公开(公告)号：CN117348352A

公开(公告)日：2024-01-05

申请号：CN202311232770.4

申请日：2023-09-22

Applicant: 电子科技大学长三角研究院(湖州)

Inventor： 郭小伟 ,  向志强 ,  潘伟凡 ,  杜良广

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08 ,  G02B3/00

Abstract: 本发明公开了一种基于周期堆迭的矩形超透镜与相移DMD的无掩膜光刻光学系统，其包括以下步骤：激光器发射激光，采用紫外物镜对光进行聚焦。然后，利用针孔滤波器消除光束通过物镜和其他光学元件时产生的高频噪声，利用准直透镜将球面波转化为平面波，使光平行，将平行光与相移DMD结合，生成特定的空间强度分布，用于定形过程，将相移DMD反射的激光通过4f成像系统与周期堆迭的矩形超透镜进行缩小成像在目标上，将单次曝光分成多个较短的曝光以增加测量次数，在每次曝光之间，搭配的数字全息反馈系统使用相机捕获的全息图来测量样品在每一步的光学相位图，并据此计算每个点与目标相位的差异，然后根据相位差调整灰度光刻的输入图像,并通过改变相移DMD上投影的图案来应用所需的校正，以实现近实时光刻。优点在于本发明为一种新的基于周期堆迭的矩形超透镜与相移DMD的缩小成像光刻方法，在误差范围内，成像尺寸可突破衍射极限达到六分之一波长，保证了光线的输入与输出面为平行平面，对光刻图案的边缘进行了优化，并且无需事先校准光刻胶，在外部振动条件下也能提供高稳定性。