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公开(公告)号：CN102077051B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200980124818.1
申请日：2009-01-16
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: G01B11/25
CPC classification number: G01B11/0675
Abstract: 本发明涉及厚度或表面形貌检测方法，根据本发明的厚度或表面形貌检测方法，利用白色光干涉计检测层叠在基底层上的薄膜层的厚度或表面形貌，其包括以下步骤：设置多个具有不同厚度的假想的薄膜层样品，并对各个薄膜层样品模拟出干涉信号，以形成与每一个厚度对应的模拟干涉信号的步骤；向所述薄膜层照射白色光，获得相对于入射到所述薄膜层的光轴方向的实际干涉信号的步骤；根据所述实际干涉信号，形成可能成为所述薄膜层厚度的多个厚度估算值的步骤；对具有与所述厚度估算值对应的厚度的模拟干涉信号与所述实际干涉信号进行比较并判断是否基本一致的步骤；以及将与所述实际干涉信号基本一致的模拟干涉信号的厚度确定为所述薄膜层的厚度的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101802543A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200880106944.X
申请日：2008-04-02
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: G01B11/06
CPC classification number: G01B11/0625
Abstract: 本发明涉及一种厚度测定装置，包括：第一分光器，用于反射或透射从光源照射的光或者由被测对象反射的光；第一透镜部，用于向被测对象会聚光，并生成与所述由被测对象反射到的光存在光路径差的基准光；第二透镜部，用于向被测对象会聚光；干涉光检测器，其与所述第一透镜部相对应形成光路径，并测出通过由所述被测对象反射的光和所述基准光所产生的干涉信号；分光检测器，其与所述第二透镜部相对应形成与通过所述干涉光检测器形成的光路径不同的光路径，并分光由所述被测对象反射的光，以检测出被分光的光的强度和波长；及光路径变换部，有选择地向干涉光检测器或者分光检测器中的其中一侧传送光。第一透镜部和第二透镜部可在光路径上交换位置。
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公开(公告)号：CN102077051A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200980124818.1
申请日：2009-01-16
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: G01B11/25
CPC classification number: G01B11/0675
Abstract: 本发明涉及厚度或表面形貌检测方法，根据本发明的厚度或表面形貌检测方法，利用白色光干涉计检测层叠在基底层上的薄膜层的厚度或表面形貌，其包括以下步骤：设置多个具有不同厚度的假想的薄膜层样品，并对各个薄膜层样品模拟出干涉信号，以形成与每一个厚度对应的模拟干涉信号的步骤；向所述薄膜层照射白色光，获得相对于入射到所述薄膜层的光轴方向的实际干涉信号的步骤；根据所述实际干涉信号，形成可能成为所述薄膜层厚度的多个厚度估算值的步骤；对具有与所述厚度估算值对应的厚度的模拟干涉信号与所述实际干涉信号进行比较并判断是否基本一致的步骤；以及将与所述实际干涉信号基本一致的模拟干涉信号的厚度确定为所述薄膜层的厚度的步骤。
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公开(公告)号：CN101689497A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200880012597.4
申请日：2008-04-10
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32357 , H01J37/32825 , H01J37/32935 , H05H1/0025
Abstract: 本发明的等离子监控装置，包括：等离子供给装置，具有电源供给部，用于供给电源；供给线，用于供给反应气体；放射喷嘴，向处理对象物放射所述等离子供给装置内部所产生的等离子；和摄像部，其以图像映像方式获得从等离子供给装置放射的等离子的放射状态；以及控制部，用于把数值化所述摄像部的图像映像的像素信息而获得的测定值，与正常放射状态下的基准加以比较，以检测等离子的放射状态。本发明利用摄像部以图像映像方式获得等离子的放射状态，并利用在控制部分析获得的所述图像映像的测定值，实时观察等离子的状态，并调节向等离子供给装置供给的反应气体供给量和等离子的放电条件，以控制多个所配置的等离子供给装置能够均匀放射等离子。
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公开(公告)号：CN101802543B
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN200880106944.X
申请日：2008-04-02
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: G01B11/06
CPC classification number: G01B11/0625
Abstract: 本发明涉及一种厚度测定装置，包括：第一分光器，用于反射或透射从光源照射的光或者由被测对象反射的光；第一透镜部，用于向被测对象会聚光，并生成与所述由被测对象反射到的光存在光路径差的基准光；第二透镜部，用于向被测对象会聚光；干涉光检测器，其与所述第一透镜部相对应形成光路径，并测出通过由所述被测对象反射的光和所述基准光所产生的干涉信号；分光检测器，其与所述第二透镜部相对应形成与通过所述干涉光检测器形成的光路径不同的光路径，并分光由所述被测对象反射的光，以检测出被分光的光的强度和波长；及光路径变换部，有选择地向干涉光检测器或者分光检测器中的其中一侧传送光。第一透镜部和第二透镜部可在光路径上交换位置。
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公开(公告)号：CN101689497B
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN200880012597.4
申请日：2008-04-10
Applicant: 株式会社SNU精密
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32357 , H01J37/32825 , H01J37/32935 , H05H1/0025
Abstract: 本发明的等离子监控装置，包括：等离子供给装置，具有电源供给部，用于供给电源；供给线，用于供给反应气体；放射喷嘴，向处理对象物放射所述等离子供给装置内部所产生的等离子；和摄像部，其以图像映像方式获得从等离子供给装置放射的等离子的放射状态；以及控制部，用于把数值化所述摄像部的图像映像的像素信息而获得的测定值，与正常放射状态下的基准加以比较，以检测等离子的放射状态。本发明利用摄像部以图像映像方式获得等离子的放射状态，并利用在控制部分析获得的所述图像映像的测定值，实时观察等离子的状态，并调节向等离子供给装置供给的反应气体供给量和等离子的放电条件，以控制多个所配置的等离子供给装置能够均匀放射等离子。
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