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公开(公告)号：CN105490166B
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201610041567.2
申请日：2016-01-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种微腔激光器阵列，其包括由下至上依次设置的衬底层、泵浦层、增益层和封装层，增益层内设置有多个阵列排布且并行出光的DBR微腔激光器，泵浦层用于连通泵浦源，该泵浦源将泵浦光输入到泵浦层内。本发明还公开了一种包括该微腔激光器阵列的可见光光度计。本发明与现有技术相比，有效地权衡了高分辨率、高效率和制造成本高之间的矛盾，使得微腔激光器阵列既具有高分辨率、高效率的优点，又具有制造成本低的优势。
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公开(公告)号：CN109901295A
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201711295321.9
申请日：2017-12-08
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/01
Abstract: 本申请涉及光波导膜、具有光波导膜的抬头显示器、彩色抬头显示器和抬头显示系统。所述光波导膜包括：贴合面，用于通过粘合剂与基材表面贴合；以及功能面，与贴合面相对，包括将光线耦合入光波导膜的耦合区以及用于将光线输出的出射区。基材可实现全反射，基材与光波导膜的功能面之间构成光波导。
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公开(公告)号：CN106371218B
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201610970307.3
申请日：2016-10-28
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 本发明公开了一种头戴式三维显示装置，包括图像生成装置，和对应眼睛的可视镜片，所述可视镜片上设有至少一层设置有具有会聚成像功能的纳米结构功能薄膜，从而使得可视镜片成为具有光场变换功能的指向性功能镜片，所述指向性功能镜片上的纳米结构与图像生成装置输出的图像匹配，在人眼前方投射出会聚波面，形成虚拟景象；或该会聚波面与现实景象形成的波面叠加，得到真实世界信息和虚拟世界信息的融合。本发明在眼球前方的空间中会聚视角图像，形成虚拟景象，其和现实景物在人眼中成像的原理一致，因此长时间观看的视觉疲劳度比传统的三维显示技术大大降低。
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公开(公告)号：CN109407479A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201710713385.X
申请日：2017-08-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种激光直写对焦装置，包括微调机构、承载平台和成像系统，微调机构与承载平台相对设置，微调机构包括微调驱动器、活动架和位移传感器，成像系统包括直写镜头，微调驱动器、位移传感器、直写镜头分别与活动架连接。本发明的激光直写对焦装置能保证直写镜头与光刻板的距离在直写镜头的焦深范围内，能解决光刻板厚度变化较大的情况下无法自动对焦的问题。本发明还涉及一种激光直写对焦方法。
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公开(公告)号：CN108728790A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201710263831.1
申请日：2017-04-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种AMOLED用金属掩膜板的制造方法，包括步骤：选取导电基板；在导电基板的表面涂布一层光刻胶；使光刻胶光刻出与金属掩膜板的蒸镀孔相对应的光刻胶图形，但光刻出的光刻胶图形的尺寸大于金属掩膜板的蒸镀孔的设计尺寸；在带有光刻胶图形的导电基板上进行电铸过生长，使金属材料的生长厚度大于光刻胶图形的厚度，金属材料同时将光刻胶图形的四周边缘覆盖，直至光刻胶图形未被金属材料覆盖的开口区域的尺寸与金属掩膜板的蒸镀孔的设计尺寸一致；去除导电基板上残留的光刻胶。上述金属掩膜板的制造方法只需要一次图形光刻和电铸工艺便可加工成型，工艺简单，成本低廉，而且是通过在带有光刻胶图形的导电基板上电铸过生长出金属掩膜板，因此精度更高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106681106B
公开(公告)日：2018-10-19
申请号：CN201710206374.2
申请日：2017-03-31
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70383 , G03F7/70408 , G03F7/7045
Abstract: 一种混合光刻系统，包括光源、光束整形器、光场调制器、反射镜、成像光学系统和位相器件，光束整形器用于整形光源发出的光束；光场调制器用于将整形后的光束生成图形光；成像光学系统和反射镜用于将光场传递至待曝光的光刻件表面实现直写光刻；位相器件用于在光刻件的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。本发明的混合光刻系统具有直写光刻和干涉光刻两种功能，可进行混合光刻，提高了纳米光刻效率，推动微纳结构相关的器件和材料应用具有重要意义。本发明还涉及一种的混合光刻方法。
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公开(公告)号：CN106646884A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611270016.X
申请日：2016-12-30
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种大视场投影物镜，包括分光器件、中继透镜组、分光组件。所述中继透镜组包含：非球面透镜组和一片纳米透镜，本发明在光学系统中引入设有衍射面的纳米透镜，用纳米透镜代替双胶合透镜可降低系统的重量。将本发明设计的投影物镜，与DMD、LCD或LCOS显示器件以及相应照明光源配合使用，将显示器件反射的光束收集在出瞳处，出瞳在投影结构外部，和后续的纳米波导镜片匹配，构建的三维显示装置，特别是近眼三维显示装置，具有显示大视场、高像质、光利用效率高特点。
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公开(公告)号：CN106646691A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611125124.8
申请日：2016-12-09
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供了一种菲涅尔器件的制作方法，其包括以下步骤：1)图像3D建模；2)将建模后的3D图，按照菲涅尔的变化规律进行量化处理；3)通过等高投影或等宽投影进行像素微结构模拟；4)像素化拼接；5)通过光刻工艺至整个图像光刻完成；6)通过转移工艺将模板转移到应用材料上。本发明还提供了一种菲涅尔器件的制作装置。本发明与现有技术相比，可以实现任意形状的菲涅尔器件；且尺寸不受限制，通过拼版等工艺，可以做大尺寸的菲涅尔器件；且该方法降低了成本。
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公开(公告)号：CN105959672A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201610280819.7
申请日：2016-05-03
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H04N13/04
Abstract: 本发明公开了一种基于主动发光型显示技术的裸眼三维显示装置，其包括：主动发光的显示单元，其包括光强可调的发光阵列，该发光阵列通过电路控制系统依照多视角叠加图像对光场振幅进行调制；指向性位相板，其像素含有纳米光栅像素结构，分别对应于各视角图像的亚像素，该纳米光栅像素结构含有按照全息原理设计的纳米光栅组合，主动发光的显示单元的出射光线照射到指向性位相板上后，纳米光栅像素结构对入射的视角图像进行波前转换，将平行照明光在主动发光的显示单元的前方或者侧面的空间上形成会聚视点。本发明相较于现有技术可同时兼顾个人消费电子市场和工业及户外显示市场需求，实现超薄、轻便、大面积、高亮度、低成本的裸眼3D显示。
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公开(公告)号：CN105619819A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610090876.9
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提出一种基于基底层的三维成型装置，包括基底层以及基材成型机构、曝光机构、支撑机构及剥离机构，基材成型机构包括分离液喷射装置及用于盛放感光材料的容置槽，分离液喷射装置喷射分离液至基底层下方表面以形成分离型涂层，之后涂覆感光材料层，基底层、分离型涂层与感光材料层依次成型形成基材，基材被反复依次运送至基材成型机构、支撑机构及剥离机构，控制基材成型机构、曝光机构与剥离机构的对应位置，可以使得三维成型装置同时进行基材成型、曝光、剥离中的两个或三个步骤，基材成型、曝光与剥离动作同时反复进行，提升了工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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