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公开(公告)号：CN102736451B
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201210229255.6
申请日：2012-07-04
Applicant: 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种三光束干涉光刻方法和系统，其方法包括：激光束被位相光栅分光成三路光束后在加工工件表面实现N次干涉曝光，相邻两次曝光位置之间的错位值为dI/N，其中，N为大于等于3的奇数，dI为曝光后的光强分布的周期，所述三路光束分别为复振幅相同的第一光束和第二光束以及0级光束。通过本发明的三光束干涉光刻方法，可以在光刻胶上直接制备大幅面的精密多台阶结构，加工效率高，而且所采用的元器件容易获得，成本低。另外，采用三光束干涉曝光，对光栅和系统没有消零级的要求，易于制备。
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公开(公告)号：CN103424794A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201310395325.X
申请日：2013-09-03
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B27/1086 , G02B5/1842 , G02B5/1866 , G03F7/70408
Abstract: 一种透射式分光光栅及干涉光刻系统，该透射式分光光栅包括位于入射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区，所述光栅槽形区包括阶梯状光栅结构，该阶梯状光栅结构具有透射阶梯面和非透射区。该透射式分光光栅能够实现对±1级光的最大调制，使得透射出去的分束光具有最高的能量利用率，通过该透射式分光光栅的获得的干涉图形，具有良好的边界质量，能够完成进行精密的拼接图形，使得大幅面干涉光刻技术得到显著的提升。
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公开(公告)号：CN103279014A
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN201310236124.5
申请日：2013-06-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种纳米图形化衬底制备装置和方法，该制备方法依赖激光干涉曝光对衬底翘曲的不敏感性，克服蓝宝石衬底翘曲特性给现有图形化技术带来的离焦问题，并在制备装置中，设计了能够对相位和空间光场信息进行调制的光学系统，使得该激光干涉曝光系统能够对干涉光斑的形状大小和内部点阵分布进行控制，从而为衬底的纳米图形化工艺带来了工业化应用的可能。
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公开(公告)号：CN103268018A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201310234223.X
申请日：2013-06-13
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B27/12
Abstract: 一种分束器件及多光束干涉光路系统，该分束器件包括挡光母板，位于该挡光母板上的多个圆孔，以及位于该多个圆孔中的多个分束透镜，通过该多个分束透镜实现多光束的分束，具有原理简单，分束效果可调的优点，并且产生的分束光路不需要采用多个支路进行调整，使得本发明的多光束干涉光路系统的总体结构简单并且紧凑，为多光束干涉曝光带来的新的应用前景。
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公开(公告)号：CN101976020B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201010503788.X
申请日：2010-10-12
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种光刻装置及光刻方法，该光刻装置根据光路的可逆原理在光阑的共轭位置处设置检测装置，可以检测光束在待刻物件表面的汇聚和成像信息，提高光刻光点的品质，同时该光刻方法应用上述光刻装置实现在刻蚀过程中无论由待刻物件表面的凹凸情况引起的离焦现象，还是由填充液加热导致的折射率变化而引起的离焦现象，都能即时地、精确地进行自动调焦，从而保证了移动式曝光的光刻质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102621824A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210114482.4
申请日：2012-04-18
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光学加工系统，包括：加工平台，实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动；空间光调制器，产生设计图形；投影光学系统，包括第一透镜组、第二透镜组和滤波器，所述滤波器设于所述第一透镜组和第二透镜组之间且位于所述第一透镜组的频谱面上。申请的光学加工系统和方法实现的灰度等级不依赖于曝光时间和曝光次数，可以在极短曝光时间内和单次曝光的条件下实现准确的灰度等级，因而完全适用于飞行曝光加工方式，加工效率和定位精度高。
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公开(公告)号：CN102591159A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201210076397.3
申请日：2012-03-21
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光学加工系统，包括加工平台、光学投影镜头、光学模板、中央控制系统、位置补偿系统和光源。其中，位置补偿系统包括位置检测系统、空间光调制器、位置信号处理模块和偏差筛选模块。本发明的光学加工系统中，加工平台实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动，光学模板实现第三运动轴的扫描运动，通过空间光调制器对第二运动轴方向上的曝光位置进行动态补偿，实现了第二运动轴和第三运动轴这两个扫描轴的精确高速同步，从而能够以“两轴扫描、一轴步进”的方式实现三维加工，其加工效率和加工精度大幅提升。
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公开(公告)号：CN101477326B
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN200910028296.7
申请日：2009-02-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种多视角图形输入的三维图形直写方法，包括下列步骤：(1)获得三维物体的分视角平面数字图像；(2)对每幅图像进行分色并分割成子图，在各图像中对应位置相同的子图为一组；(3)取一组子图，分别采用迭代傅里叶变换原理，计算每一子图在远场的光场分布，提取位相信息，按视角排列，编码成H1；(4)用空间光调制器显示H1，并放置于透镜的前焦面，在透镜后焦面上形成多视角图像再现，引入干涉光，通过干涉光路在记录材料上记录再现图像；(5)对应下一组子图的位置，移动记录材料的位置；(6)重复上述步骤至所有子图记录完毕，实现三维图形的记录。本发明用激光直写的方式制作三维图形，图形具有丰富的信息表达特征。
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公开(公告)号：CN101510053B
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200910028297.1
申请日：2009-02-06
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于紫外激光干涉光刻直写系统的光学镜头，其特征在于：由物方透镜组A和像方透镜组B两组透镜组成，A组透镜由A3、A2、A1三片透镜组成，B组透镜由B1、B2、B3、B4四片透镜组成；光线传播方向依次为A3、A2、A1、B1、B2、B3、B4；其中，A1、B1为弯月型凹透镜，A2、B2为双凸透镜，A3、B3、B4为弯月型凸透镜。本发明的像方透镜采用四片结构设计，因而其数值孔径大，干涉条纹的结构精细；限定物方数值孔径，可以减少透镜数量，降低实际加工的累积工艺误差，并且便于与干涉镜头物方的衍射光栅配合；可以在激光干涉直写系统上实现亚波长结构的制作。
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公开(公告)号：CN101551482A
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：CN200910028285.9
申请日：2009-01-24
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种亚波长光栅结构彩色滤光片及其制作方法，滤光片包括：透明基底、位于该基底上的三色像素阵列，其特征在于：所述三色像素阵列由光栅阵列构成，所述光栅阵列由介质层和金属层构成，金属层位于介质层的外面，每一光栅的周期与其滤光的颜色相对应，三种周期的光栅分别用于对入射光中的红、绿、蓝三色进行滤光。其制作是在透明基底上依次涂布介质层和金属层，并且使该介质层和金属层形成凹凸的光栅结构。本发明只需改变光栅的周期，就可获得针对R、G、B三色的透射光谱，降低了加工彩色滤光片的难度；获得的滤光片具有合适的透射光谱，色纯度好；偏振光透过率高。
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