公开(公告)号：CN102099749A

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：CN200980127664.1

申请日：2009-07-14

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 庵野祐亮 ,  藤原考一 ,  杉浦诚 ,  若松刚史

IPC: G03F7/40 ,  C08F220/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/32 ,  C08F220/34 ,  C08F220/36 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40 ,  C08F220/22

Abstract: 本发明提供正型放射线敏感性组合物，其可用于包含进行二次曝光作为规定工序的抗蚀图案形成方法，所述正型放射线敏感性组合物含有(B)具有酸不稳定基团和交联基团的聚合物、(C)放射线敏感性酸产生剂和(D)溶剂。

公开(公告)号：CN102187282A

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：CN200980141606.4

申请日：2009-10-21

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 矢田勇二 ,  庵野祐亮 ,  柿泽友洋 ,  堀雅史 ,  三田伦广 ,  若松刚史

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂图案涂布剂，其在包括：使用第一放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀剂图案的工序(1)、用抗蚀剂图案涂布剂对上述第一抗蚀剂图案进行处理的工序(2)和使用第二放射线敏感性树脂组合物，在用抗蚀剂图案涂布剂处理过的基板上形成第二抗蚀剂图案的工序(3)的抗蚀剂图案形成方法的工序(2)中使用，含有具有羟基的树脂、和包含30质量％以上的碳原子数3～10的支链烷基醇的溶剂。