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公开(公告)号：CN113614604B
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202080018996.2
申请日：2020-03-11
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种光源装置，包括光源和投射光学系统。光源包括多个光发射器。投射光学系统被配置为发射从光源发射的光。对应于投射光学系统的放大率相对较大的被照射区域的光源的光发射区域中的每单位面积的光发射量大于对应于投射光学系统的放大率相对较小的被照射区域的光发射区域中的每单位面积的光发射量。
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公开(公告)号：CN113316875B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202080008875.X
申请日：2020-01-28
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种表面发射激光器模块包括基部基板；安装在该基部基板上的表面发射激光器基板，该表面发射激光器基板包括表面发射激光器元件，并且表面发射激光器基板具有面向基部基板的第一面和背向基部基板的第二面；以及面向第二面并包括被构造为接收从表面发射激光器元件的第二面发射的光的光学元件。表面发射激光器元件包括第一半导体层、第二半导体层、设置在第一面上并连接到第一半导体层的第一电极、以及设置在第一面上并连接到第二半导体层的第二电极。基部基板包括连接到第一电极的第三电极和连接到第二电极的第四电极。
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公开(公告)号：CN111837055B
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN201980018066.4
申请日：2019-02-01
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明的课题在于，一种光学装置,包括光源，其具有多个发射激光束的面发光激光元件；扫描光源发射的激光束的扫描仪；以及光学系统，其设置在光源和扫描仪之间的光路中并引导激光束到扫描仪。光学系统包括第一光学元件，控制光源发射的激光束的发散角，以及第二光学元件，聚光已经通过第一光学元件去往扫描仪待扫描表面的激光束。
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公开(公告)号：CN117063358A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202280019589.2
申请日：2022-02-08
Applicant: 株式会社理光
IPC: H01S5/042
Abstract: 本发明涉及一种面发光激光器阵列，其包括:基板(101)；设置在基板(101)上的子阵列，子阵列包括互相并联地电连接以通过基板(101)发射光的面发射激光器器件，面发射激光器器件中的每一个具有发光点并包括第一导电型的第一半导体层(102)；第二导电型的第二半导体层(107)，以及设置在第一半导体层(102)和第二半导体层(107)之间的谐振器(104)。互相相邻的子阵列包括电极来将子阵列之一所包含的表面发射激光器器件中的第一半导体层(102)与第二半导体层(107)电连接。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113316875A
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN202080008875.X
申请日：2020-01-28
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种表面发射激光器模块包括基部基板；安装在该基部基板上的表面发射激光器基板，该表面发射激光器基板包括表面发射激光器元件，并且表面发射激光器基板具有面向基部基板的第一面和背向基部基板的第二面；以及面向第二面并包括被构造为接收从表面发射激光器元件的第二面发射的光的光学元件。表面发射激光器元件包括第一半导体层、第二半导体层、设置在第一面上并连接到第一半导体层的第一电极、以及设置在第一面上并连接到第二半导体层的第二电极。基部基板包括连接到第一电极的第三电极和连接到第二电极的第四电极。
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公开(公告)号：CN111837055A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN201980018066.4
申请日：2019-02-01
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明的课题在于，一种光学装置,包括光源，其具有多个发射激光束的面发光激光元件；扫描光源发射的激光束的扫描仪；以及光学系统，其设置在光源和扫描仪之间的光路中并引导激光束到扫描仪。光学系统包括第一光学元件，控制光源发射的激光束的发散角，以及第二光学元件，聚光已经通过第一光学元件去往扫描仪待扫描表面的激光束。
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公开(公告)号：CN111869022B
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN201980019686.X
申请日：2019-03-14
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 表面发射激光器阵列包括多个表面发射激光器元件、多个光学元件和光屏蔽构件。多个表面发射激光器元件被布置在基板的第一表面上并被配置为沿与第一表面交叉的方向发射光。多个光学元件布置在与基板的第一表面相反的第二表面上，以对应于表面发射激光器元件并被配置为改变光的辐射角。光屏蔽构件布置在基板的第二表面上的光学元件之间的区域中。
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公开(公告)号：CN113614604A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202080018996.2
申请日：2020-03-11
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种光源装置，包括光源和投射光学系统。光源包括多个光发射器。投射光学系统被配置为发射从光源发射的光。对应于投射光学系统的放大率相对较大的被照射区域的光源的光发射区域中的每单位面积的光发射量大于对应于投射光学系统的放大率相对较小的被照射区域的光发射区域中的每单位面积的光发射量。
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公开(公告)号：CN111869022A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980019686.X
申请日：2019-03-14
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 表面发射激光器阵列包括多个表面发射激光器元件、多个光学元件和光屏蔽构件。多个表面发射激光器元件被布置在基板的第一表面上并被配置为沿与第一表面交叉的方向发射光。多个光学元件布置在与基板的第一表面相反的第二表面上，以对应于表面发射激光器元件并被配置为改变光的辐射角。光屏蔽构件布置在基板的第二表面上的光学元件之间的区域中。
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