-
公开(公告)号：CN107076871B
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201580058721.0
申请日：2015-08-04
Applicant: 通用电气公司
IPC: G01V5/14
Abstract: 一种井完整性检查系统(100)，配置成检查包括多个同心层的井结构(102)。井完整性检查系统(100)包括定位于井结构(102)中的检查探头(104)。检查探头(104)包括用于将多个辐射发射(134、164)传输至井结构(102)中的多个激励组件(132、162)。多个激励组件(132、162)包括至少中子激励组件(132)和X射线激励组件(162)。检查探头(104)还包括多个探测组件(136、166)，其配置成从井结构接收多个背向散射辐射回波(138、168)。多个探测组件(136、166)包括至少中子探测组件(136)和X射线探测组件(166)。井完整性检查系统(100)还包括可操作地联接至检查探头(104)的处理器(190)。处理器(190)配置成基于多个背向散射辐射回波(138、168)中的至少一个来确定井结构(102)的井完整性参数。
-
公开(公告)号：CN107076871A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580058721.0
申请日：2015-08-04
Applicant: 通用电气公司
IPC: G01V5/14
Abstract: 一种井完整性检查系统(100)，配置成检查包括多个同心层的井结构(102)。井完整性检查系统(100)包括定位于井结构(102)中的检查探头(104)。检查探头(104)包括用于将多个辐射发射(134、164)传输至井结构(102)中的多个激励组件(132、162)。多个激励组件(132、162)包括至少中子激励组件(132)和X射线激励组件(162)。检查探头(104)还包括多个探测组件(136、166)，其配置成从井结构接收多个背向散射辐射回波(138、168)。多个探测组件(136、166)包括至少中子探测组件(136)和X射线探测组件(166)。井完整性检查系统(100)还包括可操作地联接至检查探头(104)的处理器(190)。处理器(190)配置成基于多个背向散射辐射回波(138、168)中的至少一个来确定井结构(102)的井完整性参数。
-
公开(公告)号：CN102969650B
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201210220510.0
申请日：2012-06-29
Applicant: 通用电气公司
Inventor： S.M.李
CPC classification number: H01S4/00
Abstract: 本发明名称为“CRASER装置、成像系统和方法”。一种craser装置，利用craser装置的成像系统和一种成像的方法。该craser装置包括具有发射x射线和/或伽马射线光子的激发的增益介质原子的增益介质、邻接增益介质的透射介质、和反射镜，该反射镜包含一个或多个较低折射率层且邻接透射介质。该透射介质具有比增益介质以及反射镜中的至少一个材料高的折射率。通过全内反射将x射线和/或伽马射线光子限域到透射介质，以及通过消散波多次与激发的增益介质原子相互作用，从而产生放大的受激发射，这促成高强度不相干或相干x射线束和/或伽马射线束的形成。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109416948A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780039528.1
申请日：2017-04-25
Applicant: 通用电气公司
IPC: G21F3/00 , G21F1/12 , G01T1/20 , G01T1/24 , H01L27/146
Abstract: 一种用于x射线数字检测器阵列(200)的辐射屏蔽系统(205)包括第一辐射屏蔽物(208)，其具有多个屏蔽垫(216)以及在该多个屏蔽垫之间的多个间隙(217)，该多个屏蔽垫相比该多个间隙的厚度具有较大的厚度。该多个屏蔽垫构造成定位在x射线数字检测器阵列的有源构件(112)上且间隙构造成定位在x射线数字检测器阵列的无源构件(114)上。
-
公开(公告)号：CN102969650A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201210220510.0
申请日：2012-06-29
Applicant: 通用电气公司
Inventor： S.M.李
CPC classification number: H01S4/00
Abstract: 本发明名称为“CRASER装置、成像系统和方法”。一种craser装置，利用craser装置的成像系统和一种成像的方法。该craser装置包括具有发射x射线和/或伽马射线光子的激发的增益介质原子的增益介质、邻接增益介质的透射介质、和反射镜，该反射镜包含一个或多个较低折射率层且邻接透射介质。该透射介质具有比增益介质以及反射镜中的至少一个材料高的折射率。通过全内反射将x射线和/或伽马射线光子限域到透射介质，以及通过消散波多次与激发的增益介质原子相互作用，从而产生放大的受激发射，这促成高强度不相干或相干x射线束和/或伽马射线束的形成。
-
公开(公告)号：CN102903412B
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201210262390.0
申请日：2012-07-27
Applicant: 通用电气公司
Inventor： S.M.李
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , G21K2201/067
Abstract: 本发明的名称为“多层全内反射光学装置及其制造和使用方法”。提供一种具有输入面和输出面的多层光学装置。该光学装置包括：具有第一实折射率1‑δ1和第一吸收系数的高折射率材料层，其中，芯体包括第一表面和第二表面；具有第二实折射率1‑δ2和第二吸收系数的低折射率材料层；以及设置在高折射率材料层和低折射率材料层之间的分级区，该分级区包括具有第三实折射率1‑δ3和第三吸收系数的分级层，使得1‑δ1 > 1‑δ3 > 1‑δ2，其中，高折射率材料层、分级区和低折射率层中的一个或多个的至少一部分包括沿着第一方向的一个或多个波纹。
-
公开(公告)号：CN105203573A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201510597883.3
申请日：2010-10-26
Applicant: 通用电气公司
IPC: G01N23/207 , G01N33/22
CPC classification number: G01N23/207 , G01N27/127 , G01N33/22 , G01N2223/637
Abstract: 本发明涉及元素成分检测系统及方法。具体而言，提出了一种用以检测多种元素的系统。该系统包括用于将X射线朝向样本传输的一个或多个X射线源，以及还包括多个光子检测器。晶体阵列以一定曲率布置成具有适合的几何形状，用于接收由样本发出的多种光子能量和将光子能量聚焦在多个检测器上。多个光子检测器在空间上布置成对应于标记光子能量的布拉格角，以便同时地检测多种元素。
-
公开(公告)号：CN102903412A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210262390.0
申请日：2012-07-27
Applicant: 通用电气公司
Inventor： S.M.李
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , G21K2201/067
Abstract: 本发明多层全内反射光学装置及其制造和使用方法，提供一种具有输入面和输出面的多层光学装置。该光学装置包括：具有第一实折射率1-δ1和第一吸收系数的高折射率材料层，其中，芯体包括第一表面和第二表面；具有第二实折射率1-δ2和第二吸收系数的低折射率材料层；以及设置在高折射率材料层和低折射率材料层之间的分级区，该分级区包括具有第三实折射率1-δ3和第三吸收系数的分级层，使得1-δ1>1-δ3>1-δ2，其中，高折射率材料层、分级区和低折射率层中的一个或多个的至少一部分包括沿着第一方向的一个或多个波纹。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.026 seconds)
