用于在基材上沉积层的设备和方法

    公开(公告)号:CN102762761A

    公开(公告)日:2012-10-31

    申请号:CN201180010767.7

    申请日:2011-02-22

    Abstract: 本发明涉及一种用于在物体(20)上沉积由至少两种成分制成的层的设备,其具有用于布置该物体的沉积室(11),至少一个具有待沉积的材料的源(12),以及至少一个用于控制沉积过程的装置(40),该设备如此配置:使得可以在沉积到基材上之前,通过选择性结合特定量的所述至少一种成分来在待沉积的材料的气相中改变其至少一种成分的浓度,其中该至少一种成分的选择性结合的量可以通过改变至少一种控制参数来进行控制,该参数主动偶合到所述组分的结合率。此外,涉及一种用于在物体上沉积由至少两种成分制成的层的设备,其中用于控制沉积过程的装置具有由反应性材料制成的至少一个吸气元件,其中该反应性材料包括铜和/或钼。还涉及一种用于在物体上沉积由至少两种成分制成的层的方法,其中至少一种成分的选择性结合的量是通过改变用于控制沉积过程的装置的结合率来控制的。

    用于处理被覆层的基质的工艺盒、组件和方法

    公开(公告)号:CN104919579A

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201380046832.0

    申请日:2013-07-09

    CPC classification number: B05D1/60 B05C5/001 H01L21/67353 H01L21/67393

    Abstract: 本发明涉及一种用于处理被覆层的基质的工艺盒,其带有以下特征:可气密地封闭的壳体,其形成空腔;该壳体包括至少一个壳体截段,其构造成使得基质通过射到该壳体截段上的电磁热辐射可热处理;该壳体具有可与用于其冷却的冷却装置联结的至少一个壳体截段和至少一个不可冷却的壳体截段;空腔被至少一个间隔壁划分成用于容纳基质的处理腔和中间腔,其中,间隔壁具有一个或多个开口且布置在基质与可调温的壳体截段之间;壳体设有通到空腔中的、可封闭的至少一个气体通引部用于排空和将过程气体引入空腔中。此外,其涉及用于处理被覆层的基质的组件和方法,在其中工艺盒的至少一个壳体截段在热处理期间和/或之后被冷却且通过设有一个或多个开口的间隔壁来阻碍在热处理期间所产生的气态物质扩散至被调温的壳体截段,间隔壁布置在被覆层的基质与被调温的壳体截段之间。

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