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公开(公告)号：CN119426277A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411342412.3
申请日：2024-09-25
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种半导体用高纯石英部件表面清理石墨治具及使用方法，该装置包括移动工作平台、机械手、石墨治具、激光仪和排尘装置，所述的可移动工作平台上设有石墨石墨治具，石墨治具一侧设有机械手，机械手工作端设有激光仪，激光仪两侧设有排尘装置，排尘装置包括排气口和进气口，所述的石墨治具上表面周边设有紫外光源。该处理方法可以保证使用部件表面的洁净度，无残膜及金属污染，同时可以提高部件的清洗效率，节约清洗的作业时间；采用激光清洗对高纯石英部件表面进行处理，可有效去除表面的残留物，减少传统工艺中化学浸泡的时间，降低部件清洗的损耗，提升部件的使用寿命，同时降低因密封表面过度腐蚀造成的漏气风险。
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公开(公告)号：CN118639185A
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202410858027.8
申请日：2024-06-28
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种高温去除OLED蒸镀设备有机膜的高温烘烤装置，主要包括加热系统、温度控制系统、台车、多风口设计、热泵、智能传感技术和定位传感器。加热系统采用加热镍铬电炉丝产生高温环境，温度控制系统确保烘箱内部温度自动控制，台车通过外部工字钢轨道运动，多风口设计提高温度均匀性，热泵提高能源效率，智能传感技术和定位传感器实现精准温度控制和台车自动定位。此外，还包括电磁场辅助烘烤和快速冷却系统。同时，本发明还提供一种清洗OLED蒸镀设备有机膜的方法，包括高压水洗、高温烘烤和自然冷却等步骤，过程中引入电磁场辅助烘烤和废水循环利用，降低能耗，提高效率。摘要附图展示了该装置的主要技术特征和结构。
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公开(公告)号：CN115537830B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202211147758.9
申请日：2022-09-19
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明涉及Open Mask清洗领域，具体为一种OLED蒸镀工艺Open Mask部件清洗设备，包括清洗箱，所述清洗箱内设置有超声波振板。本发明通过设置承载机构、升降机构、循环管、除垢箱和过滤箱，药水通过承载箱上的过滤网进入到承载箱内，与Open Mask接触，使得open mask部件表面的镀膜脱离，随后通过升降机构，将承载箱向上运动，进入到除垢箱内，在驱动电机的作用下，驱动承载箱进行旋转，在离心力的作用下，使得承载箱内脱离的镀膜通过排水孔排出，由于设置过滤网，使得脱离的镀膜无法穿过承载箱进入到清洗箱内与药水进行混合，而清洗箱内的药水可以自由通过过滤网，避免浸泡时镀膜对药水的污染，从而提高了药水对Open Mask的清洗效果，并且能延长药水的使用周期，节约药水量。
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公开(公告)号：CN117447239A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202310338015.8
申请日：2023-03-31
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种烧结陶瓷表面修补工艺及烘干设备，涉及到烧结陶瓷表面修补技术领域，包括S1；基材清洗；S2；喷砂；S3；一次清洗烘干；S4；一次熔射；S6；二次熔射；S7；重熔；S8；清洗烘烤。本工艺可对表面产生损耗的烧结陶瓷进行修补处理，并使得修补后的烧结陶瓷性能与原烧结陶瓷性能一致，使得损耗的烧结陶瓷得到回收利用，避免资源的浪费，同时降低了生产成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117299692A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311262332.2
申请日：2023-09-27
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种半导体硅部件粗表面清洗装置和方法，该装置包括工作台、喷枪和控制装置，所述的控制装置包括踏板、热风机和干冰机，所述热风机和干冰机通过管道与喷枪连接；所述喷枪包括热风出口和干冰出口，其余空间填充隔热材料，本装置通过热风和干冰颗粒先后通过管道经由喷枪喷射到部件表面，部件表面沉积的膜质污染物经高温后极冷，产生开裂和变形，再经干冰颗粒喷射撞击，从而脱落；本发明通过设计新的清洗装置、改善清洗药水配方，达到提升清洗效率和清洗效果的目的。
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公开(公告)号：CN117181694A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202310633952.6
申请日：2023-05-31
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种Faceplate部件清洗装置及清洗药水配方，涉及到半导体设备清洗技术领域，包括安装在支撑底座上的纯水罐、药水罐和清洗罐：还包括动力件，用于分别单独将会所述纯水罐和所述药水罐内的药水和纯水注入所述清洗罐中并带动所述清洗罐内的液体进行快速上下往返流动，以实现对清洗部件进行连续冲刷。本装置可对部件进行快速地来回冲刷，大大缩短了来回冲刷间隔时间，使得顽固杂质快速脱落，同时也大大缩短了药水清洗时间，且本动力件可分别对纯水罐内的纯水和药水罐中的药水进行部件的冲刷操作，无需安装多个驱动电机、动力缸以及其相关部件，可减小成本。
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公开(公告)号：CN116641014A
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202310623986.7
申请日：2023-05-30
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种含氟耐腐蚀涂层的制备工艺，步骤包括受入、遮蔽、喷砂、熔射、去遮蔽和清洗包装。通过开发大气等离子喷涂的工艺参数，制备的含氟耐腐蚀涂层具有涂层孔隙低（2%）、结合力高（12Mpa）、硬度大（480HV）、含氧量低等优势，在刻蚀腔体核心设备表面（主要是铝制品）与卤素特别是含有氟基的等离子体反应，表面生成AlF‑、AlF2‑、AlF3等副产物，复合涂层表面的氟化铝可以更好的起到反应阻挡，因此具有更好的耐等离子性，本次使用氟化铝粉末，氟化铝难溶于水、酸及碱溶液，不溶于大部分有机溶剂，也不溶于氢氟酸及液体氟化氢，性质非常稳定，与液氨、甚至浓硫酸加热至发烟仍不起反应，与氢氧化钾共熔无变化，也不被氢气还原，加热不分解，但升华。
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公开(公告)号：CN116631838A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310623981.4
申请日：2023-05-30
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , B08B3/08 , B08B3/02 , B08B3/12 , B24C1/08 , C11D1/831 , C11D3/04 , C11D3/20 , C11D3/60
Abstract: 本发明公开了本发明的一种干刻设备熔射部品的清洗方法，包括纯水浸泡、化学清洗、纯水浸泡、喷砂、高压水洗、超声清洗、干燥步骤。通过无尘布覆盖药液和选用低硬度砂材喷砂相结合的方式，在不伤及原熔射涂层的前提下有效去除熔射涂层表面刻蚀副产物。本申请清洗后部品无需重新等离子喷涂，降低刻蚀机台维护成本，且清洗所需工艺设备简单易操作，清洗速度快，所需时间周期短。
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公开(公告)号：CN115463888A
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN202211128247.2
申请日：2022-09-16
Applicant: 安徽富乐德科技发展股份有限公司
Abstract: 本发明涉及Open Mask清洗领域，具体为一种Open Mask清洗装置，包括清洗箱和密封盖，所述清洗箱外侧壁固定联通有导入管，所述清洗箱侧壁转动连接有密封门，所述清洗箱内固定连接有超声波振板，所述清洗箱内设置有循环机构，所述循环机构包括四个存储箱，所述存储箱对称固定连接在清洗箱内侧壁上，所述清洗箱内侧内槽中对称固定连接有第一滑杆。本发明通过设置循环机构和推动机构，可以不断循环过滤清洗箱内的药水，将药水进行过滤，将药水中的镀膜从药水中进行去除，从而提高药水的清洗能力，提高清洗效果，同时当药水进行过滤后，可自上而下对open mask部件表面进行冲洗，将open mask部件表面粘附的镀膜冲洗干净，从而提高open mask部件质量。
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