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公开(公告)号：CN112799285B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201911115004.3
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和工作台，其中：数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与工作台之间，工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，光经过空间光调制器上的图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，工作台驱使基片在平面内沿设定路径移动曝光电性。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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公开(公告)号：CN114132062A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202010917318.1
申请日：2020-09-03
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种微纳米潜影防伪器件及其制备方法与版辊，其包括：点阵式排列设计形成目标图案，制作与所述目标图案相匹配的版辊，所述版辊上具有凸起，所述凸起与所述目标图案相适应；于所述凸起的表面涂布一层屏蔽材料层，通过表面涂布有屏蔽材料层的版辊将该屏蔽材料层转印至待镀结构层上，于所述待镀结构层上形成转印屏蔽层，所述转印屏蔽层在所述待镀结构层上的形位分布与所述目标图案一致；于所述待镀结构层表面形成一层镀层，所述镀层在所述待镀结构层上的形位分布与所述转印屏蔽层互补。本发明所述的制备方法实现了包装材料的小尺寸、高精度的金属层图案化，具有较好的美观效果和防伪功能。
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公开(公告)号：CN113970846A
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN202010724754.7
申请日：2020-07-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种适应不同瞳距的指向性显示片，用于将投影设备投影的图像光线耦出至人眼，包括基底，以及具有实现光线引导、汇聚功能的结构层，结构层包括呈像素型分布的微纳结构，结构层直接蚀刻于基底或设置在基底表面，图像光线在结构层中传播，经微纳结构改变方向后在单个人眼处至少形成两个视点。本发明还公开了一种显示系统，包括上述的适应不同瞳距的指向性显示片。本发明还公开了一种适应不同瞳距的指向性显示片的制作方法，用于上述的适应不同瞳距的指向性显示片。通过上述结构，使图像光线无需在基底内全反射传导，从而降低基底的厚度，进而降低了适应不同瞳距的指向性显示片的厚度，提高了显示亮度，可实现适应不同瞳距的指向性显示片的纸片化。
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公开(公告)号：CN113970807A
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN202010724772.5
申请日：2020-07-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有斜面型纳米结构的波导镜片的制作方法，该方法包括，提供一波导衬底；在波导衬底表面制备一光刻胶层；在光刻胶层的表面至少选择2个区域，并对区域进行图形化处理，获得图形光刻胶以及图形凹槽；采用阴影镀膜的方式在图形光刻胶上以及图形凹槽底部中未被图形光刻胶遮挡的表面形成覆盖层；采用正向或微倾刻蚀的方式在波导衬底形成多个斜面型纳米结构；去除剩余的覆盖层和光刻胶层。本发明还公开了一种具有斜面型纳米结构的波导镜片，采用上述的具有斜面型纳米结构的波导镜片的制作方法制作，对区域未被覆盖层遮挡的部分和覆盖层同时进行蚀刻，实现斜面型纳米结构制备，降低制备难度，且具备高可控度。
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公开(公告)号：CN112208254B
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN201910620477.2
申请日：2019-07-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏大维格(盐城)光电科技有限公司
Abstract: 本发明公开一种单元版，用于制作包装纸模板，包括本体、设置在本体上的单元全息图形，所述单元全息图形四周设有边框。本发明还公开一种包装纸模板的制作方法，包括：制备多个上述单元版；裁切多个单元版的边框；将多个单元版拼接成母版；利用母版进行翻版，得到模板。本发明还公开一种高套准精度包装纸的制作方法，包括：在基膜表面制备树脂层；提供一上述模板，模板采用上述包装纸模板的制作方法制备；利用模板进行模压形成全息图形，模压时基膜温度为70～90℃；提供一底纸，将底纸与具有全息图形的基膜结合，获得包装纸卷；按照全息图形进行切张，得到包装纸。通过将单元全息图形设置在边框内，保证了单元全息图形的完整性和准确性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113376719A
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN202110448243.1
申请日：2021-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种工程扩散片及随机微透镜阵列边界处理方法，所述扩散片包括光学衬底，于所述光学衬底上形成的微透镜阵列，所述微透镜阵列包括若干排布的微透镜，相邻两个微透镜的交界处通过邻接过渡曲面过渡连接，多个所述邻接过渡曲面的交叉区域形成顶部曲面凸起。所述随机微透镜阵列边界处理方法包括对随机微透镜阵列的初始设计灰度图像进行卷积处理得到优化设计灰度图像；基于优化设计灰度图像制造得到所述工程扩散片。利用本发明提出的工程扩散片及随机微透镜阵列边界处理方法可以消除扩散片上透镜之间的高度突变，降低加工难度，提高光利用率。
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公开(公告)号：CN113087952A
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN201911323056.X
申请日：2019-12-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种全息膜材料及其制作方法，其特征在于：所述全息膜材料为设置在基层上的复合表层，其中所述全息膜材料包括：全息层，所述全息层靠近基层一侧的表面材质与所述基层材质相同，所述全息层远离所述基层一侧的表面上形成有全息防伪微纳结构；全息膜材料设置有形成于所述全息层上并覆盖所述全息防伪微纳结构的透明介质层；全息层之上的透明介质层上还设置有保护层，所述保护层由UV光固化涂料涂层和/或热固性涂料涂层固化而成，本发明克服现有技术存在的不足，提供了一种产品能强好、长期使用中产品品质稳定的全息膜材料。
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公开(公告)号：CN109932869B
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201711375723.X
申请日：2017-12-19
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种数字光刻方法，包括以下步骤：包括以下步骤：S1：生成三维形貌数据；S2：沿着竖直方向将三维形貌数据分切成N层二维矢量图数据；S3：将二维矢量图数据转换成二维数字化像素图像；S4：将二维数字化像素图像分割成n条等间距的基础长条带图像数据；S5：根据分切层数N，分割的条数n，对分割后的基础长条带图像数据重组，形成新的长条带图像数据；以及S6：将新的长条带图像数据上载至成像设备进行逐条带扫描光刻。本发明的数字光刻方法能够方便地形成大尺寸微结构形貌的光学薄膜。本发明还涉及一种数字光刻系统。
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公开(公告)号：CN112799285A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201911115004.3
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和工作台，其中：数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与工作台之间，工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，光经过空间光调制器上的图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，工作台驱使基片在平面内沿设定路径移动曝光电性。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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公开(公告)号：CN112799237A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN202110031925.2
申请日：2021-01-11
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/26
Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置。所述裸眼三维显示装置包括：显示部件，其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列；视角调控器，其包括由多个微棱镜块阵列排布而成的微棱镜块阵列。微棱镜块阵列的微棱镜块被分成多组，各个微棱镜块的第一夹角和第二夹角的角度组合被事先设置以使得：同一组微棱镜块的出射光线汇聚成同一个视点，不同组微棱镜块的出射光线汇聚成不同视点。这样，通过设置各个微棱镜块的倾斜面的角度来形成多个不同的视点，从而实现了在不同的视角下观看到不同的三维显示效果。
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