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公开(公告)号：CN115885063B
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202280005429.2
申请日：2022-06-20
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 一种阳极室的液体管理方法，包括如下步骤：准备镀敷槽，上述镀敷槽配置有阳极和与上述阳极的上表面接触或者紧贴的隔膜，并具备由上述隔膜分隔出的上方的阴极室和下方的阳极室以及与上述阳极室连通而用于从上述阳极室向上述镀敷槽的外部排出气泡的排气通路；在上述阳极室和上述阴极室保持镀敷液，并使上述阳极室的镀敷液的液面亦即上述排气通路内的镀敷液的液面比上述阴极室的镀敷液的液面低；基于配置于上述排气通路内的液面传感器的输出，辨别上述排气通路内的镀敷液的液面的高度是否不足规定高度；以及在辨别为上述排气通路内的镀敷液的液面的高度不足规定高度时，对上述阳极室供给纯水或者电解液。
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公开(公告)号：CN115210413B
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202180016348.8
申请日：2021-06-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种顺畅地进行镀覆液向被镀覆面的接触并且能够抑制气泡残留于被镀覆面的镀覆装置。镀覆装置的基板保持器具有：头部模块，用于与基板接触来进行保持；倾斜模块，构成为使头部模块倾斜；以及升降模块，构成为使头部模块升降。倾斜模块具有：第一部件；第二部件，支承头部模块并且相对于第一部件连接为能够绕旋转轴旋转；以及致动器，用于使第二部件绕旋转轴旋转。旋转轴从保持于头部模块的基板的中心偏移，升降模块构成为通过使倾斜模块的第一部件升降来使基板保持器升降。
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公开(公告)号：CN119487241A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202380049777.4
申请日：2023-09-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 富田正辉
Abstract: 本发明抑制因从阳极产生的气泡导致的镀覆不良的产生，并且使与镀覆液的供给有关的构造简化。镀覆模块(400)包括：镀覆槽(410)，其用于收容镀覆液；阳极(430)，其配置于镀覆槽(410)内；基板支架(440)，其构成为在使被镀覆面(Wf‑a)朝向下方的状态下保持基板(Wf)；隔膜(420)，其将配置有阳极(430)的阳极区域(424)和在镀覆处理时供基板(Wf)配置的阴极区域(422)分隔，隔膜具有与阳极(430)对置的倾斜面(423a)；供给口(412)，其用于向阳极区域(424)供给镀覆液；以及气液配管(470)，其具有在隔膜(420)的倾斜面(423a)的上端附近开口的第一端部(472)、和在比镀覆处理时的基板的被镀覆面靠上方开口的第二端部(474)，该气液配管构成为将从供给口(412)供给至阳极区域(424)的镀覆液经由第二端部(474)向阴极区域(422)供给。
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公开(公告)号：CN118843721A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202380021794.7
申请日：2023-08-23
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 镀敷装置包括：基板搬运室(701)；风扇过滤单元(408)，配置于基板搬运室(701)的上方；镀敷室(401)，配置于基板搬运室(701)的侧面；排气室(702)，配置于基板搬运室(701)的下方；分隔部件(720)，将基板搬运室(701)和排气室(702)之间分隔；以及绕行流路(730)，以绕行分隔部件(720)的方式将基板搬运室(701)和排气室(702)连通，镀敷室(401)具有：供给口(404)，用于将通过风扇过滤单元(408)供给至基板搬运室(701)的气体供给至镀敷室(401)；以及排出口(405)，用于将供给至镀敷室(401)的气体向外部排出，排气室(702)具有排气口(703)，该排气口(703)用于将经由绕行流路(730)供给至排气室(702)的气体向外部排出。
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公开(公告)号：CN118829749A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202280093218.9
申请日：2022-12-20
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D21/10
Abstract: 本发明在整个电阻体高效地除去气泡。本发明包括：镀覆槽(410)，其构成为收容镀覆液；基板支架(440)，其构成为保持被镀覆面朝向下方的基板(Wf)；阳极(430)，其配置在镀覆槽(410)内；电阻体(450)，其配置在基板(Wf)与阳极(430)之间；搅拌部件(480)，其配置在基板(Wf)与电阻体(450)之间；以及驱动机构(482)，其构成为使搅拌部件(480)沿着基板(Wf)的被镀覆面往复运动，驱动机构(482)构成为，在用于除去附着于电阻体(450)的气泡的除泡处理时，执行使搅拌部件(480)以第一位置为中心进行往复运动的第一气泡除去动作、和使搅拌部件(480)以与第一位置不同的第二位置为中心进行往复运动的第二气泡除去动作。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111005059B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN201910910467.2
申请日：2019-09-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供清洗装置、具备该清洗装置的电镀装置以及清洗方法，能够使喷嘴配置于基板支架的密封环支架与底板之间，并且能够抑制装置尺寸的增大。提供对具有第一保持部件、和具备使基板露出的开口的第二保持部件的基板支架进行清洗的清洗装置。该清洗装置具有：清洗槽，其构成为收容基板支架；致动器，其构成为使第二保持部件从第一保持部件分离；以及清洗喷嘴，其构成为对收容于清洗槽的基板支架排出清洗液。清洗喷嘴构成为通过第二保持部件的开口。
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公开(公告)号：CN117460866B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202280006000.5
申请日：2022-06-17
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种可清洗触点清洗部件的镀覆装置。镀覆装置包括：镀覆槽，构成为收容镀覆液；基板保持器，构成为保持被镀覆面朝向下方的基板，且具有用于对基板供电的触点部件；触点清洗部件(482)，用于在位于镀覆槽与基板保持器之间的清洗位置时朝向触点部件排出清洗液；驱动机构(476)，构成为使触点清洗部件(482)在清洗位置与退避位置之间移动，该退避位置是从镀覆槽与基板保持器之间退避了的位置；以及喷嘴清洗用罩(489)，构成为在触点清洗部件(482)位于退避位置时覆盖触点清洗部件(482)的上部。
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公开(公告)号：CN115552060B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202180026492.X
申请日：2021-10-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明抑制产生对接触部件的供电不均。基板支架具备：框状的支承机构，其构成为被多个支柱悬挂保持，并对基板的被镀覆面的外周部进行支承；背板组件，其构成为配置于基板的被镀覆面的背面侧，并与支承机构一起夹持基板；接触部件(468)，其配置于支承机构；以及多个电源线部件(461)。接触部件(468)具有与基板的被镀覆面的外周部接触的供电触点、和与电源连接的多个电源连接部(469b)。多个电源线部件(461)从电源通过多个支柱与多个电源连接部(469b)连接，并布线成从电源至多个电源连接部(469b)为止的距离相等。
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公开(公告)号：CN116324046A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180040817.X
申请日：2021-11-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D21/08
Abstract: 镀覆模块包括：镀覆槽，构成为收容镀覆液；基板保持器，构成为保持被镀覆面朝向下方的基板；旋转机构，构成为使基板保持器旋转；触点部件(494‑4)，具有与保持于基板保持器的基板的被镀覆面的外周部接触的基板接点(494‑4a)、及比基板接点(494‑4a)向上方延伸的主体部(494‑4b)，该触点部件安装于基板保持器；以及触点清洗部件(482)，用于从基板保持器的下方朝向触点部件(494‑4)的主体部(494‑4b)排出清洗液。
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