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公开(公告)号:CN102043328A
公开(公告)日:2011-05-04
申请号:CN201010503241.X
申请日:2010-10-09
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供用多个探针除去光掩模上的异物缺陷的光掩模用的缺陷修正方法及装置、缺陷修正头、缺陷检查装置及光掩模制造方法。即准备多个探针,使其中至少两个探针同时接触光掩模表面上存在的异物,以至少不同的三处保持异物,将被保持的上述异物从光掩模表面远离,由此除去光掩模上的异物缺陷进行修正。
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