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公开(公告)号:CN102119237B
公开(公告)日:2013-02-13
申请号:CN200980129084.6
申请日:2009-09-18
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/30 , H01J9/02 , H01J9/46
Abstract: 本发明提供一种保护膜的形成方法以及该形成装置,为了对构成32英寸以上的平板显示器的基板形成保护膜,无需使装置大型化,无需托架等,维护性优良。一种对32英寸以上的等离子体显示器面板的基板形成保护膜的方法,其特征在于,以在成膜室内的规定的位置使所述基板静止的状态下,与所述基板对置地配置多个蒸发源,对所述各蒸发源照射电子束而进行成膜。
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公开(公告)号:CN102834893A
公开(公告)日:2012-12-19
申请号:CN201180015696.X
申请日:2011-03-16
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01J9/02
Abstract: 本发明提供一种等离子显示面板的制造方法。包括含有金属氧化物的衬底层和、分散配置在衬底层上的凝集粒子的等离子显示面板的制造方法包括以下工艺。在电介质层上形成衬底层。接着,在衬底层上涂布第1有机溶剂,从而形成第1涂布层。接着,在第1涂布层上涂布分散有凝集粒子的第2有机溶剂,从而形成第2涂布层。接着,加热第1涂布层及第2涂布层,从而使第1有机溶剂及第2有机溶剂蒸发,且在衬底层上分散配置凝集粒子。
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公开(公告)号:CN102822113A
公开(公告)日:2012-12-12
申请号:CN201180018437.2
申请日:2011-04-11
Applicant: 达泰豪化学工业株式会社 , 松下电器产业株式会社
IPC: C04B35/01 , C04B35/622 , C23C14/24 , H01J9/02 , H01J11/40
CPC classification number: C04B35/04 , C04B35/053 , C04B2235/3205 , C04B2235/3208 , C04B2235/3213 , C04B2235/3215 , C04B2235/3217 , C04B2235/3224 , C04B2235/3225 , C04B2235/3229 , C04B2235/3241 , C04B2235/3244 , C04B2235/44 , C04B2235/442 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C04B2235/94 , C04B2235/95 , C23C14/3414 , H01J9/02 , H01J11/40 , H01J2211/40 , Y10T428/21
Abstract: 本发明提供能够抑制在成膜时发生飞溅且不易在成膜装置的供给口发生堵塞的氧化镁烧结体、使用该烧结体得到的PDP的保护膜用蒸镀材料以及上述烧结体的制造方法。该氧化镁烧结体包含氧化镁和3~50质量%的镁以外的元素周期表第IIA族元素的氧化物,根据需要包含1000ppm以下的选自铝、钇、铈、锆、钪和铬中的一种或两种以上的元素,该氧化镁烧结体的形状为圆板状、椭圆板状、多边形板状或半月板状,或者为在立方体或长方体的顶点带有弧度的形状。
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公开(公告)号:CN102379011B
公开(公告)日:2012-12-05
申请号:CN201080014569.3
申请日:2010-03-03
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H01J9/02 , H01B1/16 , H01J11/22 , H01J2211/225
Abstract: 通过制成含有平均粒径为1~4μm的铝粉末30~45重量%、软化点为400~550℃的玻璃粉末5~15重量%、感光性有机成分15~30重量%、和溶剂20~40重量%的感光性导电糊料,来提供可低成本地形成导电性高的电极的感光性导电糊料、和使用该感光性导电糊料得到的显示器。
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公开(公告)号:CN102714118A
公开(公告)日:2012-10-03
申请号:CN201080061830.5
申请日:2010-12-27
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 本发明提供一种等离子显示面板的制造方法。制作包含凝集粒子和溶剂的凝集粒子膏剂,所述凝集粒子凝集了多个由氧化镁构成的结晶粒子。制作包含由氧化镁构成的立方体形状的结晶粒子和溶剂的结晶粒子膏剂。然后,通过混合凝集粒子膏剂和结晶粒子膏剂来制作混合结晶粒子膏剂。然后,通过将混合结晶粒子膏剂涂敷在基底层上来形成混合结晶粒子膏剂膜。然后,通过干燥混合结晶粒子膏剂膜而将凝集粒子和结晶粒子分散配置于基底层的整个面。
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公开(公告)号:CN101595547B
公开(公告)日:2012-08-08
申请号:CN200780039020.8
申请日:2007-10-19
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 本发明提供通过改善保护层的放电特性,从而即使是在高精细单元结构中也能够获得优异的图像显示性能的PDP及其制造方法。具体地说,用氧化镁膜层(81)和氧化镁结晶颗粒群(16)构成的氧化镁结晶颗粒层(82)构成保护层(8)。氧化镁结晶颗粒群(16)根据利用氧化镁前体烧结的制作方法制作,而且使其具有这样的特性,即比例a/b为1以上,其中a表示CL测定中200nm以上、不足300nm的波长区域的光谱积分值,b表示300nm以上、不足550nm的波长区域的光谱积分值。
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公开(公告)号:CN101007350B
公开(公告)日:2012-07-04
申请号:CN200610167574.3
申请日:2006-12-22
Applicant: 普兰西欧洲股份公司
CPC classification number: H01J9/02 , B22F3/15 , B22F5/00 , B22F2003/248 , B22F2998/10 , C22C1/045 , H01J9/04 , H01J61/0735 , B22F3/04 , B22F3/1007 , B22F3/18 , B22F3/24 , B22F3/17
Abstract: 本发明涉及一种由平均相对密度>98.5%、相对芯部密度>98.3%的钼、钼合金、钨或钨合金材料制造半成品或元件的方法。该方法包括烧结到相对密度D为90%<D<98.5,且闭孔相对于总孔隙度的比例>0.8,并在0.40到0.65×固相线温度的温度下和50到300MPa的压力下进行热等静压制。用这种方法制造的元件例如被用作电极,其具有许多改良的使用寿命特性。
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公开(公告)号:CN101459022B
公开(公告)日:2012-04-18
申请号:CN200810183768.1
申请日:2008-12-15
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01J9/02 , H01J11/12 , H01J11/40 , Y10T428/258
Abstract: 本发明涉及等离子体显示面板(PDP)的保护层,制备该保护层的方法,和包括该保护层的PDP。保护层包含可以使具有镁空位杂质中心(VIC)的含镁氧化物颗粒附着其上的表面的含镁氧化物层。保护层可以阻挡等离子体离子且具有极好的电子发射效应,因此,包含该保护层的PDP可以在具有高放电效率的低电压下工作。
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公开(公告)号:CN101443858B
公开(公告)日:2012-03-28
申请号:CN200780017459.0
申请日:2007-05-11
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor: 岸政洋
CPC classification number: H01J9/02 , C03C15/00 , C03C17/23 , C03C2218/33 , H01J11/12 , Y10T428/24926
Abstract: 本发明的课题是在通过激光图案化的方法制造带透明电极的玻璃基板时,提供玻璃基板表面无瑕疵、且形成的透明电极的电阻值未上升、表面的粗糙度也未提高的带透明电极的玻璃基板的制造方法。其解决手段是提供具备图案形成工序和刻蚀工序的带透明电极的玻璃基板的制造方法,该图案形成工序是在玻璃基板上形成透明导电膜后用激光形成图案,获得带薄膜图案的玻璃基板的工序;该刻蚀工序是采用刻蚀液对所述带薄膜图案的玻璃基板进行刻蚀处理的工序,该刻蚀液是溶解所述玻璃基板的刻蚀液,具备溶解所述玻璃基板的溶解速度比溶解所述透明导电膜的溶解速度快的性质。
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公开(公告)号:CN101501573B
公开(公告)日:2012-03-21
申请号:CN200780028832.2
申请日:2007-07-31
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G03F7/2022 , H01J9/02 , H01J11/10 , Y10T29/49117 , Y10T29/49124 , Y10T29/49128 , Y10T29/49155
Abstract: 本发明提供了一种用于制造设置有电路图案的透明基板的方法,该基板具有的电路图案没有图案剥落和抗蚀剂残留,并具有优良的图案精度,并且当用作电子电路的电极等时不会引起断开。本发明涉及一种用于制造设置有电路图案的基板的方法,其中在基板上形成包括薄膜层的所需电路图案,该方法包括:在基板上形成抗蚀层的步骤;在抗蚀层中形成与所需电路图案对应形状的开口的步骤;形成薄膜层的步骤;将抗蚀层和形成在该抗蚀层上的薄膜层剥离的步骤,其中在抗蚀层开口中的截面形状具有屋檐型截面形状,该屋檐型截面形状在抗蚀层与基板间的边界处具有空间,确定空间的高度和宽度,使得当在薄膜层形成步骤中形成薄膜层时,在开口中的基板上形成的薄膜层的末端没有触碰到抗蚀层的下端缘部。
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