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公开(公告)号：CN101510053A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200910028297.1
申请日：2009-02-06
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于紫外激光干涉光刻直写系统的光学镜头，其特征在于：由物方透镜组A和像方透镜组B两组透镜组成，A组透镜由A3、A2、A1三片透镜组成，B组透镜由B1、B2、B3、B4四片透镜组成；光线传播方向依次为A3、A2、A1、B1、B2、B3、B4；其中，A1、B1为弯月型凹透镜，A2、B2为双凸透镜，A3、B3、B4为弯月型凸透镜。本发明的像方透镜采用四片结构设计，因而其数值孔径大，干涉条纹的结构精细；限定物方数值孔径，可以减少透镜数量，降低实际加工的累积工艺误差，并且便于与干涉镜头物方的衍射光栅配合；可以在激光干涉直写系统上实现亚波长结构的制作。
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公开(公告)号：CN101477326A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200910028296.7
申请日：2009-02-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种多视角图形输入的三维图形直写方法，包括下列步骤：(1)获得三维物体的分视角平面数字图像；(2)对每幅图像进行分色并分割成子图，在各图像中对应位置相同的子图为一组；(3)取一组子图，分别采用迭代傅里叶变换原理，计算每一子图在远场的光场分布，提取位相信息，按视角排列，编码成H1；(4)用空间光调制器显示H1，并放置于透镜的前焦面，在透镜后焦面上形成多视角图像再现，引入干涉光，通过干涉光路在记录材料上记录再现图像；(5)对应下一组子图的位置，移动记录材料的位置；(6)重复上述步骤至所有子图记录完毕，实现三维图形的记录。本发明用激光直写的方式制作三维图形，图形具有丰富的信息表达特征。
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公开(公告)号：CN101034252A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200710039274.1
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种具有像面全息结构的投影屏，其特征在于：在投影屏幕主体上附着有像面全息信息，所述像面全息信息为在投影屏幕的竖直方向上带有延展趋势的散斑结构，定义组成散斑的微小衍射颗粒结构在竖直方向为长径L，在水平方向为短径W，则1.5W≤L≤10W。本发明同时公开了采用二步成像法制备所述投影屏的方法。本发明的投影屏具有高亮、清晰及透明的特点，对环境的要求不高，适合高端的消费场所使用；也适合追求时尚的人士做家庭影院使用。
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公开(公告)号：CN101030028A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710039276.0
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种新型衍射投影屏，包括屏幕主体及覆盖于屏幕主体表面的防护层，其特征在于：所述屏幕主体由透明或半透明材料构成，其上分布全息像素单元，单元的点阵结构是基于散斑的像面全息。通过激光分束及毛玻璃成像，以及利用压印技术，可以获得本发明的投影屏。本发明获得的投影屏实现了全息投影，不受环境光干扰、高亮度、高清晰；并突破了传统投影光学理念，创造性地将全息光学投影引入投影屏幕制造领域。
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公开(公告)号：CN118915203A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202310500978.3
申请日：2023-05-06
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G02B3/00 , G02F1/1333 , G02F1/1337
Abstract: 本申请属于安全防伪技术领域，提出了一种基于液晶微透镜阵列的可切换光场防伪薄膜及其制备方法；该防伪薄膜包括基材层，基材层的上表面设置有配向层；所述配向层上设置有液晶微透镜阵列，所述液晶微透镜阵列包含复数个液晶微透镜；所述液晶微透镜会聚某一旋向圆偏振光，发散相反旋向圆偏振光；所述基材层下表面设置有由复数个微结构单元组成的图文微结构层；所述液晶微透镜与所述微结构单元一一对应。与普通微透镜相比，液晶微透镜能够满足切换不同圆偏振态的光，人眼观察到不同的像，达到可切换的光场防伪效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114147959B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202010931321.9
申请日：2020-09-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/20 , B29C64/386 , B29C64/393 , B29C64/124 , B29C64/268 , G06T17/00 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02
Abstract: 本发明公开了一种连续生长的3D打印方法，该方法包括下列步骤：建模；生成切片，将三维模型在Z轴方向进行切片；转换，将每一切片模型图转换为切片位图；初次数据上传，数据处理模块将前N*M个位图文件上传至N个子内存中；打印，控制模块控制载物台持续匀速移动，同时控制模块根据实际情况控制子内存不断刷新切片位图进行连续打印，每完成前一个子内存中的M个切片位图的打印，控制模块控制下一个子内存刷新切片位图进行打印，同时控制数据传输模块向前一个子内存上传新的M个位图，重复直至K幅切片位图完成打印。本发明还公开了一种3D打印设备，采用上述的连续生长的3D打印方法实现连续打印。通过上述方法，实现连续打印，节省了打印时间。
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公开(公告)号：CN112132948B
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN201910490271.2
申请日：2019-06-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开一种图像处理方法，该方法的具体步骤包括：S1：建成灰度模型图；S2：计算灰度模型图X方向的扫描线的集合；S3：计算X轴扫描线集合中每一条扫描线与灰度模型图的所有交点的坐标，并分组；S4：计算扫描线集合中相应区间的每一条扫描线的每一组交点内的所有像素点的物理高度；S5：转换各区间所有像素点的灰度值得到灰度位图。本发明还公开一种图像处理装置，设有上述图像处理方法；本发明还公开本发明还公开一种光刻系统，包括执行上述图像处理方法；本发明还公开一种计算机可读存储介质，包括储存上述图像处理方法。通过计算图像中每个像素点的灰度值，可以实现任一幅面具有立体浮雕效果的结构的图像处理。
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公开(公告)号：CN112987501B
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN201911303595.7
申请日：2019-12-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种直写光刻系统和直写光刻方法，其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置；运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描，并用于发出参考点的位置数据；中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据；光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光；投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑，并在运动机构的带动下沿预设路径扫描，在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化，形成预设的可控变形光斑。本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻，并提高了光刻精度和光刻效率。
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公开(公告)号：CN112799285B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201911115004.3
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和工作台，其中：数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与工作台之间，工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，光经过空间光调制器上的图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，工作台驱使基片在平面内沿设定路径移动曝光电性。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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公开(公告)号：CN110119071B
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201810117030.9
申请日：2018-02-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种干涉光刻系统，包括位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和锥透镜组，位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜沿着光轴传播方向依次设置，第一透镜与第二透镜形成一组4F成像系统，第三透镜与第四透镜形成另一组4F成像系统，锥透镜组沿着光轴传播方向可移动地设置于第三透镜与第四透镜之间。本发明的干涉光刻系统结构简单，制作成本低，能够实现多角度、变周期干涉光刻。本发明还涉及一种打印装置和干涉光刻方法。
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