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公开(公告)号：CN102533220B
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201110411215.9
申请日：2011-12-12
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/044 , C09K3/1463
Abstract: 本发明提供一种磁盘基板用研磨液组合物及使用该组合物的磁盘基板的制造方法，所述磁盘基板用研磨液组合物可以在不损伤生产率的情况下减少残留无机粒子及划痕。所述磁盘基板用研磨液组合物含有无机粒子、二烯丙基胺聚合物、酸及水，其中，所述二烯丙基胺聚合物具有选自下述通式(I-a)、(I-b)、(I-c)及(I-d)所示的结构单元中的1种以上结构单元，研磨液组合物中的所述二烯丙基胺聚合物的含量为0.008～0.100重量％。
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公开(公告)号：CN102533220A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201110411215.9
申请日：2011-12-12
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/044 , C09K3/1463
Abstract: 本发明提供一种磁盘基板用研磨液组合物及使用该组合物的磁盘基板的制造方法，所述磁盘基板用研磨液组合物可以在不损伤生产率的情况下减少残留无机粒子及划痕。所述磁盘基板用研磨液组合物含有无机粒子、二烯丙基胺聚合物、酸及水，其中，所述二烯丙基胺聚合物具有选自下述通式(I-a)、(I-b)、(I-c)及(I-d)所示的结构单元中的1种以上结构单元，研磨液组合物中的所述二烯丙基胺聚合物的含量为0.008～0.100重量％。
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公开(公告)号：CN101423746B
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN200810173817.3
申请日：2008-10-29
Applicant: 花王株式会社
Abstract: 一种硬盘基板用研磨液组合物，其含有氧化铝粒子、二氧化硅粒子和水，其中，所述氧化铝粒子的二次粒子的用激光衍射法测定的体积中值粒径为0.1～0.8μm，所述二氧化硅粒子的一次粒子的用透射型电子显微镜观察测定的体积中值粒径为40～150nm，所述二氧化硅粒子的一次粒子的用透射型电子显微镜观察测定的粒径的以个数为基准的标准偏差为11～35nm。所述硬盘基板用研磨液组合物优选可以在不损害生产率的情况下减少氧化铝磨粒向基板中的扎入。
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公开(公告)号：CN101423746A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200810173817.3
申请日：2008-10-29
Applicant: 花王株式会社
Abstract: 一种硬盘基板用研磨液组合物，其含有氧化铝粒子、二氧化硅粒子和水，其中，所述氧化铝粒子的二次粒子的用激光衍射法测定的体积中值粒径为0.1～0.8μm，所述二氧化硅粒子的一次粒子的用透射型电子显微镜观察测定的体积中值粒径为40～150nm，所述二氧化硅粒子的一次粒子的用透射型电子显微镜观察测定的粒径的以个数为基准的标准偏差为11～35nm。所述硬盘基板用研磨液组合物优选可以在不损害生产率的情况下减少氧化铝磨粒向基板中的扎入。
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