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公开(公告)号：CN102473423A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201180002382.6
申请日：2011-03-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C23/0075
Abstract: 本发明的一个目的是在磁盘用玻璃基板中，在不增大玻璃基板表面的粗糙度的情况下，将附着在玻璃基板表面的金属系污染物质有效地除去。在具有玻璃基板清洗工序的磁盘用玻璃基板的制造方法中，设置有这样的清洗工序：该清洗工序具有使玻璃基板与浓度为0.05重量％～2重量％的添加有葡糖酸盐的pH9～11的碱性水溶液相接触的清洗处理。
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公开(公告)号：CN102473423B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201180002382.6
申请日：2011-03-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C23/0075
Abstract: 本发明的一个目的是在磁盘用玻璃基板中，在不增大玻璃基板表面的粗糙度的情况下，将附着在玻璃基板表面的金属系污染物质有效地除去。在具有玻璃基板清洗工序的磁盘用玻璃基板的制造方法中，设置有这样的清洗工序：该清洗工序具有使玻璃基板与浓度为0.05重量％～2重量％的添加有葡糖酸盐的pH9～11的碱性水溶液相接触的清洗处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102473425A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201180002384.5
申请日：2011-03-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C23/0075
Abstract: 本发明的一个目的是在磁盘用玻璃基板中，在不增大玻璃基板表面的粗糙度的情况下，将附着在玻璃基板表面的金属系污染物质有效地除去。在磁盘用玻璃基板的制造方法中，设置有这样的清洗工序：该清洗工序具有使玻璃基板与包含过二硫酸盐的pH2～4的清洗液相触的处理。另外，作为清洗液的一例，可以通过在酸性溶液中添加过二硫酸钠来制作。
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公开(公告)号：CN105493184B
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201480047898.6
申请日：2014-08-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C15/02 , C03C23/0075 , C11D7/3209 , C11D11/0035 , C11D11/0047
Abstract: 本发明提供一种在清洗处理后可得到高平滑表面的磁盘用玻璃基板的制造方法。在本发明中，在玻璃基板的镜面研磨后，在使碱性的清洗液与玻璃基板的表面接触而进行清洗的清洗处理中，清洗液含有下述通式I的有机碱，在抑制清洗液中所含有的钠离子和钾离子的含量的同时进行清洗处理。通式I：[(R)4N]+OH‑(其中，R表示烷基，与N原子键合的4个烷基之中的至少一个烷基具有一个以上的羟基(OH基))。
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公开(公告)号：CN105493184A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201480047898.6
申请日：2014-08-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C15/02 , C03C23/0075 , C11D7/3209 , C11D11/0035 , C11D11/0047
Abstract: 本发明提供一种在清洗处理后可得到高平滑表面的磁盘用玻璃基板的制造方法。在本发明中，在玻璃基板的镜面研磨后，在使碱性的清洗液与玻璃基板的表面接触而进行清洗的清洗处理中，清洗液含有下述通式I的有机碱，在抑制清洗液中所含有的钠离子和钾离子的含量的同时进行清洗处理。通式I：[(R)4N]+OH-(其中，R表示烷基，与N原子键合的4个烷基之中的至少一个烷基具有一个以上的羟基(OH基))。
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公开(公告)号：CN102473425B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201180002384.5
申请日：2011-03-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C23/0075
Abstract: 本发明的一个目的是在磁盘用玻璃基板中，在不增大玻璃基板表面的粗糙度的情况下，将附着在玻璃基板表面的金属系污染物质有效地除去。在磁盘用玻璃基板的制造方法中，设置有这样的清洗工序：该清洗工序具有使玻璃基板与包含过二硫酸盐的pH2～4的清洗液相触的处理。另外，作为清洗液的一例，可以通过在酸性溶液中添加过二硫酸钠来制作。
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公开(公告)号：CN104508741A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201380038855.7
申请日：2013-08-28
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，在使用含有包含氧化锆的研磨剂的研磨液对主表面进行研磨时，难以使异物残留于玻璃基板上。所述磁盘用玻璃基板的制造方法包括以下工序：研磨工序，利用研磨液对玻璃基板的表面的至少一部分进行研磨，该研磨液包含以氧化锆为主要成分的磨粒作为研磨剂；清洗工序，对上述研磨工序后的玻璃基板进行清洗；在上述以氧化锆为主要成分的磨粒的表面的一部分形成有作为氧化锆以外的物质的非氧化锆物质，在上述清洗工序中，使上述玻璃基板的经研磨的表面与可溶解上述非氧化锆物质的清洗液接触。
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