公开(公告)号：CN1774525B

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN02823903.2

申请日：2002-10-25

Applicant: 应用材料有限公司

Inventor： 陈岭 ,  古文忠 ,  吴典晔 ,  仲华 ,  艾伦·奥耶 ,  诺尔曼·中岛 ,  张镁

IPC: C23C16/455

CPC classification number: H01L21/28562 ,  C23C16/34 ,  C23C16/4411 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45504 ,  C23C16/45508 ,  C23C16/45512 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/45582 ,  H01L21/76843 ,  H01L21/76846 ,  H01L21/76871

Abstract: 一种用于实施循环层淀积法，如原子层淀积的装置和方法。在一种情况下，装置包括一个衬底支承件和一个室盖，上述衬底支承件具有一个接收衬底的表面，而上述室盖包括一个锥形通道和一个底部表面，上述锥形通道从室盖的中央部分延伸，而上述底部表面从通道延伸到室盖的周边部分，底部表面加工成一定的形状和尺寸，以便基本上盖住接收衬底的表面。装置还包括一个或多个阀和一个或多个气源，上述一个或多个阀连接到逐渐扩张的通道上，而上述一个或多个气源连接到每个阀上。

公开(公告)号：CN1774525A

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：CN02823903.2

申请日：2002-10-25

Applicant: 应用材料有限公司

Inventor： 陈岭 ,  古文忠 ,  吴典晔 ,  仲华 ,  艾伦·奥耶 ,  诺尔曼·中岛 ,  张镁

IPC: C23C16/455

CPC classification number: H01L21/28562 ,  C23C16/34 ,  C23C16/4411 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45504 ,  C23C16/45508 ,  C23C16/45512 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/45582 ,  H01L21/76843 ,  H01L21/76846 ,  H01L21/76871

Abstract: 一种用于实施循环层淀积法，如原子层淀积的装置和方法。在一种情况下，装置包括一个衬底支承件和一个室盖，上述衬底支承件具有一个接收衬底的表面，而上述室盖包括一个锥形通道和一个底部表面，上述锥形通道从室盖的中央部分延伸，而上述底部表面从通道延伸到室盖的周边部分，底部表面加工成一定的形状和尺寸，以便基本上盖住接收衬底的表面。装置还包括一个或多个阀和一个或多个气源，上述一个或多个阀连接到逐渐扩张的通道上，而上述一个或多个气源连接到每个阀上。