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公开(公告)号：CN115193315A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210862346.7
申请日：2022-07-22
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种等离子喷涂粉料的混合装置，包括储粉仓、混料装置和下料装置，所述的混料装置包括混料管，所述的混料管是竖直、中空圆柱形管道，混料管底部设有进气口，进气口处设有导风盘，混料管上端设有出料口；所述的储粉仓是中空、下方呈倒锥形，设有卸料口，卸料口与混料管底部联通，卸料口处设有给料阀；所述下料装置包括给料阀和质量传感器，质量传感器斜置在给料阀出口下方，给料阀中叶轮结构，螺旋形相对于直线形，能够形成连续下料，避免粉料混合配比波动；混料管道导风盘和螺旋气道，能够形成螺旋涡流，对粉料进行有效混合；导风盘的设计能有效防止粉末沉积在罐底，对生产造成损害。
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公开(公告)号：CN111982414A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010793118.X
申请日：2020-08-10
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
IPC: G01M3/20
Abstract: 本发明公开了一种物理气相沉积设备中陶瓷真空连接器气密性的检测方法。其特征在于，包括以下步骤：S1.将陶瓷真空连接器连接器连接真空接口并固定好位置；S2.连接真空接口抽取真空使其达到测试状态；S3.利用示踪气体检测并标记泄漏位置。该方法可以有效的检测清洗后真空连接器光滑面气密性状况，解决了常规情况下清洗后不检测，导致了上机台无法使用的窘境，提高了清洗的成功率的同时也提高了客户端的生产效率，以及提供一种物理气相沉积设备压力控制器上的真空连接器气密性检测装置，该装置结构简单，易于组装，价格低廉，该领域的普通技术人员也可操作，大大降低了生产成本，提高了生产效率。
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公开(公告)号：CN111871950A
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN202010728964.3
申请日：2020-07-27
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
IPC: B08B3/12 , B08B5/02 , B08B5/04 , B24C1/08 , H01J37/317
Abstract: 本发明公开了一种半导体离子注入装置石墨部件表面处理装置和工艺，是一种超声清洗去除部件表面残膜及石墨碎片的处理方法，配合优化后的喷砂洗净工艺，具有清洗效果明显、部件重复使用次数多、无污染等优点，适合在半导体、液晶平板显示等精密设备的维护保养方面大力发展。
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公开(公告)号：CN111804674A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN202010343187.0
申请日：2020-04-27
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
IPC: B08B7/04 , B08B5/02 , B08B7/00 , B08B3/08 , B08B3/02 , B08B3/12 , B08B3/10 , B08B1/00 , F26B21/00 , B24C1/00 , B24B27/033
Abstract: 本发明公开了一种ETCH设备中阳极氧化部件面污染物的洗净方法，在阳极氧化部件清洗过程中，使用干冰喷砂方式预处理表面附着物，然后再配合弱碱性试剂擦拭和物理打磨方式完成表面污染物的清洁，提高了阳极氧化件清洗再生的效率，同时减少了传统清洗方式下过度损耗问题，延长了阳极氧化铝部件的使用次数以及寿命。
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公开(公告)号：CN119040788A
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN202411166752.5
申请日：2024-08-23
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
IPC: C23C4/123
Abstract: 本发明提供一种具有在线监测功能的熔射设备，包括熔射机的机械臂以及熔射末端机构，通过熔射机的机械臂控制熔射末端机构处于不同的位置实现对需要熔射的部品表面的熔射，所述熔射末端机构表面还安装有在线监测系统,通过在线监测系统能够发射出监测激光能够对需要熔射的部品表面进行监测进而判断熔射涂层的粗糙度和厚度是否符合要求，所述在线监测系统包括白光干涉仪和激光共聚焦膜厚仪。本发明可以在线实时监控并监测熔射涂层的粗糙度和厚度等参数，并根据监测结果实时反馈给熔射机的控制系统，做出相应的调整，以满足需要的熔射参数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116288129B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202310338014.3
申请日：2023-03-31
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种复合陶瓷涂层制备方法及喷涂加工装置，通过第一次喷涂能够形成氧化铝、氧化硅涂层，通过第二次喷涂能够形成氟化铝涂层，通过第三次喷涂能够形成氟化钇涂层；三层涂层从内向外依次分布，形成具有多层复合结构的耐等离子陶瓷涂层，丰富了复合陶瓷涂层结构，整体耐等离子蚀刻的防护能力，避免安全意外发生。该发明解决了传统复合陶瓷涂层结构单一，防护能力差的问题。
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公开(公告)号：CN115537830A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202211147758.9
申请日：2022-09-19
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明涉及Open Mask清洗领域，具体为一种OLED蒸镀工艺Open Mask部件清洗设备，包括清洗箱，所述清洗箱内设置有超声波振板。本发明通过设置承载机构、升降机构、循环管、除垢箱和过滤箱，药水通过承载箱上的过滤网进入到承载箱内，与Open Mask接触，使得open mask部件表面的镀膜脱离，随后通过升降机构，将承载箱向上运动，进入到除垢箱内，在驱动电机的作用下，驱动承载箱进行旋转，在离心力的作用下，使得承载箱内脱离的镀膜通过排水孔排出，由于设置过滤网，使得脱离的镀膜无法穿过承载箱进入到清洗箱内与药水进行混合，而清洗箱内的药水可以自由通过过滤网，避免浸泡时镀膜对药水的污染，从而提高了药水对Open Mask的清洗效果，并且能延长药水的使用周期，节约药水量。
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公开(公告)号：CN114367908A
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN202210186981.8
申请日：2022-02-28
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种半导体PVD设备Clamp ring抛光打磨机，包括夹紧块，支撑板、气缸和旋转机构，所述的气缸设置在旋转机构上，气缸顶端设有支撑板，所述支撑板为圆形，其工作面等距设有凹槽，凹槽将支撑板的圆形工作面分隔成三个相等的扇形，凹槽内设有夹紧长条，该装置可以有效的夹紧部件，保证了打磨的过程中部件始终处于旋转台的正中心，而且不会被打磨的摩擦力带飞，这样既保证了整体打磨的均匀性、提高打磨质量和部件的安全性。
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公开(公告)号：CN114214697A
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN202111062547.0
申请日：2021-09-10
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明涉及铝材氧化技术领域，且公开了一种铝合金阳极氧化电解液和阳极氧化系统工艺，包括一种铝合金阳极氧化电解液和一种铝合金阳极氧化系统工艺，本发明通过阳极氧化前必须检查导电铜座、导电铜铝块、挂具与导电梁接触处的导电状况，并经常打磨，阳极氧化前必须打开导电铜座的冷却水，并检查导电梁是否弯曲，弯曲的导电梁必须更换，氧化结束电后，行车挂钩才能挂上导电梁挂钩，中和时，型材应上下反倾斜移动，充分中和型材内孔中的残留碱液和去除表面挂灰，中和后的型材必须经二级水洗后,才能进入阳极氧化槽，中和后的型材应加强表面质量的检查，检查型材表面的砂面状况，是否有挂灰、毛刺、花斑、焊合线等表面缺陷，以便及时处理和返工。
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公开(公告)号：CN111701947B
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN202010580316.8
申请日：2020-07-23
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种半导体硅片超声和兆声清洗系统，包括对半导体硅片进行超声清洗和兆声清洗的清洗槽。本发明所述半导体硅片超声和兆声清洗系统通过先对半导体硅片进行超声清洗，再对其进行兆声清洗。进行超声清洗的超声清洗区，其声能主要是来源于兆声清洗区，超声清洗和兆声清洗同时进行，清洗效果好。本发明所述半导体硅片超声和兆声清洗系统能够在短时间内清洗掉半导体硅片表面附着的微粒，清洗效果好，清洗效率高，耗能少。
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