的中孔，该有机多孔质体的全细孔容积为1～50ml/g，经共价键导入有1μmol/g干燥多孔质体或以上的与硼酸形成络合物的化合物。该有机多孔质体吸附硼的能力高、稳定性好，还提供使用其的除硼模块和超纯水制造装置，它们具有极高的适用性。

公开(公告)号：CN1780875A

公开(公告)日：2006-05-31

申请号：CN200480011716.6

申请日：2004-04-22

Applicant: 奥加诺株式会社

Inventor： 十井敬亘 ,  福田猛 ,  井上洋 ,  山中弘次 ,  吉田晃子

IPC: C08J9/36 ,  B01J20/26 ,  B01J20/286

CPC classification number: B01J20/286 ,  B01D15/322 ,  B01D15/325 ,  B01D15/36 ,  B01D15/361 ,  B01J20/26 ,  B01J20/261 ,  B01J20/264 ,  B01J20/28054 ,  B01J20/28069 ,  B01J20/28076 ,  B01J20/28083 ,  B01J20/28085 ,  B01J20/321 ,  B01J20/327 ,  B01J20/3276 ,  B01J20/3278 ,  B01J31/06 ,  B01J31/08 ,  B01J2220/52 ,  B01J2220/54 ,  B01J2220/58 ,  C08J9/28 ,  C08J2201/0504 ,  Y10T428/24496

Abstract: 本发明涉及一种接枝修饰有机多孔质体，在有机多孔质体的表面上，具有接枝了的高分子链，该有机多孔质体具有连续气泡结构，且该有机多孔质体的总细孔容积为1～50ml/g，上述连续气泡结构具有相互连接的巨孔和存在于巨孔壁内的半径为0.01～1000μm的中孔，该高分子链的密度至少在每1nm2的该有机多孔质体表面上为0.1条。根据本发明，能够提供在有机多孔质体表面高密度地导入了高分子链的接枝修饰有机多孔质体及其制造方法。

公开(公告)号：CN1777467A

公开(公告)日：2006-05-24

申请号：CN200480010745.0

申请日：2004-04-22

Applicant: 奥加诺株式会社

Inventor： 井上洋 ,  山中弘次 ,  吉田晃子 ,  川田和彦 ,  鸟山由纪子

IPC: B01D53/02

CPC classification number: B01D53/02 ,  B01D2253/20 ,  B01D2253/206 ,  B01D2253/306 ,  B01D2253/308 ,  B01D2253/311 ,  B01D2256/26 ,  B01D2258/0216 ,  B01D2259/4533 ,  B01J20/28054 ,  B01J20/28083 ,  B01J20/28085 ,  B01J39/18 ,  B01J41/12

Abstract: 本发明涉及将有机多孔质离子交换体作为吸附层的化学过滤器，该有机多孔质离子交换体具有连续气泡结构，且其总细孔容积为1～50ml/g，离子交换基分布均匀，离子交换容量为3.0mg当量/g干燥多孔质体或其以上，所述连续气泡结构在互相连接的巨孔与巨孔壁内，具有平均孔径5～1000μm为中孔。按照本发明，能够提供一种即使气体的透过速度快仍能保持气态污染物质的吸附去除能力，还可以去除超微量的气态污染物质的化学过滤器。

公开(公告)号：CN1129746A

公开(公告)日：1996-08-28

申请号：CN95118325.7

申请日：1995-10-27

Applicant: 日本电气株式会社 ,  奥加诺株式会社

Inventor： 青木秀充 ,  山中弘次 ,  今冈孝之 ,  二木高志 ,  山下幸福

IPC: C25B1/10 ,  C25B9/00

CPC classification number: C02F1/4618 ,  C02F1/444 ,  C02F9/00 ,  C02F2001/46133 ,  C02F2201/4611 ,  C02F2201/46195 ,  C02F2209/04 ,  C02F2209/06 ,  Y02E60/366

Abstract: 一种电解水制造装置，包括：阳极；阴极；阳极室；阴极室；在阴极室和阴极室之间由一对隔膜分隔开而设置的中间室；向该三室分别供给各自原水的供给管道；排出处理液的排出管道；在由前述阳极室接出的排出管上设有酸添加装置；同时在由前述阴极室接出的排出管上设有碱添加装置，并使所添加的电解质的组成、浓度、添加量、pH值中的至少任意一种参数可控。