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公开(公告)号：CN102455573B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201110310146.2
申请日：2011-10-10
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03B21/14 , G03B21/28 , H04N9/3102
Abstract: 本发明提供一种投影光学系统，配置为投影图像到投影表面上，包括：第一光学系统，包括至少一个屈光系统，并且整体上具有正的屈光度；第二光学系统，包括反射区域和透射区域；以及第三光学系统，包括至少一个具有屈光度的反射表面，并且整体上具有正的屈光度；其中，进入投影光学系统的光穿过第一光学系统，该光具有被第二光学系统的反射区域弯曲后入射到第三光学系统的光路，并且入射到第三光学系统的光具有被第三光学系统弯曲以穿过第二光学系统的透射区域来入射到投影表面上的光路。
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公开(公告)号：CN102893197A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201180024284.2
申请日：2011-05-09
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B17/08 , G02B17/0852 , G03B21/14 , G03B21/28
Abstract: 本发明所揭示的投影光学系统将图像投影在被投影面上。投影光学系统包括第一光学系统、折叠镜和第二光学系统，该第一光学系统包括至少一个折射光学系统并在总体上具有正光焦度，该第二光学系统包括至少一个具有光焦度的反射面并在总体上具有正光焦度。更进一步地，折叠镜将光路从第一光学系统折叠至第二光学系统，并在包括第一光学系统的光轴和被投影面的法线的平面上，满足以下条件表达式（1）至（3）：（1）0.43≤d1、（2）0.43≤d2和（3）0.7≤d2/d1≤2.0。
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公开(公告)号：CN102346303A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201110217870.0
申请日：2011-07-21
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03B21/28
Abstract: 一种投影光学系统和图像投影装置，该投影光学系统包括第一光学系统、第二光学系统以及第一和第二反射镜。第一和第二反射镜被布置在图像形成元件和第二光学系统的反射面之间的光路上，以便从第二反射镜到反射面的光束的光路的方向包含与从图像形成元件到第一光学系统的预定方向相反的方向的分量，并且在共轭面上依次排列图像形成元件在共轭面上的投影图像、反射面到共轭面上的投影和图像形成元件到共轭面上的投影。
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公开(公告)号：CN102227666A
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：CN200980147285.9
申请日：2009-09-24
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B13/04 , G02B9/60 , G02B13/0045 , G02B13/18
Abstract: 一种广角透镜，包括：成像透镜系统，包括：从物侧到像侧按顺序安排的前透镜组、孔径和后透镜组；其中，所述前透镜组包括从物侧到孔径侧按顺序安排的分别具有负屈光力的第一和第二透镜元件、以及作为正透镜的第三透镜；其中，所述后透镜组包括从孔径侧到像侧按顺序安排的分别具有正屈光力的第四和第五透镜元件；其中，穿过孔径的最大视角的主光线到成像透镜系统的光轴的入射角是θI，满足以下表达式1：40°(度)＜θI＜60°(度)...表达式1。
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公开(公告)号：CN102103312A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN201110038832.9
申请日：2008-09-08
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明公开的是一种投影光学设备，包括：由具有屈光力的多个光学元件构成的形成与物体共轭的像的投影光学系统；以及构造为所述与物体共轭的像被投射的投影表面；没有屈光力的偏转元件，其被配置为偏转从所述投影光学系统出射的光束的光路以在所述多个光学元件之间通过所述光路被偏转的光束，其中在所述投影表面中心的投影表面法线不通过所述多个光学元件或所述多个光学元件之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101256273A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200710164879.3
申请日：2007-09-17
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B27/0025 , G02B17/08 , G02B17/0852 , G03B21/14 , G03B21/147 , G03B21/28 , H04N9/3102
Abstract: 提供一种投影光学系统，该投影光学系统包括：配置成形成与第一图像共轭的第二图像的第一光学系统和配置成包括反射来自该第二图像的光的反射光学元件并在投影表面上投影与该第二图像共轭的第三图像的第二光学系统，其中所述第一光学系统具有其符号与所述第二光学系统的佩茨瓦尔和的符号相反的佩茨瓦尔和。
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公开(公告)号：CN113495277A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110280215.3
申请日：2021-03-16
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明涉及物体检测装置和移动体，其目的在于光扫描装置中的偏转面的小型化。本发明的物体检测装置(100)具备用于发光的发光装置(11)；使得用来偏转光的偏转面转动以扫描光的光扫描装置(13)；经由光扫描装置向检测区域(500)投射光的投射光学系统(12)；会聚受到检测区域中存在的物体反射的反射光和散射光之中至少一方的光的聚光光学系统(14)；以及输出经过聚光光学系统会聚的反射光和散射光之中至少一方的光的受光信号的受光装置(15)，聚光光学系统的聚光中心轴(14a)与投射光学系统的投射中心轴(12a)不平行。
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公开(公告)号：CN102998782B
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201210448436.8
申请日：2012-09-12
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B17/0852 , G02B17/08
Abstract: 公开了一种投影光学系统，其包括第一光学系统和第二光学系统，该第一光学系统构造为形成与物体共轭的第一图像并具有光轴，该第二光学系统构造为投影与第一图像共轭的第二图像到要投影到其上的表面上，其中，该第一图像满足以下条件：Im×Tr≤1.70其中Im表示该第一图像在该第一光学系统的光轴方向上的长度，该Im被该第一光学系统的焦距标准化，并且Tr表示该投影光学系统的投射比。
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公开(公告)号：CN102455573A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201110310146.2
申请日：2011-10-10
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03B21/14 , G03B21/28 , H04N9/3102
Abstract: 本发明提供一种投影光学系统，配置为投影图像到投影表面上，包括：第一光学系统，包括至少一个屈光系统，并且整体上具有正的屈光度；第二光学系统，包括反射区域和透射区域；以及第三光学系统，包括至少一个具有屈光度的反射表面，并且整体上具有正的屈光度；其中，进入投影光学系统的光穿过第一光学系统，该光具有被第二光学系统的反射区域弯曲后入射到第三光学系统的光路，并且入射到第三光学系统的光具有被第三光学系统弯曲以穿过第二光学系统的透射区域来入射到投影表面上的光路。
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公开(公告)号：CN101395516B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200780007707.3
申请日：2007-11-28
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03B21/2066 , G02B17/0852 , G02B17/0896 , G03B21/005 , G03B21/10 , G03B21/28
Abstract: 一种投影光学系统，包括第一光学系统和第二光学系统，第一光学系统构成为形成与物体共轭的第一图像，第二光学系统构成为朝投影面投影与第一图像共轭的第二图像，其中至少第一光学系统和第二光学系统之一包括相对于所述物体可移动的至少一个光学元件，其中，通过相对于所述物体移动所述光学元件中的至少一个，改变投影光学系统的像距和改变第二图像的尺寸。
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