一种晶格内部掺杂钴离子的CdS量子点及其制备方法

    公开(公告)号:CN101074369A

    公开(公告)日:2007-11-21

    申请号:CN200710072412.6

    申请日:2007-06-27

    Inventor: 蔡伟 李志国

    Abstract: 一种晶格内部掺杂钴离子的CdS量子点及其制备方法,它涉及一种稀磁半导体量子点及其制备方法。它解决了目前钴离子掺杂量子点的方法都无法将钴离子掺杂到CdS量子点晶格内部,无法得到晶格内部掺杂钴离子的CdS量子点的问题。晶格内部掺杂钴离子的CdS量子点是钴离子掺杂摩尔浓度为0.076~0.185的CdS量子点。制备方法:一、十六烷基胺真空脱气;二、降温在氮气氛条件下将(Me4N)4[S4Cd10(SPh)16]和(Me4N)2[Co4(SC6H5)10]加入,然后升温;三、待达到设定颗粒尺寸,降温;四、离心分离、沉淀物再真空干燥;五、表面配体交换。本发明晶格内部掺杂钴离子的CdS量子点在室温条件下兼具荧光和磁性双重特性。

    Zr:Fe:LiNbo3晶体及其制备方法

    公开(公告)号:CN101024902A

    公开(公告)日:2007-08-29

    申请号:CN200710071637.X

    申请日:2007-01-15

    Abstract: Zr:Fe:LiNbO3晶体及其制备方法,它涉及一种晶体及其制备方法。本发明解决了目前Fe:LiNbO3晶体反应速度慢、光折变性能差和抗光损伤能力低的问题。本发明的晶体由纯度都为99.99%的ZrO2、Fe2O3、LiCO3和Nb2O5制成;其中ZrO2的掺杂量为2~6mol%、Fe2O3的掺杂浓度为0.01~0.04wt%、Li与Nb摩尔比为0.946。本发明的方法的步骤如下:一、称取ZrO2、Fe2O3、LiCO3和Nb2O5,充分混合;二、把混合好的原料放入Pt坩锅中,采用提拉法进行晶体生长;三、将经步骤二得到的晶体极化;再把极化后的晶体准确定向,并按照Y面切割,再把切割后的晶体对其表面进行光学质量级抛光;即得到Zr:Fe:LiNbO3晶体。本发明Zr:Fe:LiNbO3晶体可作为海量全息存储器件。本发明具有衍射效率降低的幅度小、写入时间短、灵敏度高和抗光损伤能力强的优点。

    TiNi基药物洗脱支架及其制备方法

    公开(公告)号:CN1726885A

    公开(公告)日:2006-02-01

    申请号:CN200510010217.1

    申请日:2005-07-25

    Inventor: 蔡伟 李超 赵连城

    Abstract: TiNi基药物洗脱支架及其制备方法,涉及一种医用器械及其制备方法。本发明为解决现有的不锈钢血管支架容易导致局部出现炎症反应等问题。TiNi基药物洗脱支架,制备基体支架的材料为TiNi形状记忆合金,钛镍两种元素的重量百分比在40∶60~50∶50之间;TiNi基药物洗脱支架的制备方法,该方法依次包括制造基体支架和在基体支架上浸渍药物涂层的过程,制备基体支架的过程依次为管材的挤压、毛细管材激光切割、扩径与热处理、电化学处理及其清洗,然后通过常规方法在所得到的基体支架上浸渍药物即可。本发明的洗脱支架有良好的生物相容性和柔韧性、极小的促凝作用、支撑力强且在X射线下容易观察利于推广应用。

    聚L-乳酸做为医用形状记忆材料的新用途

    公开(公告)号:CN1569261A

    公开(公告)日:2005-01-26

    申请号:CN200410013749.6

    申请日:2004-05-13

    Abstract: 聚L-乳酸做为医用形状记忆材料的新用途,它涉及一种聚L-乳酸的新用途。现有技术都认为聚L-乳酸不可能作为形状记忆聚合物得到实际应用,尤其是在医用可降解形状记忆材料方面无法应用。本发明就提供了一种聚L-乳酸做为医用形状记忆材料的新用途,将聚L-乳酸在温度为190~210℃、压力为2~10MPa下成型成初始形状,即得到具有形状记忆特性的聚L-乳酸,所得聚L-乳酸可用于医用形状记忆材料。本发明首次将聚L-乳酸作为医用可降解形状记忆材料,在微创介入支架、血管接合、手术缝合线、骨折固定等方面有广泛的应用。

Patent Agency Ranking