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公开(公告)号：CN115951433B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202211739484.2
申请日：2022-12-30
Applicant: 湖南大学 , 湖南大学深圳研究院 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种大面积消色差超构透镜的制备方法，包括以下步骤：旋涂抗蚀剂，即在选择好的介质衬底上进行抗蚀剂的旋涂，并进行抗蚀剂的烘烤以确保溶液全部排出，仅留下溶质，所述抗蚀剂为正型抗蚀剂包括聚甲基丙烯酸甲酯和ZEP。本发明大面积消色差超构透镜的制备方法可以更好的对透镜的波前进行变换，在进行结构的匹配时格式得到更小的匹配误差、更优的消色差效果以及更大面积的设计，同时，采用该制备流程也可以实现具有高深宽比和高陡直度的结构的制备。
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公开(公告)号：CN116300063A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202211739203.3
申请日：2022-12-30
Applicant: 湖南大学 , 湖南大学深圳研究院 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: G02B27/00 , G02B27/28 , G02B3/00 , G02B3/14 , G02B1/00 , G02F1/29 , G02F1/1343 , G02F1/1347 , G02F1/139 , G02F1/1337 , G02F1/1345
Abstract: 本发明公开了一种动态变焦消色差超构透镜，包括从下至上依次分布的第一层透明介质衬底、第一层氧化铟锡透明电极、第一层光致取向层、液晶层，第二层光致取向层、第二层氧化铟锡透明电极和透明介质衬底，所述透明介质衬底上分布电介质纳米柱结构阵列。发明动态变焦消色差超构透镜及其实现方法通过对将双折射液晶与偏振敏感双通道消色差超构透镜集成，实现动态消色差变焦成像，进一步扩展了超构表面的功能和应用。本发明巧妙地使用粒子群优化算法对超构透镜相位进行优化，实现了更少的结构数据获得更好的相位匹配效果，节约算力。
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公开(公告)号：CN116125568A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202211740754.1
申请日：2022-12-30
Applicant: 湖南大学 , 湖南大学深圳研究院 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了双焦消色差超构透镜，包括介质衬底、电介质纳米柱结构单元阵列，所述电介质纳米柱结构单元阵列设置在介质衬底上，所述电介质纳米柱结构单元阵列包括若干不同形状的电介质纳米柱结构单元。本发明通过设计超构透镜阵列的相位分布以及结构匹配优化，获得正交偏振双通道的消色差超构透镜阵列，通过调节入射光的线偏振状态，实现具有三种不同的聚焦模式的光场成像，能对不同景深范围进行光场成像，从而实现景深扩展。
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公开(公告)号：CN115857067A
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202211739816.7
申请日：2022-12-30
Applicant: 湖南大学 , 湖南大学深圳研究院 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种逆向设计的超构表面器件及其制备、设计方法，包括从下至上依次设置的透明介质衬底与第一层电介质微纳单元结构、HSQ分隔层和第二层电介质微纳单元结构，根据层数不同可追加更多层数的微纳单元结构。本发明逆向设计的超构表面器件通过在现有数据库的基础上，采用逆向设计的方法，训练优化网络后获得了其他结构参数以及自由形状结构的光学响应，为正向设计方法中难以获得的高自由度形状提供了全新的设计思路。本发明利用GPU的并行计算能力提高计算性能，而且将多种算法相互融合，避免了局部最优解、难以收敛等问题，计算资源损耗低，计算结果优秀。采用套刻工艺进行多层的制备，工艺简单，层间对准精度高。
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公开(公告)号：CN115857067B
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202211739816.7
申请日：2022-12-30
Applicant: 湖南大学 , 湖南大学深圳研究院 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种逆向设计的超构表面器件及其制备、设计方法，包括从下至上依次设置的透明介质衬底与第一层电介质微纳单元结构、HSQ分隔层和第二层电介质微纳单元结构，根据层数不同可追加更多层数的微纳单元结构。本发明逆向设计的超构表面器件通过在现有数据库的基础上，采用逆向设计的方法，训练优化网络后获得了其他结构参数以及自由形状结构的光学响应，为正向设计方法中难以获得的高自由度形状提供了全新的设计思路。本发明利用GPU的并行计算能力提高计算性能，而且将多种算法相互融合，避免了局部最优解、难以收敛等问题，计算资源损耗低，计算结果优秀。采用套刻工艺进行多层的制备，工艺简单，层间对准精度高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115951433A
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202211739484.2
申请日：2022-12-30
Applicant: 湖南大学 , 湖南大学深圳研究院 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种大面积消色差超构透镜的制备方法，包括以下步骤：旋涂抗蚀剂，即在选择好的介质衬底上进行抗蚀剂的旋涂，并进行抗蚀剂的烘烤以确保溶液全部排出，仅留下溶质，所述抗蚀剂为正型抗蚀剂包括聚甲基丙烯酸甲酯和ZEP。本发明大面积消色差超构透镜的制备方法可以更好的对透镜的波前进行变换，在进行结构的匹配时格式得到更小的匹配误差、更优的消色差效果以及更大面积的设计，同时，采用该制备流程也可以实现具有高深宽比和高陡直度的结构的制备。
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公开(公告)号：CN119002190A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202411272089.7
申请日：2024-09-11
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种多电子束光刻装备图像发生系统及其制造方法。其中电子束光刻装备图像发生系统为核心部件，其能够将入射在孔中电子束进行偏转，将聚焦后的电子束流偏转到不同位置，达到在一个写场内不同点曝光的目的；通过控制芯片，利用传输线，将不同的电压加至图像发生系统顶端金属电极上；顶端电极与侧壁电极连通，通过调整加在顶端电极的电压调节侧壁电极电压以控制电场强度，实现对入射电子束的偏转和投影等功能，最终能将束斑投影至写场中的任一位置。
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公开(公告)号：CN118630109A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410839895.1
申请日：2024-06-26
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种基于紫外固化薄膜的金属转移工艺及其应用。提供硬质硅基晶圆衬底，在光刻胶薄膜上曝光出设计的结构；在光刻胶显影液中进行显影，用氮气吹干，得到设计的光刻胶薄膜结构；在有设计结构的光刻胶薄膜结构表面进行金属化；在去除光刻胶溶液中浸泡，得到金属结构；将紫外固化树脂旋涂或滴涂在设计的金属结构上；使用LED紫外灯辐照金属结构上的液态紫外固化树脂原位固化，在液态的紫外固化树脂固化后，得到干净的紫外固化薄膜；将紫外固化薄膜进行剥离，得到嵌入式金属结构的紫外固化薄膜柔性衬底。本发明增强了金属结构与柔性衬底的界面稳定性，解决了金属结构与柔性衬底机械性能不匹配的问题以及转移过程中化学试剂的污染问题。
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公开(公告)号：CN118579718A
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202410665884.6
申请日：2024-05-27
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种应用于多电子束光刻装备的电子光学系统及制造方法，包括高压ASIC控制芯片、专用MEMS微孔阵列单元及传输线三个部分。其中专用MEMS微孔阵列单元作为核心部件，能够将入射在表面的电子束进行分束，大幅面扩展束流数量；高压ASIC控制芯片，利用传输线，将不同的电压加至专用MEMS微孔阵列旁边的金属膜层上；通过调整正/背面各金属/绝缘层之间的电压差，实现对入射电子束的聚焦、收束、偏转和投影等功能，最终能将束斑尺寸缩放至亚10纳米尺度，并能通过控制膜层数量灵活调整焦深，有利于电子光学系统的小型化。
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公开(公告)号：CN118324089A
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202410277979.0
申请日：2024-03-12
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: B81C1/00 , H01L21/02 , B82Y40/00 , C01B32/186 , C01B32/194
Abstract: 本发明公开了一种功能性纳米薄膜全干法转移方法，所述干法转移方法中的关键在于采用自组装单分子层，分别修饰施主、受主衬底表面，将其与功能性纳米薄膜之间的粘附力大小进行精确调控，从而可实现晶圆级尺寸、极端厚度纳米薄膜材料与同质/异质衬底之间的“超洁净”、共性形和高质量集成。本发明避免了功能性纳米薄膜材料在传统转移方法中多步湿法工艺的介入，能有效抑制纳米薄膜在刻蚀和冲洗等溶液过程中的质量衰退问题，可提升3D异质/异构器件的界面质量和性能。
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