公开(公告)号：CN105291544A

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：CN201510296626.6

申请日：2015-06-02

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 横山哲史 ,  宫越达三 ,  石川智章 ,  熊野滋人 ,  岚田和久 ,  山内优

IPC: B32B38/10 ,  B32B38/00 ,  B32B17/10

CPC classification number: B32B38/10 ,  B32B17/10 ,  B32B38/00 ,  B32B2038/0016

Abstract: 本发明涉及玻璃板的再生方法及玻璃板的再生装置。所述玻璃板的再生方法的特征在于，是去除形成在玻璃板上的树脂层的玻璃板的再生方法，其包括：去除工序，使用研磨剂、利用辊刷去除形成在前述玻璃板上的树脂层；研磨工序，对去除了前述树脂层的玻璃板的、去除了树脂层的面进行研磨。

公开(公告)号：CN104781204A

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201380059747.8

申请日：2013-11-19

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  帕卡股份有限公司

Inventor： 榎本久男 ,  佐原幸治 ,  石川智章 ,  城山厚 ,  前柳佳孝 ,  竹中敦义 ,  小林大介 ,  高桥秀幸 ,  中岛阳司

IPC: C03C23/00 ,  C11D1/44 ,  C11D3/20 ,  C11D3/34 ,  C11D3/36 ,  G02F1/1333

CPC classification number: C11D11/0064 ,  C03C23/0075 ,  C11D3/044 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/3418 ,  C11D3/362 ,  C11D11/0035 ,  C11D11/0041

Abstract: 本发明提供研磨后的玻璃基板的清洗方法，该方法可抑制在清洗后的玻璃基板表面所形成的树脂BM膜的密合性降低，防止树脂BM膜的剥离。该玻璃基板的清洗方法的特征是，对于利用含有氧化铈粒子的研磨剂进行研磨后的玻璃基板，用含有有机酸的酸性的水系清洗液进行清洗，接着用含有碱的碱性的水系清洗液进行清洗。

公开(公告)号：CN105032874A

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：CN201510220079.3

申请日：2015-04-30

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 照井弘敏 ,  石川智章 ,  横山哲史 ,  山内优

IPC: B08B11/04

CPC classification number: Y02W30/20 ,  B08B11/04

Abstract: 本发明涉及一种树脂层的去除方法，其去除配置在玻璃基板上的树脂层，具有如下工序：使碱浓度为15质量％以上且含有3质量％以上式(1)所示的化合物的碱水溶液与树脂层接触，去除树脂层，RO-(LO)n-H 式(1)，式(1)中，R表示烷基，L表示亚烷基，n表示1以上的整数。

公开(公告)号：CN106458734A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580026417.8

申请日：2015-05-18

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 小林大介 ,  竹中敦义 ,  高桥秀幸 ,  前柳佳孝 ,  石川智章

IPC: C03C23/00 ,  C03C15/02 ,  C03C19/00 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1335

CPC classification number: C03C15/02 ,  C03C19/00 ,  C03C23/00 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明提供一种玻璃基板，由含有铝的硅酸玻璃构成，从通过X射线光电子光谱法测得的所述玻璃基板的内部的铝的原子浓度与硅的原子浓度之比的值减去通过X射线光电子光谱法测得的所述玻璃基板的表面的铝的原子浓度与硅的原子浓度之比的值而得到的值为0.25以下。

公开(公告)号：CN103562366A

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：CN201280022749.5

申请日：2012-05-24

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  帕卡股份有限公司

Inventor： 榎本久男 ,  佐原幸治 ,  金子爱子 ,  石川智章 ,  横山哲史 ,  前柳佳孝 ,  田中明

IPC: C11D1/44 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  C03C23/00 ,  C11D3/34 ,  C11D3/36 ,  C11D3/37 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

CPC classification number: C03C23/0075 ,  C11D1/44 ,  C11D3/1213 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/3418 ,  C11D3/3454 ,  C11D3/362

Abstract: 本发明涉及清洗剂和玻璃基板的清洗方法。在不损害用含氧化铈的研磨剂研磨后的玻璃基板的平坦性的情况下，将残留、附着于表面上的研磨磨粒分散、除去。该清洗剂是用于对用含氧化铈的研磨剂研磨后的玻璃基板进行清洗的、包含(A)有机膦酸、(B)多元羧酸盐、(C)芳族磺酸和(D)胺－环氧烷加成物的水系清洗剂。玻璃基板的清洗方法包括：使用含有氧化铈的研磨剂对玻璃基板进行研磨的研磨工序，以及利用上述清洗剂对该研磨工序后的该玻璃基板进行清洗的清洗工序。