公开(公告)号：CN113614604B

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202080018996.2

申请日：2020-03-11

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 佐藤拓海 ,  池应敏行 ,  泉谷一磨 ,  植野刚

IPC: G02B19/00 ,  G02B27/09 ,  G01S17/10 ,  G01S17/89 ,  G01S7/481 ,  H01S5/42 ,  H01S5/183

Abstract: 一种光源装置，包括光源和投射光学系统。光源包括多个光发射器。投射光学系统被配置为发射从光源发射的光。对应于投射光学系统的放大率相对较大的被照射区域的光源的光发射区域中的每单位面积的光发射量大于对应于投射光学系统的放大率相对较小的被照射区域的光发射区域中的每单位面积的光发射量。

公开(公告)号：CN111837055B

公开(公告)日：2024-11-01

申请号：CN201980018066.4

申请日：2019-02-01

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 池应敏行 ,  山田泰史 ,  坂井笃 ,  轴谷直人 ,  植野刚 ,  塚本宣就 ,  仲村忠司 ,  泉谷一磨 ,  铃木修一

IPC: G01S17/42 ,  G01S17/89 ,  G01S7/481 ,  G02B26/12 ,  G02B27/01

Abstract: 本发明的课题在于，一种光学装置,包括光源，其具有多个发射激光束的面发光激光元件；扫描光源发射的激光束的扫描仪；以及光学系统，其设置在光源和扫描仪之间的光路中并引导激光束到扫描仪。光学系统包括第一光学元件，控制光源发射的激光束的发散角，以及第二光学元件，聚光已经通过第一光学元件去往扫描仪待扫描表面的激光束。

公开(公告)号：CN116783622A

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN202280012828.1

申请日：2022-01-13

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 冈本敏弘 ,  青木伸 ,  木村辅宏 ,  永岛健司 ,  池应敏行 ,  横田聪一郎

IPC: G06T7/73

Abstract: 根据本发明的实施例的信息处理设备(50)处理关于由移动体(10)移动的物体(30)的位置信息，并且包括被配置为输出关于物体(30)的位置信息的输出单元(57)。关于物体(30)的位置信息是基于表示物体(30)是否被移动体(10)保持的保持信息和关于移动体(10)的位置信息而获得的。基于由成像装置(20)捕获的捕获图像来获得关于移动体(10)的位置信息。

公开(公告)号：CN111837055A

公开(公告)日：2020-10-27

申请号：CN201980018066.4

申请日：2019-02-01

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 池应敏行 ,  山田泰史 ,  坂井笃 ,  轴谷直人 ,  植野刚 ,  塚本宣就 ,  仲村忠司 ,  泉谷一磨 ,  铃木修一

IPC: G01S17/42 ,  G01S17/89 ,  G01S7/481 ,  G02B26/12 ,  G02B27/01

Abstract: 本发明的课题在于，一种光学装置,包括光源，其具有多个发射激光束的面发光激光元件；扫描光源发射的激光束的扫描仪；以及光学系统，其设置在光源和扫描仪之间的光路中并引导激光束到扫描仪。光学系统包括第一光学元件，控制光源发射的激光束的发散角，以及第二光学元件，聚光已经通过第一光学元件去往扫描仪待扫描表面的激光束。

公开(公告)号：CN111869022B

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN201980019686.X

申请日：2019-03-14

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 沼田雅之 ,  池应敏行 ,  泉谷一磨 ,  植野刚 ,  轴谷直人

IPC: H01S5/183 ,  H01S5/42

Abstract: 表面发射激光器阵列包括多个表面发射激光器元件、多个光学元件和光屏蔽构件。多个表面发射激光器元件被布置在基板的第一表面上并被配置为沿与第一表面交叉的方向发射光。多个光学元件布置在与基板的第一表面相反的第二表面上，以对应于表面发射激光器元件并被配置为改变光的辐射角。光屏蔽构件布置在基板的第二表面上的光学元件之间的区域中。

公开(公告)号：CN113614604A

公开(公告)日：2021-11-05

申请号：CN202080018996.2

申请日：2020-03-11

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 佐藤拓海 ,  池应敏行 ,  泉谷一磨 ,  植野刚

IPC: G02B19/00 ,  G02B27/09 ,  G01S17/10 ,  G01S17/89 ,  G01S7/481 ,  H01S5/42 ,  H01S5/183

Abstract: 一种光源装置，包括光源和投射光学系统。光源包括多个光发射器。投射光学系统被配置为发射从光源发射的光。对应于投射光学系统的放大率相对较大的被照射区域的光源的光发射区域中的每单位面积的光发射量大于对应于投射光学系统的放大率相对较小的被照射区域的光发射区域中的每单位面积的光发射量。

公开(公告)号：CN111869022A

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201980019686.X

申请日：2019-03-14

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 沼田雅之 ,  池应敏行 ,  泉谷一磨 ,  植野刚 ,  轴谷直人

IPC: H01S5/183 ,  H01S5/42

Abstract: 表面发射激光器阵列包括多个表面发射激光器元件、多个光学元件和光屏蔽构件。多个表面发射激光器元件被布置在基板的第一表面上并被配置为沿与第一表面交叉的方向发射光。多个光学元件布置在与基板的第一表面相反的第二表面上，以对应于表面发射激光器元件并被配置为改变光的辐射角。光屏蔽构件布置在基板的第二表面上的光学元件之间的区域中。