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公开(公告)号：CN116867606A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202280015279.3
申请日：2022-03-29
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24
Abstract: 一种研磨垫，具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层，所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体源自异氰酸酯末端预聚物及硬化剂，所述研磨垫中，通过X射线小角散射法测定的所述研磨层中的硬链段间的距离为9.5nm以下，或者，通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC80)相对于通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC80)的比(NC80/CC80)为2.6～3.1，通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC40)相对于通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC40)的比(NC40/CC40)为0.5～0.9。
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公开(公告)号：CN111936268B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN201980023988.4
申请日：2019-03-19
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 本发明提供一种经时研磨速率的稳定性高的研磨垫及其制造方法。研磨垫，包括具有聚氨基甲酸酯片的研磨层，其中在水浴中浸泡3天的湿润状态的所述聚氨基甲酸酯片在初始负荷148g、应变范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的20℃～100℃的温度范围内的损耗角正切tanδ峰值wet与未浸泡在水浴中的干燥状态的所述聚氨基甲酸酯片的初始负荷148g、应变范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的20℃～100℃的温度范围内的损耗角正切tanδ峰值dry之间的tanδ峰值变化率为15％以下。tanδ峰值变化率＝|tanδ峰值wet‑tanδ峰值dry|/tanδ峰值dry×100。
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公开(公告)号：CN114450126A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202080067955.2
申请日：2020-09-18
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/22 , B24B37/26 , B24B37/013 , H01L21/304
Abstract: 本发明在被研磨物的研磨加工时防止终点检测用窗自研磨层脱落。具有终点检测用窗3B的研磨层3C如以下那样制造。首先，将成为终点检测用窗的聚合物与硬化剂混合后，使两者的混合物流入模具99中来制作柱状原材料100(图4(a))。其次，调整柱状原材料100的外周面的粗糙度，在外周面形成多个凹凸(图4(b))。继而，在将柱状原材料100收容于模框101内的状态下，使将预聚物与硬化剂混合而成的混合物流入模框101中并凝固，而制作聚氨基甲酸酯聚脲树脂成形体102(图4(c))。继而，若将聚氨基甲酸酯聚脲树脂成形体102以成为所需的厚度的方式水平地切断来制作片状构件103，则所述片状构件103成为具有终点检测用窗(3B)的研磨层(3C)(图4(d))。
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公开(公告)号：CN111212705B
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN201880066479.5
申请日：2018-10-12
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种能够在维持高研磨速率的同时减少划痕的产生的研磨垫及其制造方法。所述研磨垫是具备研磨层的研磨垫，所述研磨层具有包含大致球状的气泡的聚氨酯片，在将预先暴露于温度23℃、相对湿度30％环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(90％)，将预先暴露于温度23℃、相对湿度30％环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(30％)时，E’(90％)/E’(30％)在0.4～0.7的范围内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107000173A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580006144.0
申请日：2015-07-27
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 一种研磨刷，该研磨刷(4)，其多个离开间隔的突起部(4b)和固定突起部(4b)的支承部(4a)由具有挠性的相同的材料一体地形成，进而突起部(4b)的侧面具有多个开孔，开孔率是10～70％。另外，突起部的高度(h)和该突起部的基部的在截面形状中的外接圆的半径(r)之比(h/r)是1.0～5.0的范围。由此，在研磨被研磨物(1)时，突起部的侧面能与被研磨物(1)压接，由保持在形成于突起部的侧面上的开孔中的料浆进行研磨。没有突起部(4b)的脱落，另外，能在突起部(4b)的侧面中良好地保持料浆地进行研磨。
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公开(公告)号：CN116897097A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202280015018.1
申请日：2022-03-23
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/20
Abstract: 一种研磨垫，包括研磨层，所述研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面，所述研磨垫中，所述研磨层包含在所述研磨层内形成中空体的中空微小球体，所述研磨层的剖面具有10μm～14μm的平均开孔径，在将1μm的范围表示为1级的所述研磨层的剖面的开孔径直方图中，25μm以上的开孔数的总和相对于所述剖面的总开孔数而为5％以下，25μm以上的各级的开孔面积的总和相对于所述剖面的合计开孔面积而为20％以下。
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公开(公告)号：CN116348245A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202180065924.8
申请日：2021-09-27
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/22
Abstract: 本发明涉及具备研磨层和缓冲层的研磨垫，在干燥状态、频率10rad/s、20～100℃的弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定的40℃时的储能模量E’B40相对在干燥状态、频率10rad/s、20～100℃的压缩模式条件下进行的动态粘弹性测定的40℃时的储能模量E’C40之比E’B40/E’C40为3.0以上15.0以下，在前述弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定中的损耗因子tanδ在40℃以上70℃以下的范围内为0.10以上0.30以下。
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