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公开(公告)号：CN104603691A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201380046579.9
申请日：2013-09-06
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种含有杯芳烃系化合物和有机溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，该杯芳烃系化合物中杯芳烃具有的酚性羟基的氢原子的至少一部分被碳原子数1～30的1价的有机基团取代。上述1价的有机基团优选含有交联性基团。作为上述杯芳烃系化合物，优选酚性羟基的氢原子的一部分被取代。作为上述杯芳烃系化合物中的取代酚性羟基的个数与无取代酚性羟基的个数的比，优选为30/70～99/1。
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公开(公告)号：CN104603691B
公开(公告)日：2019-09-13
申请号：CN201380046579.9
申请日：2013-09-06
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种含有杯芳烃系化合物和有机溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，该杯芳烃系化合物中杯芳烃具有的酚性羟基的氢原子的至少一部分被碳原子数1～30的1价的有机基团取代。上述1价的有机基团优选含有交联性基团。作为上述杯芳烃系化合物，优选酚性羟基的氢原子的一部分被取代。作为上述杯芳烃系化合物中的取代酚性羟基的个数与无取代酚性羟基的个数的比，优选为30/70～99/1。
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公开(公告)号：CN102077144B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN200980125353.1
申请日：2009-07-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0035 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2024 , H01L21/0273
Abstract: 本发明提供一种抗蚀图不溶化树脂组合物，其是在包含以下工序(1)～(4)的抗蚀图形成方法的工序(2)中使用的抗蚀图不溶化树脂组合物，其包含具有规定的重复单元的树脂和溶剂，所述工序为：工序(1)利用第一正型放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀图；工序(2)在第一层抗蚀图上形成不溶于显影液和第二正型放射线敏感性树脂组合物的不溶化抗蚀图；工序(3)利用第二正型放射线敏感性树脂组合物形成第二抗蚀剂层，并介由掩模进行曝光；工序(4)显影而形成第二抗蚀图。
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公开(公告)号：CN110383173B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN201880015884.4
申请日：2018-03-09
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G8/20 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够形成在平坦性优异的同时耐溶剂性、耐热性和耐蚀刻性优异的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。本发明是一种含有具有下述式(1)表示的部分结构的化合物和溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。下述式(1)中，X为下述式(i)、(ii)、(iii)或(iv)表示的基团。下述式(i)中，R1和R2各自独立地为氢原子、羟基、取代或非取代的碳原子数1～20的1价的脂肪族烃基或者取代或非取代的碳原子数7～20的芳烷基，或者表示R1和R2相互结合并与它们键合的碳原子一起构成的环元数3～20的环结构的一部分。其中，不包括R1和R2为氢原子、羟基或它们的组合的情况。
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公开(公告)号：CN102099749A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200980127664.1
申请日：2009-07-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , C08F220/28 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/34 , C08F220/36 , G03F7/0035 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/40 , C08F220/22
Abstract: 本发明提供正型放射线敏感性组合物，其可用于包含进行二次曝光作为规定工序的抗蚀图案形成方法，所述正型放射线敏感性组合物含有(B)具有酸不稳定基团和交联基团的聚合物、(C)放射线敏感性酸产生剂和(D)溶剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102187282A
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200980141606.4
申请日：2009-10-21
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , G03F7/0035 , G03F7/0037 , G03F7/40
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂图案涂布剂，其在包括：使用第一放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀剂图案的工序(1)、用抗蚀剂图案涂布剂对上述第一抗蚀剂图案进行处理的工序(2)和使用第二放射线敏感性树脂组合物，在用抗蚀剂图案涂布剂处理过的基板上形成第二抗蚀剂图案的工序(3)的抗蚀剂图案形成方法的工序(2)中使用，含有具有羟基的树脂、和包含30质量％以上的碳原子数3～10的支链烷基醇的溶剂。
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公开(公告)号：CN102077144A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200980125353.1
申请日：2009-07-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0035 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2024 , H01L21/0273
Abstract: 本发明提供一种抗蚀图不溶化树脂组合物，其是在包含以下工序(1)～(4)的抗蚀图形成方法的工序(2)中使用的抗蚀图不溶化树脂组合物，其包含具有规定的重复单元的树脂和溶剂，所述工序为：工序(1)利用第一正型放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀图；工序(2)在第一层抗蚀图上形成不溶于显影液和第二正型放射线敏感性树脂组合物的不溶化抗蚀图；工序(3)利用第二正型放射线敏感性树脂组合物形成第二抗蚀剂层，并介由掩模进行曝光；工序(4)显影而形成第二抗蚀图。
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公开(公告)号：CN101395189A
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200780007265.2
申请日：2007-03-23
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F20/22 , G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供：新型的含氟聚合物、以及液浸曝光用的感放射线性树脂组合物、以及含氟聚合物的精制方法，其中所说的液浸曝光用的感放射线性树脂组合物含有该聚合物，得到的图案形状良好，焦深优良，且在液浸曝光时在所接触的水中的溶出物的量少，抗蚀剂被膜与水的后退接触角大。本发明的树脂组合物中含有：由上述通式(1)和(2)表示的重复单元、且Mw为1000～50000的新型含氟聚合物(A)；含有酸不稳定基团的树脂(B)；感放射线性酸发生剂(C)；含氮化合物(D)以及溶剂(E)。
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公开(公告)号：CN110383173A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880015884.4
申请日：2018-03-09
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G8/20 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够形成在平坦性优异的同时耐溶剂性、耐热性和耐蚀刻性优异的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。本发明是一种含有具有下述式(1)表示的部分结构的化合物和溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。下述式(1)中，X为下述式(i)、(ii)、(iii)或(iv)表示的基团。下述式(i)中，R1和R2各自独立地为氢原子、羟基、取代或非取代的碳原子数1～20的1价的脂肪族烃基或者取代或非取代的碳原子数7～20的芳烷基，或者表示R1和R2相互结合并与它们键合的碳原子一起构成的环元数3～20的环结构的一部分。其中，不包括R1和R2为氢原子、羟基或它们的组合的情况。
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公开(公告)号：CN102109760B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201110008725.1
申请日：2007-03-23
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供：抗蚀剂图案形成方法，包括以下步骤：使用包含含氟聚合物作为光致抗蚀剂用添加剂的感放射线性树脂组合物形成光致抗蚀剂被膜的步骤，其中，所述含氟聚合物采用凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为1000～50000，在形成上述光致抗蚀剂被膜时与水的后退接触角为70度以上；将波长193nm处的折射率比空气的折射率大的液浸曝光用液体介于透镜与光致抗蚀剂被膜之间并对其进行放射线照射的步骤；以及现影上述曝光的光致抗蚀剂被膜的步骤。
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