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公开(公告)号:CN104838502A
公开(公告)日:2015-08-12
申请号:CN201380065184.3
申请日:2013-11-18
Applicant: 通用电气公司
IPC: H01L29/78 , H01L29/423 , H01L21/336 , H01L29/16
CPC classification number: H01L29/7802 , H01L27/088 , H01L29/1083 , H01L29/1608 , H01L29/42368 , H01L29/66068 , H01L29/66712 , H03K17/687
Abstract: 绝缘栅场效应晶体管(IGFET)装置包括半导体主体和栅极氧化物。半导体主体包括采用第一类型的掺杂剂所掺杂的第一阱区以及采用带相反电荷的第二类型的掺杂剂所掺杂并且位于第一阱区中的第二阱区。栅极氧化物包括具有不同厚度尺寸的外段和内段。外段设置在半导体主体的第一阱区和第二阱区之上。内段设置在半导体主体的结型栅场效应晶体管区之上。半导体主体配置成形成成当栅极信号施加到设置于栅极氧化物上的栅极触点时经过第二阱区和结型栅场效应晶体管区来形成传导沟道。
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公开(公告)号:CN104838502B
公开(公告)日:2018-05-11
申请号:CN201380065184.3
申请日:2013-11-18
Applicant: 通用电气公司
IPC: H01L29/78 , H01L29/423 , H01L21/336 , H01L29/16
CPC classification number: H01L29/7802 , H01L27/088 , H01L29/1083 , H01L29/1608 , H01L29/42368 , H01L29/66068 , H01L29/66712 , H03K17/687
Abstract: 绝缘栅场效应晶体管(IGFET)装置包括半导体主体和栅极氧化物。半导体主体包括采用第一类型的掺杂剂所掺杂的第一阱区以及采用带相反电荷的第二类型的掺杂剂所掺杂并且位于第一阱区中的第二阱区。栅极氧化物包括具有不同厚度尺寸的外段和内段。外段设置在半导体主体的第一阱区和第二阱区之上。内段设置在半导体主体的结型栅场效应晶体管区之上。半导体主体配置成形成成当栅极信号施加到设置于栅极氧化物上的栅极触点时经过第二阱区和结型栅场效应晶体管区来形成传导沟道。
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公开(公告)号:CN105203573A
公开(公告)日:2015-12-30
申请号:CN201510597883.3
申请日:2010-10-26
Applicant: 通用电气公司
IPC: G01N23/207 , G01N33/22
CPC classification number: G01N23/207 , G01N27/127 , G01N33/22 , G01N2223/637
Abstract: 本发明涉及元素成分检测系统及方法。具体而言,提出了一种用以检测多种元素的系统。该系统包括用于将X射线朝向样本传输的一个或多个X射线源,以及还包括多个光子检测器。晶体阵列以一定曲率布置成具有适合的几何形状,用于接收由样本发出的多种光子能量和将光子能量聚焦在多个检测器上。多个光子检测器在空间上布置成对应于标记光子能量的布拉格角,以便同时地检测多种元素。
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