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公开(公告)号：CN102077144B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN200980125353.1
申请日：2009-07-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0035 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2024 , H01L21/0273
Abstract: 本发明提供一种抗蚀图不溶化树脂组合物，其是在包含以下工序(1)～(4)的抗蚀图形成方法的工序(2)中使用的抗蚀图不溶化树脂组合物，其包含具有规定的重复单元的树脂和溶剂，所述工序为：工序(1)利用第一正型放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀图；工序(2)在第一层抗蚀图上形成不溶于显影液和第二正型放射线敏感性树脂组合物的不溶化抗蚀图；工序(3)利用第二正型放射线敏感性树脂组合物形成第二抗蚀剂层，并介由掩模进行曝光；工序(4)显影而形成第二抗蚀图。
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公开(公告)号：CN100374475C
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200480024689.6
申请日：2004-08-04
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F220/28 , G03F7/039 , H01L21/30
CPC classification number: C08F220/30 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明的目的在于提供对抗蚀剂溶剂的溶解性好，烘烤温度依赖性小，并且降低显像后的图案的线边缘粗糙度的抗蚀剂。丙烯酸系聚合物，其特征在于含有式(1)、式(2)、及式(3)和/或式(4)。其中，R、R′、R″与R″′表示氢原子、甲基或三氟甲基，R1表示氢原子、C1-4的直链状或支链状的烷基、烷氧基、或C1-4的直链状或支链状的氟代烷基，X表示C7-20的由碳原子与氢原子构成的多环型脂环式烃基，R2与R3相互独立地表示C1-4的直链状或支链状的烷基，R4表示C4-20的脂环式烃基，R5表示C1-4的直链状或支链状的烷基，R6与R7分别表示氢原子、或C1-4的直链状或支链状的烷基。
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公开(公告)号：CN1732408B
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：CN200380107753.2
申请日：2003-12-24
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2006
Abstract: 提供一种辐射敏感性树脂组合物，该辐射敏感性组合物含有由活性自由基聚合得到的含有能电离出酸性基团的树脂和辐射敏感性酸产生剂，该含有能电离出酸性基团的树脂具有通过碱不溶性或碱难溶性酸作用获得碱易溶性的特定构造，上述含有能电离出酸性基团的树脂的重均分子量和数均分子量之比(重均分子量/数均分子量)小于1.5。
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公开(公告)号：CN1732408A
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN200380107753.2
申请日：2003-12-24
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2006
Abstract: 提供一种辐射敏感性树脂组合物，该辐射敏感性组合物含有由活性自由基聚合得到的含有能电离出酸性基团的树脂和辐射敏感性酸产生剂，该含有能电离出酸性基团的树脂具有通过碱不溶性或碱难溶性酸作用获得碱易溶性的特定构造，上述含有能电离出酸性基团的树脂的重均分子量和数均分子量之比(重均分子量/数均分子量)小于1.5。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102099749A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200980127664.1
申请日：2009-07-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , C08F220/28 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/34 , C08F220/36 , G03F7/0035 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/40 , C08F220/22
Abstract: 本发明提供正型放射线敏感性组合物，其可用于包含进行二次曝光作为规定工序的抗蚀图案形成方法，所述正型放射线敏感性组合物含有(B)具有酸不稳定基团和交联基团的聚合物、(C)放射线敏感性酸产生剂和(D)溶剂。
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公开(公告)号：CN1842551A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200480024689.6
申请日：2004-08-04
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F220/28 , G03F7/039 , H01L21/30
CPC classification number: C08F220/30 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明的目的在于提供对抗蚀剂溶剂的溶解性好，烘烤温度依赖性小，并且降低显像后的图案的线边缘粗糙度的抗蚀剂。丙烯酸系聚合物，其特征在于含有式(1)、式(2)、及式(3)和/或式(4)。其中，R、R′、R″与R″′表示氢原子、甲基或三氟甲基，R1表示氢原子、C1－4的直链状或支链状的烷基、烷氧基、或C1－4的直链状或支链状的氟代烷基，X表示C7－20的由碳原子与氢原子构成的多环型脂环式烃基，R2与R3相互独立地表示C1－4的直链状或支链状的烷基，R4表示C4－20的脂环式烃基，R5表示C1－4的直链状或支链状的烷基，R6与R7分别表示氢原子、或C1－4的直链状或支链状的烷基。
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公开(公告)号：CN102077144A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200980125353.1
申请日：2009-07-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0035 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2024 , H01L21/0273
Abstract: 本发明提供一种抗蚀图不溶化树脂组合物，其是在包含以下工序(1)～(4)的抗蚀图形成方法的工序(2)中使用的抗蚀图不溶化树脂组合物，其包含具有规定的重复单元的树脂和溶剂，所述工序为：工序(1)利用第一正型放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀图；工序(2)在第一层抗蚀图上形成不溶于显影液和第二正型放射线敏感性树脂组合物的不溶化抗蚀图；工序(3)利用第二正型放射线敏感性树脂组合物形成第二抗蚀剂层，并介由掩模进行曝光；工序(4)显影而形成第二抗蚀图。
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