公开(公告)号：CN1133350A

公开(公告)日：1996-10-16

申请号：CN95119064.4

申请日：1995-12-05

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 横山政秀 ,  早田博 ,  森诚一郎 ,  末光敏行 ,  大野锐二

IPC: C23C14/35

CPC classification number: C23C14/35

Abstract: 本发明揭示一种磁控管溅射装置，它在同一中心轴(1)的周围配设多块直径不同的环状平板靶(2、3)；在各靶(2、3)中，沿其内周缘部位置的表侧和里侧分别配设具有相同极性的磁铁(21、22、23、24)，沿其外周缘部位置的表侧和里侧分别配置具有相同极性的磁铁(23、24、25、26)，并配设成使内周侧与外周侧极性相反。具有不产生靶局部侵蚀的效果。

公开(公告)号：CN1181218C

公开(公告)日：2004-12-22

申请号：CN95119064.4

申请日：1995-12-05

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 横山政秀 ,  早田博 ,  森诚一郎 ,  末光敏行 ,  大野锐二

IPC: C23C14/35

CPC classification number: C23C14/35

Abstract: 本发明揭示一种磁控管溅射装置，它在同一中心轴(1)的周围配设多块直径不同的环状平板靶(2、3)；在各靶(2、3)中，沿其内周缘部位置的表侧和里侧分别配设具有相同极性的磁铁(21、22、23、24)，沿其外周缘部位置的表侧和里侧分别配置具有相同极性的磁铁(23、24、25、26)，并配设成使内周侧与外周侧极性相反。具有不产生靶局部侵蚀的效果。