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公开(公告)号：CN101139446B
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN200710149086.4
申请日：2007-09-07
Applicant: 花王株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够抑制端面下垂的研磨液组合物。其含有共聚物以及研磨材料，所述共聚物具有下述式(I)表示的结构单元和下述式(II)-(IV)表示的一种以上的结构单元。作为用于形成下述式(I)表示的结构单元的单体，可列举出甲基丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯等，作为用于形成下述式(II)表示的结构单元的单体，可列举出甲基丙烯酸硬脂酸酯等，作为用于形成下述式(III)表示的结构单元的单体，可列举出甲基丙烯酸聚丙二醇酯等，作为用于形成下述式(IV)表示的结构单元的单体，可列举出苯乙烯等。
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公开(公告)号：CN113473893B
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202080016583.0
申请日：2020-02-25
Applicant: 花王株式会社
IPC: A47L13/16 , B08B1/00 , D04H1/4382 , D04H1/728 , D01D5/04
Abstract: 本发明的清洁用部件(1)具有通过中值纤维直径为100nm以上且2000nm以下的单纤维的缠绕而保形的无纺结构体(2)。无纺结构体(2)的表观密度为0.05g/cm3以上且0.60g/cm3以下。清洁用部件(1)也优选还具有支承部件(3)，支承部件(3)与无纺结构体(2)以彼此接触的方式配置。还优选单纤维为静电纺丝而成的纤维。另外，本发明的清洁用部件的制造方法包括通过静电纺丝法进行纺丝而形成单纤维的堆积体的步骤；和对该堆积体进行按压而形成表观密度为0.05g/cm3以上且0.60g/cm3以下的无纺结构体的步骤。
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公开(公告)号：CN113473893A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202080016583.0
申请日：2020-02-25
Applicant: 花王株式会社
IPC: A47L13/16 , B08B1/00 , D04H1/4382 , D04H1/728 , D01D5/04
Abstract: 本发明的清洁用部件(1)具有通过中值纤维直径为100nm以上且2000nm以下的单纤维的缠绕而保形的无纺结构体(2)。无纺结构体(2)的表观密度为0.05g/cm3以上且0.60g/cm3以下。清洁用部件(1)也优选还具有支承部件(3)，支承部件(3)与无纺结构体(2)以彼此接触的方式配置。还优选单纤维为静电纺丝而成的纤维。另外，本发明的清洁用部件的制造方法包括通过静电纺丝法进行纺丝而形成单纤维的堆积体的步骤；和对该堆积体进行按压而形成表观密度为0.05g/cm3以上且0.60g/cm3以下的无纺结构体的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101423746B
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN200810173817.3
申请日：2008-10-29
Applicant: 花王株式会社
Abstract: 一种硬盘基板用研磨液组合物，其含有氧化铝粒子、二氧化硅粒子和水，其中，所述氧化铝粒子的二次粒子的用激光衍射法测定的体积中值粒径为0.1～0.8μm，所述二氧化硅粒子的一次粒子的用透射型电子显微镜观察测定的体积中值粒径为40～150nm，所述二氧化硅粒子的一次粒子的用透射型电子显微镜观察测定的粒径的以个数为基准的标准偏差为11～35nm。所述硬盘基板用研磨液组合物优选可以在不损害生产率的情况下减少氧化铝磨粒向基板中的扎入。
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公开(公告)号：CN102153990B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201110130439.2
申请日：2007-09-07
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14 , C08F290/06 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种能够抑制端面下垂的研磨液组合物，其含有共聚物以及研磨材料，所述共聚物具有下述式(I)表示的结构单元和下述式(II)-(III)表示的一种以上的结构单元。作为用于形成下述式(I)表示的结构单元的单体，可列举出甲基丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯等，作为用于形成下述式(II)表示的结构单元的单体，可列举出甲基丙烯酸硬脂酸酯等，作为用于形成下述式(III)表示的结构单元的单体，可列举出甲基丙烯酸聚丙二醇酯等。
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公开(公告)号：CN102153990A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201110130439.2
申请日：2007-09-07
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14 , C08F290/06 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种能够抑制端面下垂的研磨液组合物，其含有共聚物以及研磨材料，所述共聚物具有下述式(I)表示的结构单元和下述式(II)-(III)表示的一种以上的结构单元。作为用于形成下述式(I)表示的结构单元的单体，可列举出甲基丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯等，作为用于形成下述式(II)表示的结构单元的单体，可列举出甲基丙烯酸硬脂酸酯等，作为用于形成下述式(III)表示的结构单元的单体，可列举出甲基丙烯酸聚丙二醇酯等。
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公开(公告)号：CN101423746A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200810173817.3
申请日：2008-10-29
Applicant: 花王株式会社
Abstract: 一种硬盘基板用研磨液组合物，其含有氧化铝粒子、二氧化硅粒子和水，其中，所述氧化铝粒子的二次粒子的用激光衍射法测定的体积中值粒径为0.1～0.8μm，所述二氧化硅粒子的一次粒子的用透射型电子显微镜观察测定的体积中值粒径为40～150nm，所述二氧化硅粒子的一次粒子的用透射型电子显微镜观察测定的粒径的以个数为基准的标准偏差为11～35nm。所述硬盘基板用研磨液组合物优选可以在不损害生产率的情况下减少氧化铝磨粒向基板中的扎入。
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公开(公告)号：CN101139446A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200710149086.4
申请日：2007-09-07
Applicant: 花王株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够抑制端面下垂的研磨液组合物。其含有共聚物以及研磨材料，所述共聚物具有下述式(Ⅰ)表示的结构单元和下述式(Ⅱ)－(Ⅳ)表示的一种以上的结构单元。作为用于形成下述式(Ⅰ)表示的结构单元的单体，可列举出甲基丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯等，作为用于形成下述式(Ⅱ)表示的结构单元的单体，可列举出甲基丙烯酸硬脂酸酯等，作为用于形成下述式(Ⅲ)表示的结构单元的单体，可列举出甲基丙烯酸聚丙二醇酯等，作为用于形成下述式(Ⅳ)表示的结构单元的单体，可列举出苯乙烯等。
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