带透明导电性氧化物膜的基体

    公开(公告)号:CN103296101A

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:CN201310062428.4

    申请日:2013-02-27

    CPC classification number: Y02E10/50

    Abstract: 本发明涉及带透明导电性氧化物膜的基体,其特征在于,依次层叠有透明基体、该基体上的第一膜、和第二膜,第二膜与第一膜相接触、膜厚为10~100nm,第一膜为透明导电性的以氧化锡为主成分的氧化物膜,至少第一膜的与第二膜相接触的表面部分为氟与锡的摩尔比为0.0001~0.09的氟掺杂氧化锡,第二膜为透明导电性的包含氧化钛和氧化锡的氧化物膜,在从第二膜的表面到与第一膜相接触的面的膜厚方向上锡与锡和钛总量的摩尔比是变化的,以从第二膜的表面起沿膜厚方向到5nm为止的深度范围的该摩尔比最大的值为表面值、以第二膜的膜厚方向上的总膜厚内的该摩尔比最小的值为最小值时表面值为0.45以上且为最小值的1.2倍以上。

    有机材料的制膜方法及装置

    公开(公告)号:CN1239269C

    公开(公告)日:2006-02-01

    申请号:CN00817612.4

    申请日:2000-11-27

    CPC classification number: H01L51/0003 B05D1/025 B05D2401/90

    Abstract: 本发明的特征是,对在50℃·1气压下为气体、但在50℃·100气压以下的压力下可液化的介质进行加压液化,然后在惰性氛围气中向基板喷射在该液化介质中溶解或分散有机材料而获得的混合材料对基板进行有机材料的喷镀;或者使具有50℃以下临界温度和100气压以下临界压力的介质处于超临界状态,然后在惰性氛围气中向基板喷射在此介质中溶解或分解有机材料而获得的混合材料对基板进行有机材料的喷镀。

    有机材料的制膜方法及装置

    公开(公告)号:CN1413129A

    公开(公告)日:2003-04-23

    申请号:CN00817612.4

    申请日:2000-11-27

    CPC classification number: H01L51/0003 B05D1/025 B05D2401/90

    Abstract: 本发明的特征是,对在50℃·1气压下为气体、但在50℃·100气压以下的压力下可液化的介质进行加压液化,然后在惰性氛围气中向基板喷射在该液化介质中溶解或分散有机材料而获得的混合材料对基板进行有机材料的喷镀;或者使具有50℃以下临界温度和100气压以下临界压力的介质处于超临界状态,然后在惰性氛围气中向基板喷射在此介质中溶解或分解有机材料而获得的混合材料对基板进行有机材料的喷镀。

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