半导体激光装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101483318B

    公开(公告)日:2011-11-23

    申请号:CN200910001611.7

    申请日:2009-01-09

    Abstract: 提供一种抑制活性层发生结晶缺陷,并改善对发光点施加的应力的非对称性,从而可防止可靠性降低且提高偏光特性的半导体激光装置。在由n型GaAs构成的基板(10)上集成有红色激光部(1)和红外激光部(2)。在红色激光部(1)的由p型AlGaInP构成的p型金属包层(14)、和红外激光部(2)的由p型AlGaInP构成的p型金属包层(24),分别设置有具有发光点的脊条部,在各脊条部的两侧方形成有由SiNx构成的电流阻碍层(15A),在电流阻碍层(15A)上的各脊条部的外侧的区域中,选择性形成有由ZrO2构成的应变缓和层(15B)。当设p型金属包层(14、24)的热膨胀系数为Tc、电流阻碍层(15A)的热膨胀系数为Tb、应变缓和层(15B)的热膨胀系数为Tc时,满足Tb<Tc<Ts的关系。

    半导体激光装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101483318A

    公开(公告)日:2009-07-15

    申请号:CN200910001611.7

    申请日:2009-01-09

    Abstract: 提供一种抑制活性层发生结晶缺陷,并改善对发光点施加的应力的非对称性,从而可防止可靠性降低且提高偏光特性的半导体激光装置。在由n型GaAs构成的基板(10)上集成有红色激光部(1)和红外激光部(2)。在红色激光部(1)的由p型AlGaInP构成的p型金属包层(14)、和红外激光部(2)的由p型AlGaInP构成的p型金属包层(24),分别设置有具有发光点的脊条部,在各脊条部的两侧方形成有由SiNx构成的电流阻碍层(15A),在电流阻碍层(15A)上的各脊条部的外侧的区域中,选择性形成有由ZrO2构成的应变缓和层(15B)。当设p型金属包层(14、24)的热膨胀系数为Tc、电流阻碍层(15A)的热膨胀系数为Tb、应变缓和层(15B)的热膨胀系数为Tc时,满足Tb<Tc<Ts的关系。

Patent Agency Ranking