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公开(公告)号：CN114270083A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202080056892.0
申请日：2020-06-12
Applicant: 株式会社富士金
IPC: F16K7/14
Abstract: 本发明提供一种隔膜阀，其具备：阀体(3)，其形成有流路(2)；阀座(4)，其形成于所述流路；金属隔膜(5)，其通过相对于该阀座抵接或远离而开闭所述流路；一对夹持部(6、7)，其分别夹持该金属隔膜的两侧面的周缘部而将所述金属隔膜固定于所述阀体；以及致动器(8)，其使所述金属隔膜相对于所述阀座抵接或者远离，所述金属隔膜的阀座侧面(5a)在除了该阀座侧面与所述夹持部(7)的夹持区域(D‑C)以外的区域、且在被所述夹持区域包围的区域(C)内的至少与所述阀座的接触区域(B‑A)形成有氟树脂涂层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104081304B
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201280068410.9
申请日：2012-10-17
Applicant: 株式会社富士金
CPC classification number: G05D7/0641 , G05D7/0664 , Y10T137/2544
Abstract: 一种半导体制造装置的气体分流供给装置，具备：操纵阀(3)，其形成压力式流量控制部(1a)；气体供给主管(8)，其连通于操纵阀(3)的下游侧；节流孔(6)，其设于操纵阀(3)下游侧的气体供给主管(8)；多个分支管路(9a、9n)，其并列状地连接于气体供给主管(8)的下游侧；分支管路开闭阀(10a、10n)，其间置于各分支管路(9a、9n)；压力传感器(5)；分流气体出口(11a、11n)，其设于各分支管路(9a、9n)的出口侧；以及运算控制部(7)，其中，对阀驱动部(3a)输出使所述操纵阀(3)朝运算流量值与设定流量值之差减少的方向开闭动作的控制信号Pd，并且对分支管路开闭阀(10a、10n)输出使各分支管路开闭阀(10a、10n)各自依次打开一定时间之后使其封闭的开闭控制信号(Oda、Odn)，利用压力式流量控制部(1a)进行流通过节流孔(6)的过程气体的流量控制，并且通过分支管路开闭阀(10a、10n)的开闭来分流供给过程气体。
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公开(公告)号：CN108780332A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780004964.5
申请日：2017-02-23
Applicant: 株式会社富士金
Abstract: 本发明所涉及的流量控制装置具有：控制阀；设置于所述控制阀的下游侧的第一流路；第二流路；和设置于所述第一流路和所述第二流路之间的扩张室，所述第二流路设置在与所述第一流路的延长线不同的位置。
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公开(公告)号：CN104081304A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201280068410.9
申请日：2012-10-17
Applicant: 株式会社富士金
CPC classification number: G05D7/0641 , G05D7/0664 , Y10T137/2544
Abstract: 一种半导体制造装置的气体分流供给装置，具备：操纵阀(3)，其形成压力式流量控制部(1a)；气体供给主管(8)，其连通于操纵阀(3)的下游侧；节流孔(6)，其设于操纵阀(3)下游侧的气体供给主管(8)；多个分支管路(9a、9n)，其并列状地连接于气体供给主管(8)的下游侧；分支管路开闭阀(10a、10n)，其间置于各分支管路(9a、9n)；压力传感器(5)；分流气体出口(11a、11n)，其设于各分支管路(9a、9n)的出口侧；以及运算控制部(7)，其中，对阀驱动部(3a)输出使所述操纵阀(3)朝运算流量值与设定流量值之差减少的方向开闭动作的控制信号Pd，并且对分支管路开闭阀(10a、10n)输出使各分支管路开闭阀(10a、10n)各自依次打开一定时间之后使其封闭的开闭控制信号(Od1、Odn)，利用压力式流量控制部(1a)进行流通过节流孔(6)的过程气体的流量控制，并且通过分支管路开闭阀(10a、10n)的开闭来分流供给过程气体。
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公开(公告)号：CN103003766B
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201180037208.5
申请日：2011-06-28
Applicant: 株式会社富士金
CPC classification number: G01F7/005 , G01F1/34 , G01F15/002 , G01F15/005 , G01F25/0053 , G05D7/0652 , Y10T137/0324
Abstract: 仅将被校正流量控制器的出口侧开闭阀开放，而使设定流量的气体向校正单元（5）流入，在箱内气体压力及气体温度稳定的时刻t0，计测第1次的箱内的气体温度T0及气体压力P0，然后将校正单元（5）的出口侧开闭阀（V2）封闭，进行向箱（BT）内的气体的积累，在时刻t1将入口侧开闭阀（V1）封闭，并在该入口侧开闭阀（V1）的封闭后的时刻t2计测第2次的气体温度T2及气体压力P2，根据各计测值将气体流量Q作为Q=（22.4V/R？Δt）×（P2/T2－P0/T0）（其中，V是箱（BT）的内容积，R是气体常数，Δt是积累时间t1－t0）运算，通过设定气体流量与运算气体流量Q的对比进行流量校正。
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公开(公告)号：CN103003766A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201180037208.5
申请日：2011-06-28
Applicant: 株式会社富士金
CPC classification number: G01F7/005 , G01F1/34 , G01F15/002 , G01F15/005 , G01F25/0053 , G05D7/0652 , Y10T137/0324
Abstract: 仅将被校正流量控制器的出口侧开闭阀开放而使设定流量的气体向校正单元（5）流入，在箱内气体压力及气体温度稳定的时刻t0，计测第1次的箱内的气体温度T0及气体压力P0，然后将校正单元（5）的出口侧开闭阀（V2）封闭而进行向箱（BT）内的气体的积累，在时刻t1将入口侧开闭阀（V1）封闭，并在该入口侧开闭阀（V1）的封闭后的时刻t2计测第2次的气体温度T2及气体压力P2，根据各计测值将气体流量Q作为Q=（22.4V/R･Δt）×（P2/T2－P0/T0）（其中，V是箱（BT）的内容积，R是气体常数，Δt是积累时间t1－t0）运算，通过设定气体流量与运算气体流量Q的对比进行流量校正。
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