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公开(公告)号:CN113310583A
公开(公告)日:2021-08-27
申请号:CN202110705145.1
申请日:2021-06-24
Applicant: 美新半导体(无锡)有限公司
Abstract: 本发明提供一种红外热电堆传感装置,其包括基于衬底形成的热电堆传感器,所述热电堆传感器包括:悬空薄膜,其悬置于所述衬底的空腔之上;多个热电偶,其设置于所述悬空薄膜中,所述热电偶的热端悬置于所述衬底的空腔之上,且所述热电偶的热端位于所述悬空薄膜的内侧;所述热电偶的冷端悬置于所述衬底的空腔之上,且所述热电偶的冷端位于所述悬空薄膜的外边缘;高热导率填充区,其设置于所述悬空薄膜的外侧,其紧邻所述热电偶的冷端,且跨过所述衬底的空腔的边界,并且延伸至所述衬底上。与现有技术相比,本发明不仅可以与标准CMOS工艺兼容,而且还可以使红外热电堆的热学参数不敏感工艺偏差,提高器件性能一致性。
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公开(公告)号:CN215338609U
公开(公告)日:2021-12-28
申请号:CN202121412523.9
申请日:2021-06-24
Applicant: 美新半导体(无锡)有限公司
Abstract: 本实用新型提供一种红外热电堆传感装置,其包括基于衬底形成的热电堆传感器,所述热电堆传感器包括:悬空薄膜,其悬置于所述衬底的空腔之上;多个热电偶,其设置于所述悬空薄膜中,所述热电偶的热端悬置于所述衬底的空腔之上,且所述热电偶的热端位于所述悬空薄膜的内侧;所述热电偶的冷端悬置于所述衬底的空腔之上,且所述热电偶的冷端位于所述悬空薄膜的外边缘;高热导率填充区,其设置于所述悬空薄膜的外侧,其紧邻所述热电偶的冷端,且跨过所述衬底的空腔的边界,并且延伸至所述衬底上。与现有技术相比,本实用新型不仅可以与标准CMOS工艺兼容,而且还可以使红外热电堆的热学参数不敏感工艺偏差,提高器件性能一致性。
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