-
公开(公告)号：CN108728790A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201710263831.1
申请日：2017-04-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种AMOLED用金属掩膜板的制造方法，包括步骤：选取导电基板；在导电基板的表面涂布一层光刻胶；使光刻胶光刻出与金属掩膜板的蒸镀孔相对应的光刻胶图形，但光刻出的光刻胶图形的尺寸大于金属掩膜板的蒸镀孔的设计尺寸；在带有光刻胶图形的导电基板上进行电铸过生长，使金属材料的生长厚度大于光刻胶图形的厚度，金属材料同时将光刻胶图形的四周边缘覆盖，直至光刻胶图形未被金属材料覆盖的开口区域的尺寸与金属掩膜板的蒸镀孔的设计尺寸一致；去除导电基板上残留的光刻胶。上述金属掩膜板的制造方法只需要一次图形光刻和电铸工艺便可加工成型，工艺简单，成本低廉，而且是通过在带有光刻胶图形的导电基板上电铸过生长出金属掩膜板，因此精度更高。
-
公开(公告)号：CN106646884B
公开(公告)日：2020-03-20
申请号：CN201611270016.X
申请日：2016-12-30
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种大视场投影物镜，包括分光器件、中继透镜组、分光组件。所述中继透镜组包含：非球面透镜组和一片纳米透镜，本发明在光学系统中引入设有衍射面的纳米透镜，用纳米透镜代替双胶合透镜可降低系统的重量。将本发明设计的投影物镜，与DMD、LCD或LCOS显示器件以及相应照明光源配合使用，将显示器件反射的光束收集在出瞳处，出瞳在投影结构外部，和后续的纳米波导镜片匹配，构建的三维显示装置，特别是近眼三维显示装置，具有显示大视场、高像质、光利用效率高特点。
-
公开(公告)号：CN110795970A
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201810871071.7
申请日：2018-08-02
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明涉及生物特征识别技术，特别涉及用于获取指纹图像的装置、包含该装置的触摸屏和包含该触摸屏的移动终端。按照本发明一个方面的用于获取指纹图像的装置包含：导光板；设置于所述导光板下方的光源；设置于所述导光板与所述光源之间的光学变换单元，其配置为将从所述光源出射的光束变换为准直光束和当所述导光板的上表面未有物体覆盖时，使所述准直光束在所述导光板内部发生全反射；设置于所述导光板下方的成像单元，其配置为对从所述导光板出射的光束进行成像；以及设置于所述成像单元的成像位置处的图像采集单元。
-
公开(公告)号：CN110531527A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201810560628.5
申请日：2018-05-25
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 本发明涉及显示技术，特别涉及用于实现裸眼三维显示的装置。按照本发明一个方面的三维显示装置包含：背光板，其配置为将光源发出的光束转换为第一准直光束；位于所述第一准直光束传播方向上的空间光调制器，其配置为通过振幅调制方式将多视角混合图像信息加载到所述第一准直光束上以形成第二准直光束；以及位于所述第二准直光束传播方向上的正透镜组，其配置为将所述第二准直光束所承载图像中的不同视角的图像投射至各自对应的观察位置。
-
公开(公告)号：CN109932869A
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201711375723.X
申请日：2017-12-19
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种数字光刻方法，包括以下步骤：包括以下步骤：S1：生成三维形貌数据；S2：沿着竖直方向将三维形貌数据分切成N层二维矢量图数据；S3：将二维矢量图数据转换成二维数字化像素图像；S4：将二维数字化像素图像分割成n条等间距的基础长条带图像数据；S5：根据分切层数N，分割的条数n，对分割后的基础长条带图像数据重组，形成新的长条带图像数据；以及S6：将新的长条带图像数据上载至成像设备进行逐条带扫描光刻。本发明的数字光刻方法能够方便地形成大尺寸微结构形貌的光学薄膜。本发明还涉及一种数字光刻系统。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106842606B
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201710222207.7
申请日：2017-04-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于随机激光散斑的纳米级结构光衍射器件。该结构光衍射器件的衍射结构单元只有几百纳米，甚至几十纳米，具有分辨率高，对比度高和视场角大等优势。在此基础上，本发明还提出了一种纳米级衍射器件的制作方法，即位相光场干涉光刻法。利用该方法可以制备出高品质的深度感知结构光衍射器件。相比于传统的光学元件加工技术，本发明提出的位相光场干涉光刻法具有分辨率高和位相匹配精度高等优势，与紫外投影曝光和电子束直写等光刻技术相比，本发明提出的光刻技术具有速度快、成本低等优势。
-
公开(公告)号：CN105487239B
公开(公告)日：2018-03-02
申请号：CN201510778086.5
申请日：2015-11-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供了一种指向性彩色滤光片和裸眼3D显示装置，包括彩色滤光片和指向性功能结构层；彩色滤光片包括多个滤光单元，每一滤光单元包括至少三个不同颜色的滤光子单元；指向性功能结构层包括多个结构单元，每一结构单元与一滤光单元对应设置；每一结构单元包括至少三个结构子单元；每一结构子单元与一滤光子单元对应设置；每一结构子单元包括多个纳米衍射光栅；同一结构子单元内的纳米衍射光栅的周期和取向角不同，从而不会出现同一纳米衍射光栅出射两种颜色的光，导致光线串扰的问题，且该指向性彩色滤光片在技术上较容易实现，使得本发明提供的基于指向性背光技术的无视觉疲劳的多视角的裸眼3D显示装置较易得到实际应用。
-
公开(公告)号：CN105372824B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201510969723.7
申请日：2015-12-22
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 本发明公开了一种裸眼3D显示装置，包括指向投影屏幕、激光器光源及红、绿、蓝三个单色激光光源。利用三个单色激光光源以特定角度和位置入射在具有纳米光栅像素的指向投影屏幕上，形成相同出射光场，激光器光源提供多视角图像像素，多视角图像像素与指向投影屏幕上的纳米光栅像素阵列匹配，通过直接对激光投射光的空间调制，实现了彩色3D显示，且各视点间无串扰，此种裸眼3D显示装置，具有观看无视觉疲劳、成本低的优点。
-
公开(公告)号：CN105489784B
公开(公告)日：2017-10-31
申请号：CN201510906030.3
申请日：2015-12-09
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种柔性导电电极的制备方法及该方法制备的电极及其应用，制备方法包括以下步骤：(1)光掩膜版制备：将导电线栅光刻到光掩膜上；(2)电沉积模具制备：然后将线栅型光掩膜版进行紫外曝光，形成图形化线栅沟槽；(3)电沉积工艺：将金属基板放置于电铸沉积槽中，生成电沉积层；(4)生成柔性导电电极：将金属基板上涂布一层固化胶，柔性衬底覆盖于固化胶上，经过紫外固化后脱模，获得柔性导电电极。本发明制备的柔性导电电极的表面平整度只取决于所用金属基板材料的表面平整度，具有较高平整表面，制备的OLED装置不会因透明电极的表面起伏较大，引起背电极与基底相接触，造成短路而损毁，大大提升了使用寿命。
-
公开(公告)号：CN105445834B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201510701449.5
申请日：2015-10-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置，采用小尺寸光栅拼接而成，曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅，第一级缩微模块为4F成像系统，第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统，该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数，且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面，该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面，其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组，所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间，当曝光光斑中的条纹位置需要调整时，将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移，实现光斑中条纹位置改变。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
289
records
(took 0.068 seconds)
