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公开(公告)号：CN115023652A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202180011617.1
申请日：2021-01-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F212/08 , C09K3/00 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种正型抗蚀剂组合物、使用上述正型抗蚀剂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述正型抗蚀剂组合物含有(A)离子性化合物及(B)树脂，所述(B)树脂含有具有与上述离子性化合物中的离子性基团相互作用的相互作用性基团的重复单元(b1)，并且主链通过X射线、电子束或极紫外线的照射而分解。
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公开(公告)号：CN109643064A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201780052378.8
申请日：2017-07-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供即使将曝光的扫描速度设为超高速，也能够具有液浸液的高追随性并能够减少残渣和显影缺陷的感光化射线性或感放射线性树脂组合物等。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有具有以通式(1)所表示的重复单元的树脂(C)。图案形成方法包含通过感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜的工序，电子器件的制造方法包含图案形成方法。通式(1)中，Z表示卤素原子、以R11OCH2－所表示的基团或以R12OC(＝O)CH2－所表示的基团。R11及R12表示一价取代基。X表示氧原子或硫原子。L表示(n+1)价的连结基团。R表示如下基团，该基团具有通过碱显影液的作用而分解并在碱显影液中的溶解度增大的基团。n表示正整数。
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公开(公告)号：CN118749087A
公开(公告)日：2024-10-08
申请号：CN202380023504.2
申请日：2023-01-26
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物在极微细的图案形成中，能够形成CDU优异的图案，即使在制备后经时之后，亦能够形成CDU优异的图案。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由通式(Q1)表示的化合物(C)、及酸分解性树脂(A)。#imgabs0#Ar1表示芳香族基团。W1表示有机基团。X1表示包含选自由‑O‑、‑S‑、‑C(＝O)‑、‑S(＝O)‑及‑S(＝O)2‑所组成的组中的至少一个的连接基团。Y1表示吸电子基团。Z1表示卤素原子。M+表示阳离子。k1表示1以上的整数。k2表示1以上的整数。其中，‑X1‑W1‑所表示的基团不包含*1‑O‑C(＝O)‑*2。*1及*2表示键结位置。*1是与Ar1的键结位置。
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公开(公告)号：CN114270264A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202080058597.9
申请日：2020-07-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/00 , C07C311/51 , C07C309/06 , C07C309/17 , C07C309/12 , C07C311/14 , C07C311/48 , C07C381/12
Abstract: 本发明提供一种即使在长期保存的情况下也可得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。上述感光化射线性或放射线性树脂组合物含有酸分解性树脂及特定化合物，特定化合物具有2个以上的阳离子部位及与阳离子部位相同数量的阴离子部位，阳离子部位中的至少1个具有由通式(I)表示的基团。
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公开(公告)号：CN118679428A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202380021467.1
申请日：2023-02-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C311/51 , C07C381/12 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种粗糙度性能及经时后的粗糙度性能均优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物等。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由特定的通式(I‑1)表示的化合物(Q)和通过酸的作用分解而极性增大的树脂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114072379B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202080045638.0
申请日：2020-04-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C309/17 , C07C309/42 , C07C311/07 , C07C311/48 , C07C311/51 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法。并且，本发明的其他课题在于提供一种包括上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法的图案形成方法、及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法为至少包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物及溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，是通过上述光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物，将包含上述通过酸的作用分解而极性增大的树脂及第1溶剂的第1溶液与选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上
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公开(公告)号：CN112368640A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980039802.4
申请日：2019-07-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C309/07 , C07C309/09 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D235/18 , C07D307/00 , C07D307/33 , C07D327/06
Abstract: 本发明提供一种可获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种涉及上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：光产酸剂A，其产生通式(I)所表示且pKa为‑1.00以上的酸；选自由产生pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的酸的光产酸剂B、及共轭酸的pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的含氮化合物C组成的组中的1种以上；以及酸分解性树脂，在包含产生pKa小于‑1.00的酸的光产酸剂D情况下，光产酸剂A的含有摩尔数相对于光产酸剂D的含有摩尔数之比为1.0以上。
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公开(公告)号：CN112368640B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN201980039802.4
申请日：2019-07-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C309/07 , C07C309/09 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D235/18 , C07D307/00 , C07D307/33 , C07D327/06
Abstract: 本发明提供一种可获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种涉及上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：光产酸剂A，其产生通式(I)所表示且pKa为‑1.00以上的酸；选自由产生pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的酸的光产酸剂B、及共轭酸的pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的含氮化合物C组成的组中的1种以上；以及酸分解性树脂，在包含产生pKa小于‑1.00的酸的光产酸剂D情况下，光产酸剂A的含有摩尔数相对于光产酸剂D的含有摩尔数之比为1.0以上。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN117693716A
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202280049630.0
申请日：2022-07-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成分辨率优异、均匀性也优异的图案的图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的图案形成方法包括：抗蚀剂膜形成工序，使用相对于有机溶剂的溶解度通过曝光、酸、碱或加热的作用而增大的感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成抗蚀剂膜；曝光工序，对抗蚀剂膜进行曝光；以及显影工序，使用包含有机溶剂的显影液对曝光后的抗蚀剂膜进行显影，有机溶剂包含烃系溶剂和碳数6以下的酯系溶剂。
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公开(公告)号：CN109643064B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN201780052378.8
申请日：2017-07-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供即使将曝光的扫描速度设为超高速，也能够具有液浸液的高追随性并能够减少残渣和显影缺陷的感光化射线性或感放射线性树脂组合物等。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有具有以通式(1)所表示的重复单元的树脂(C)。图案形成方法包含通过感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜的工序，电子器件的制造方法包含图案形成方法。通式(1)中，Z表示卤素原子、以R11OCH2－所表示的基团或以R12OC(＝O)CH2－所表示的基团。R11及R12表示一价取代基。X表示氧原子或硫原子。L表示(n+1)价的连结基团。R表示如下基团，该基团具有通过碱显影液的作用而分解并在碱显影液中的溶解度增大的基团。n表示正整数。
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