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公开(公告)号:CN111212705B
公开(公告)日:2022-03-01
申请号:CN201880066479.5
申请日:2018-10-12
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种能够在维持高研磨速率的同时减少划痕的产生的研磨垫及其制造方法。所述研磨垫是具备研磨层的研磨垫,所述研磨层具有包含大致球状的气泡的聚氨酯片,在将预先暴露于温度23℃、相对湿度30%环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1%、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(90%),将预先暴露于温度23℃、相对湿度30%环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1%、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(30%)时,E’(90%)/E’(30%)在0.4~0.7的范围内。
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公开(公告)号:CN111212705A
公开(公告)日:2020-05-29
申请号:CN201880066479.5
申请日:2018-10-12
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种能够在维持高研磨速率的同时减少划痕的产生的研磨垫及其制造方法。所述研磨垫是具备研磨层的研磨垫,所述研磨层具有包含大致球状的气泡的聚氨酯片,在将预先暴露于温度23℃、相对湿度30%环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1%、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(90%),将预先暴露于温度23℃、相对湿度30%环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1%、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(30%)时,E’(90%)/E’(30%)在0.4~0.7的范围内。
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公开(公告)号:CN104321370B
公开(公告)日:2017-07-07
申请号:CN201380026114.7
申请日:2013-03-26
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: C08J5/14 , B24B37/24 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/24 , C08G18/4238 , C08G18/44 , C08G18/4825 , C08G18/4854 , C08G18/7671 , C08L75/04 , C08L75/06
Abstract: 一种研磨垫的制造方法,所述研磨垫在膜基材上具有聚氨酯树脂薄膜作为研磨层,该方法包括如下工序:将含有聚氨酯树脂和添加剂的聚氨酯树脂薄膜形成用组合物溶解在所述树脂的可溶性溶剂中的工序;除去不溶成分,使所述溶液中的不溶成分相对于聚氨酯树脂薄膜形成用组合物的总质量小于1质量%的工序;相对于树脂的固体成分质量1g,以通过式1:聚氨酯树脂相对于不良溶剂的凝固值(ml)×A(A=0.007~0.027)而计算的量(ml)向除去了所述不溶成分的溶液中添加不良溶剂并混合的工序;以及通过湿式凝固法使所述混合溶液在成膜基材上成膜,制作聚氨酯树脂薄膜的工序。通过该方法,提供一种能够进行研磨损伤少的研磨,并且能够形成稳定的膜的抛光用研磨垫的制造方法以及研磨垫。
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公开(公告)号:CN104321370A
公开(公告)日:2015-01-28
申请号:CN201380026114.7
申请日:2013-03-26
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: C08J5/14 , B24B37/24 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/24 , C08G18/4238 , C08G18/44 , C08G18/4825 , C08G18/4854 , C08G18/7671 , C08L75/04 , C08L75/06
Abstract: 一种研磨垫的制造方法,所述研磨垫在膜基材上具有聚氨酯树脂薄膜作为研磨层,该方法包括如下工序:将含有聚氨酯树脂和添加剂的聚氨酯树脂薄膜形成用组合物溶解在所述树脂的可溶性溶剂中的工序;除去不溶成分,使所述溶液中的不溶成分相对于聚氨酯树脂薄膜形成用组合物的总质量小于1质量%的工序;相对于树脂的固体成分质量1g,以通过式1:聚氨酯树脂相对于不良溶剂的凝固值(ml)×A(A=0.007~0.027)而计算的量(ml)向除去了所述不溶成分的溶液中添加不良溶剂并混合的工序;以及通过湿式凝固法使所述混合溶液在成膜基材上成膜,制作聚氨酯树脂薄膜的工序。通过该方法,提供一种能够进行研磨损伤少的研磨,并且能够形成稳定的膜的抛光用研磨垫的制造方法以及研磨垫。
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